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마이크로웨이브 플라즈마 토치가 장착된 순환 유동층 플라즈마 가스화 장치에 있어서,플라즈마 토치(21)가 중앙축에 설치되어 상부로 플라즈마화염(26)을 공급하고, 일측으로는 유동화기체공급관(25)이 연통되어 가장자리의 상부로 유동화기체를 공급하는 도입챔버(20)와;상기 도입챔버의 상부 중심에 형성되어 하단으로부터 플라즈마화염을 공급받고 상단은 배출챔버(40) 내에 위치하도록 설치된 제1가스화챔버(31)와, 상기 제1가스화챔버를 내포하고 하단으로부터 유동화기체를 공급받는 제2가스화챔버(32)와, 상기 제2가스화챔버와 하부 도입챔버를 구획하는 분산판(33)과, 상기 제2가스화챔버 일측에 연통되어 분산판 상부로 연료가 적층되도록 공급하는 연료공급관(34)과, 상기 제2가스화챔버와 제1가스화챔버의 하단을 연통시켜 제2가스화챔버에 적재된 연료를 일정량씩 제1가스화챔버로 공급되도록 하는 연료공급연통부(35)와, 제2가스화챔버의 상부 일측에는 가스화된 합성가스를 배출시키는 제2합성가스배출구(36)가 형성된 이중관인 반응챔버(30)와;상기 반응챔버 상부에 형성되고 반응챔버로부터 연장돌출된 제1가스화챔버(31)의 상단에 장착되어 수직이동한 가스화물질을 양측으로 하향배출시키는 챔버캡(41)과, 일측 상부에 형성되어 가스화물질 중 합성가스를 배출시키는 제1합성가스배출구(42)와, 상기 제2가스화챔버와 공간을 구획하면서 상기 가스화물질 중 고체성분을 제2가스화챔버로 배출시키도록 중심부분이 제1가스화챔버 외면과 일정거리 이격된 원뿔구획판(43)이 형성된 배출챔버(40);를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 가스화장치
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마이크로웨이브 플라즈마 토치가 장착된 순환 유동층 플라즈마 가스화 장치에 있어서,플라즈마 토치(21)가 중앙축에 설치되어 상부로 플라즈마화염(26)을 공급하고, 일측으로는 유동화기체공급관(25)이 연통되어 가장자리의 상부로 유동화기체를 공급하고, 상기 플라즈마 토치의 플라즈마화염 발생구간에 연료를 공급하는 연료공급관(27)이 연통된 도입챔버(20)와;상기 도입챔버의 상부 중심에 형성되어 하단으로부터 플라즈마화염을 공급받고 상단은 배출챔버(40) 내에 위치하도록 설치된 제1가스화챔버(31)와, 상기 제1가스화챔버를 내포하고 하단으로부터 유동화기체를 공급받는 제2가스화챔버(32)와, 상기 제2가스화챔버와 하부 도입챔버를 구획하는 분산판(33)과, 상기 제2가스화챔버와 제1가스화챔버의 하단을 연통시켜 제2가스화챔버에 적재된 연료를 일정량씩 제1가스화챔버로 공급되도록 하는 연료공급연통부(35)와, 제2가스화챔버의 상부 일측에는 가스화된 합성가스를 배출시키는 제2합성가스배출구(36)가 형성된 이중관인 반응챔버(30)와;상기 반응챔버 상부에 형성되고 반응챔버로부터 연장돌출된 제1가스화챔버(31)의 상단에 장착되어 수직이동한 가스화물질을 양측으로 하향배출시키는 챔버캡(41)과, 일측 상부에 형성되어 가스화물질 중 합성가스를 배출시키는 제1합성가스배출구(42)와, 상기 제2가스화챔버와 공간을 구획하면서 상기 가스화물질 중 고체성분을 제2가스화챔버로 배출시키도록 중심부분이 제1가스화챔버 외면과 일정거리 이격된 원뿔구획판(43)이 형성된 배출챔버(40);를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 가스화장치
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제1항 또는 제2항에 있어서,상기 플라즈마 토치(21)는, 상기 제1가스화챔버와 연통되도록 수직배관되고 하부로부터 플라즈마발생가스를 공급받는 플라즈마발생관(22)과; 상기 플라즈마발생관의 중간 일부분을 내포하도록 교차설치되고, 교차된 부분으로 마이크로웨이브를 고밀도 응집시켜 플라즈마발생가스를 해리시키고, 플라즈마 방전에 의해 플라즈마 화염을 형성시키는 도파관(23);을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 가스화장치
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제3항에 있어서,상기 플라즈마발생관(22)에는 공기-산소 공급관(222) 또는 스팀공급관(223)이 더 연결되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 가스화장치
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제2가스화챔버(32)의 유동화기체로는 공기 또는 산소 또는 스팀을 사용하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 가스화장치
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제1항 또는 제2항에 있어서,상기 제1가스화챔버(31) 또는 제2가스화챔버(32) 또는 제1가스화챔버(31)와 제2가스화챔버(32)의 내벽에는 환형으로 돌출된 환형돌출부(37)를 축방향으로 다수 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 가스화장치
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제1항 또는 제2항에 있어서,상기 배출챔버의 원뿔구획판(43)은 중앙단부로부터 하향으로 관부(431)를 더 연장시켜 관부와 제1가스화챔버 사이에 협소구간이 형성되어 배출챔버와 제2가스화챔버의 합성가스가 서로 유통되는 것을 최소화한 것을 특징으로 하는 플라즈마 가스화장치
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