1 |
1
i) 3차원 수산화인회석 구조체 표면에 칼슘 성분을 코팅하는 단계; ⅱ) 상기 칼슘 성분이 코팅된 3차원 수산화인회석 구조체를 소성하는 단계; ⅲ) 상기 소성된 3차원 수산화인회석 구조체를 반응장치 내부에 도입하는 단계; ⅳ) 상기 반응장치의 내부에 비활성 이송가스를 공급하여 내부 분위기를 조성하는 단계;ⅴ) 상기 반응장치의 온도를 합성온도까지 올리는 단계;ⅵ) 상기 반응장치의 내부에 반응가스를 공급하는 단계; 및 ⅶ) 이송가스 분위기 하에서 상기 반응장치를 상온까지 냉각시키는 단계;를 포함하는 흑연쉘로 둘러싸인 나노와이어 기반의 3차원 수산화인회석 구조체의 합성방법
|
2 |
2
제1항에 있어서, 상기 3차원 수산화인회석 구조체는 폼(foam), 매쉬(mesh) 또는 크로스(cloth) 형태인 것을 특징으로 하는 흑연쉘로 둘러싸인 나노와이어 기반의 3차원 수산화인회석 구조체의 합성방법
|
3 |
3
제1항에 있어서, 상기 i) 단계에서, 상기 3차원 수산화인회석 구조체의 표면에 칼슘 성분이 딥 코팅(dip coating) 또는 스프레이 코팅(spray coating)의 수용액 이용방식을 통하여 코팅되는 것을 특징으로 하는 흑연쉘로 둘러싸인 나노와이어 기반의 3차원 수산화인회석 구조체의 합성방법
|
4 |
4
제3항에 있어서, 상기 수용액이 질산칼슘(calcium nitrate), 탄산칼슘(calcium carbonate), 옥살산칼슘(calcium oxalate), 염화칼슘(calcium chloride), 수산화칼슘(calcium hydroxide) 중 어느 하나 이상의 칼슘 성분을 포함하는 것을 특징으로 하는 흑연쉘로 둘러싸인 나노와이어 기반의 3차원 수산화인회석 구조체의 합성방법
|
5 |
5
제3항에 있어서, 상기 수용액 내 칼슘 성분의 농도가 0
|
6 |
6
제1항에 있어서, 상기 i) 단계에서, 상기 3차원 수산화인회석 구조체의 표면에 칼슘 성분이 E-beam evaporator 코팅 또는 ALD(atomic layer deposition) 코팅의 고체 타겟 이용방식을 통하여 코팅되는 것을 특징으로 하는 흑연쉘로 둘러싸인 나노와이어 기반의 3차원 수산화인회석 구조체의 합성방법
|
7 |
7
제6항에 있어서, 상기 고체 타켓이 칼슘, 산화칼슘(calcium oxide) 또는 탄산칼슘(calcium carbonate)인 것을 특징으로 하는 흑연쉘로 둘러싸인 나노와이어 기반의 3차원 수산화인회석 구조체의 합성방법
|
8 |
8
제6항에 있어서, 코팅되는 칼슘 성분의 두께가 1~200 nm 인 것을 특징으로 하는 흑연쉘로 둘러싸인 나노와이어 기반의 3차원 수산화인회석 구조체의 합성방법
|
9 |
9
제1항에 있어서, 상기 ⅱ) 단계의 소성 온도가 400~700 ℃ 인 것을 특징으로 하는 흑연쉘로 둘러싸인 나노와이어 기반의 3차원 수산화인회석 구조체의 합성방법
|
10 |
10
제9항에 있어서, 상기 ⅱ) 단계의 소성 시, 산소의 농도가 불활성 기체 기준으로 1~ 20 vol% 인 것을 특징으로 하는 흑연쉘로 둘러싸인 나노와이어 기반의 3차원 수산화인회석 구조체의 합성방법
|
11 |
11
제9항에 있어서, 상기 ⅱ) 단계의 소성은 1~4 시간 동안 진행되는 것을 특징으로 하는 흑연쉘로 둘러싸인 나노와이어 기반의 3차원 수산화인회석 구조체의 합성방법
|
12 |
12
제1항에 있어서, 상기 ⅲ) 단계에서, 균일한 반응을 위해 소성된 3차원 수산화인회석 구조체가 도입되는 반응장치가 수직로 형태인 것을 특징으로 하는 흑연쉘로 둘러싸인 나노와이어 기반의 3차원 수산화인회석 구조체의 합성방법
|
13 |
13
제1항에 있어서, 상기 ⅴ) 단계의 합성온도는 700~1000℃인 것을 특징으로 하는 흑연쉘로 둘러싸인 나노와이어 기반의 3차원 수산화인회석 구조체의 합성방법
|
14 |
14
제1항에 있어서, 상기 ⅵ) 단계에서 공급되는 반응가스가 탄소 소스 반응가스를 포함하며, 상기 탄소 소스 반응가스가 아세틸렌, 에틸렌, 에탄, 프로판, 메탄 중 어느 하나 이상을 포함하는 기상의 지방족(aliphatic) 탄화수소 분자, 또는 벤젠, 나프탈렌, 안트라센, 페난트린, 파이렌 중 어느 하나 이상을 포함하는 기상의 방향족(aromatic) 탄화수소 분자를 포함하는 것을 특징으로 하는 흑연쉘로 둘러싸인 나노와이어 기반의 3차원 수산화인회석 구조체의 합성방법
|
15 |
15
제14항에 있어서, 상기 탄소 소스 반응가스가 흑연쉘을 생성하기 위한 흑연 조각(graphite fragments)으로 사용되는 것을 특징으로 하는 흑연쉘로 둘러싸인 나노와이어 기반의 3차원 수산화인회석 구조체의 합성방법
|
16 |
16
제14항에 있어서, 상기 탄소 소스 반응가스의 농도는 비활성 이송가스 내 0
|
17 |
17
제1항에 있어서, 상기 ⅵ) 단계에서 공급되는 반응가스가 인 소스 반응가스를 포함하며,상기 인 소스 반응가스가 포스핀(phosphine) 가스를 포함하는 것을 특징으로 하는 흑연쉘로 둘러싸인 나노와이어 기반의 3차원 수산화인회석 구조체의 합성방법
|
18 |
18
제1항에 있어서,상기 ⅵ) 단계에서 공급되는 반응가스는 규소 소스 반응가스를 포함하며,상기 규소 소스 반응가스가 실란(silane) 가스를 포함하는 것을 특징으로 하는 흑연쉘로 둘러싸인 나노와이어 기반의 3차원 수산화인회석 구조체의 합성방법
|
19 |
19
제1항에 있어서, 상기 ⅵ) 단계에서 공급되는 반응가스는 수소가스를 포함하며,상기 수소가스의 공급량을 조절하여 기상의 칼슘 성분의 농도를 제어하는 것을 특징으로 하는 흑연쉘로 둘러싸인 나노와이어 기반의 3차원 수산화인회석 구조체의 합성방법
|
20 |
20
제19항에 있어서, 상기 수소가스의 공급량이 20 Vol% 이하인 것을 특징으로 하는 흑연쉘로 둘러싸인 나노와이어 기반의 3차원 수산화인회석 구조체의 합성방법
|
21 |
21
제1항에 있어서, 상기 ⅵ) 단계의 반응가스 공급시간이 1분 ~ 4시간인 것을 특징으로 하는 흑연쉘로 둘러싸인 나노와이어 기반의 3차원 수산화인회석 구조체의 합성방법
|
22 |
22
제1항 내지 제 21항 중 어느 한 항의 방법에 의하여 합성된 흑연쉘로 둘러싸인 나노와이어 기반의 3차원 수산화인회석 구조체
|
23 |
23
제22항에 있어서,상기 나노와이어의 지름은 5~100nm, 길이는 10nm~10㎛이며, 상기 흑연쉘의 두께는 1~10nm인 것을 특징으로 하는 흑연쉘로 둘러싸인 나노와이어 기반의 3차원 수산화인회석 구조체
|