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반도체 배기가스 내 아산화질소의 촉매 제거 방법

  • 기술번호 : KST2015153699
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 철이온이 함침된 제올라이트 촉매를 포함하는 촉매 반응기를 사용하여 반도체 제조 공정, 특히 플라즈마 반웅기와 같이 함불소 가스를 다량 사용하는 반도체 또는 디스플레이 소자의 제조 과정에서 배출되는 배기가스 중에서 아산화질소를 저감시키는 방법에 관한 것으로, 배출되는 배기가스 중에 포함되는 아산화질소의 양에 따라 환원제를 선택적으로 주입 및 촉매 반응기로의 공급조건을 제어함으로써, 효율적으로 아산화질소를 제거할 수 있는 방법에 관한 것이다. 구체적으로는, 반도체 공정 배기가스 중의 아산화질소의 농도를 측정하는 제1 단계; 및 상기 제1 단계에서 측정된 아산화질소의 농도 범위가 200ppm 미만인 경우에는, 상기 촉매 반응기 내에서 아산화질소의 분해반응이 수행되는 제2-1단계; 또는 상기 제2 단계에서 측정된 아산화질소의 농도가 200ppm 이상인 경우에는, 상기 배기가스를 촉매 반응기에 공급하면서 동시에 추가적으로 환원제인 암모니아 가스를 공급하여 상기 촉매 반응기 내에서 아산화질소의 분해 및 환원반응이 동시에 수행되는 제2-2단계;를 포함하는 것을 특징으로 하며, 배기가스 중의 아산화질소의 농도를 미리 혹은 지속적으로 모니터링하여, 아산화질소의 농도 수준에 따라 적절하게 배기가스의 분해조건을 변경함으로써, 최적의 아산화질소 제거 효율을 제시하면서 동시에 경제적으로 제거 유닛을 운전할 수 있는 효과가 있다.
Int. CL B01D 53/56 (2006.01) B01D 53/90 (2006.01) B01D 53/86 (2006.01) B01D 53/30 (2006.01)
CPC B01D 53/86(2013.01) B01D 53/86(2013.01) B01D 53/86(2013.01)
출원번호/일자 1020140016573 (2014.02.13)
출원인 한국에너지기술연구원
등록번호/일자 10-1522277-0000 (2015.05.15)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20150521) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.02.13)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 전상구 대한민국 대전 서구
2 이승재 대한민국 대전 유성구
3 유인수 대한민국 대전 유성구
4 문승현 대한민국 대전 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 윤병국 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***길, **, *층 (대치동, 삼호빌딩)(지성국제특허법률사무소)
2 이영규 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***길, **, *층 (대치동, 삼호빌딩)(지성국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2014.02.13 수리 (Accepted) 1-1-2014-0141968-64
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2014.06.27 수리 (Accepted) 1-1-2014-0603531-30
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2014.12.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.10 수리 (Accepted) 4-1-2015-0013224-83
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2015.03.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2015-0013840-65
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2015.03.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0167180-83
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2015.03.20 수리 (Accepted) 1-1-2015-0275862-11
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2015.03.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0275863-67
9 등록결정서
Decision to grant		 2015.05.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0311906-13
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.01.19 수리 (Accepted) 4-1-2017-5010650-13
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.01.08 수리 (Accepted) 4-1-2019-5004978-55
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166801-48
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166803-39
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2020-5197654-62
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번호 청구항
1 1
촉매를 사용하여 반도체 공정 배기가스로부터 아산화질소를 제거하는 방법에 있어서, 반도체 공정 배기가스 중의 아산화질소(N2O) 농도를 측정하는 제1 단계; 및상기 제1 단계에서 측정된 아산화질소의 농도 범위가 200ppm 미만인 경우에는, 상기 배기가스를 360~460 ℃의 온도의 범위로 촉매 반응기에 공급하고, 상기 배기가스의 촉매 반응기내 공간 속도를 2000~25000 hr-1의 범위로 유지시켜 상기 촉매 반응기 내에서 아산화질소의 분해반응이 수행되는 제2-1단계; 또는 상기 제1 단계에서 측정된 아산화질소의 농도가 200ppm 이상인 경우에는, 상기 배기가스를 360~460 ℃의 온도의 범위로 촉매 반응기에 공급하고, 추가적으로 환원제인 암모니아 가스를 100~300 ppm의 농도로 공급하며, 상기 배기가스의 촉매 반응기내 공간 속도를 2000~25000 hr-1의 범위로 유지시켜 상기 촉매 반응기 내에서 아산화질소의 분해 및 환원반응이 동시에 수행되는 제2-2단계;를 포함하는, 철이온이 함침된 제올라이트 촉매를 사용하여 반도체 배기가스로부터 아산화질소를 제거하는 방법
2 2
제1항에 있어서,상기 촉매 반응기에 사용되는 촉매는 철이온이 함침된 제올라이트 촉매이고, (A) Al2O3/SiO2 몰(mole)비가 5 ~ 100인, BEA, MFI, MOR 및 FER 으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나 이상의 제올라이트를 질소 분위기에서 수증기를 0
3 3
제2항에 있어서, 상기 제올라이트 내의 양이온은, 나트륨, 암모늄 및 수소로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나 이상인 것 중에서 선택되는, 철이온이 함침된 제올라이트 촉매를 사용하여 반도체 배기가스로부터 아산화질소를 제거하는 방법
4 4
제2항에 있어서, 상기 철 질산염 수화물(Fe(NO3)3·9H2O)의 농도는 0
5 5
제2항에 있어서,상기 제올라이트에 함침되는 철이온의 양을 제어하기 위해, 상기 (B) 단계와 (C) 단계를 복수회 반복하는 것을 특징으로 하는, 철이온이 함침된 제올라이트 촉매를 사용하여 반도체 배기가스로부터 아산화질소를 제거하는 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 환경부 한국에너지기술연구원 글로벌탑 환경기술개발사업 고/저농도 N2O 저감 촉매 및 통합 처리 공정 개발