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실리콘 기판 제조 장치

  • 기술번호 : KST2015153851
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 실리콘 기판 제조 장치가 개시된다.본 발명의 일 실시예에 따른 실리콘 기판 제조 장치는 상면부, 상기 상면부에서 하 방향으로 연장된 측면부 및 상기 측면부 중 어느 하나의 일면에 대해 예각의 기울기를 갖는 경사부를 갖는 도가니부 및 상기 경사부를 마주하는 측면부에 수직 방향으로 연장된 제 1 주조부 및 상기 경사부와 결합되며 상기 제 1 주조부와 평행하게 연장된 제 2 주조부를 포함하는 주조부를 포함할 수 있다.
Int. CL H01L 31/18 (2014.01) C01B 33/021 (2014.01) H01L 31/04 (2014.01)
CPC H01L 31/1804(2013.01) H01L 31/1804(2013.01) H01L 31/1804(2013.01)
출원번호/일자 1020120035454 (2012.04.05)
출원인 한국에너지기술연구원
등록번호/일자 10-1201494-0000 (2012.11.08)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20121114) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.04.05)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이진석 대한민국 대전 유성구
2 장보윤 대한민국 대전 유성구
3 김준수 대한민국 대전 유성구
4 안영수 대한민국 대전 유성구
5 위성민 대한민국 대전 중구
6 이예능 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 임상엽 대한민국 서울특별시 성동구 광나루로 ***, *층 ***호 (성수동*가, 서울숲IT캐슬)(지반특허법률사무소)
2 고영갑 대한민국 경기도 성남시 분당구 정자일로 ***, 파크뷰 타워 ***호 (정자동)(가람특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.04.05 수리 (Accepted) 1-1-2012-0273083-11
2 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2012.04.23 수리 (Accepted) 1-1-2012-0321979-64
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2012.05.07 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2012-0361759-53
4 서류반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document		 2012.05.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2012-0057398-69
5 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2012.05.14 수리 (Accepted) 1-1-2012-0383551-79
6 우선심사신청관련 서류제출서
Submission of Document Related to Request for Accelerated Examination		 2012.05.14 수리 (Accepted) 1-1-2012-0383558-98
7 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2012.06.04 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
8 서류반려통지서
Notice for Return of Document		 2012.06.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2012-0072252-10
9 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2012.06.18 수리 (Accepted) 9-1-2012-0046878-86
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.06.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0354217-12
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.08.16 수리 (Accepted) 1-1-2012-0655564-19
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2012.08.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0655573-20
13 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2012.10.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0603840-11
14 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2012.10.22 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2012-0856422-59
15 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.10.22 수리 (Accepted) 1-1-2012-0856286-35
16 등록결정서
Decision to Grant Registration		 2012.11.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0669812-67
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.07 수리 (Accepted) 4-1-2014-5003356-15
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.10 수리 (Accepted) 4-1-2015-0013224-83
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.01.19 수리 (Accepted) 4-1-2017-5010650-13
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.01.08 수리 (Accepted) 4-1-2019-5004978-55
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166801-48
22 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166803-39
23 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2020-5197654-62
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
상면부, 상기 상면부에서 하 방향으로 연장된 측면부 및 상기 측면부 중 어느 하나의 일면에 대해 예각의 기울기를 갖는 경사부를 갖는 도가니부; 및상기 경사부를 마주하는 측면부에 수직 방향으로 연장된 제 1 주조부 및 상기 경사부와 결합되며 상기 제 1 주조부와 평행하게 연장된 제 2 주조부를 포함하는 주조부를 포함하며, 상기 경사부의 끝단은 상기 경사부를 마주하는 측면부의 수직 방향으로 연장된 연장선과 접하고,상기 도가니부는 제 1 도가니부와 제 2 도가니부를 포함하고,상기 제 1 도가니부는 상면부, 상기 상면부에서 하 방향으로 연장된 측면부, 상기 측면부에 수직방향으로 연장된 하면부 및 상기 하면부와 평행한 방향으로 일측에 관통된 제 1 토출부를 갖고, 상기 제 2 도가니부는 상기 제 1 도가니부의 내측에 끼움 결합되며, 상기 제 1 도가니부의 상면부의 상면에 대해 예각의 기울기를 갖고 상기 하면부에 연결된 제 2 경사부를 갖는 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조 장치
2 2
제 1항에 있어서,상기 제 1 주조부의 일단부의 상면은 상기 경사부를 마주하는 측면부의 끝단과 접하는 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조 장치
3 3
제 1항에 있어서,상기 경사부는 상기 경사부를 마주하는 측면부보다 하방향으로 길이가 긴 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조 장치
4 4
삭제
5 5
제 1항에 있어서,상기 도가니부는 실리콘카바이드(SiC) 또는 질화실리콘(Si3N4)으로 코팅되는 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조 장치
6 6
제 1항에 있어서,상기 주조부는 상기 제 1 주조부와 상기 제 2 주조부 사이에 주조 공간이 형성되는 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조 장치
7 7
제 6항에 있어서,상기 주조부의 일측에서 상기 주조 공간으로 삽입되는 더미바를 포함하고,상기 더미바의 재질은 단결정 물질인 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조 장치
8 8
삭제
9 9
제 1항에 있어서,상기 제 1 도가니부의 재질은 흑연인 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조 장치
10 10
제 1항에 있어서,상기 제 2 도가니부의 재질은 쿼츠인 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조 장치
11 11
제 1항에 있어서,상기 도가니부는 상기 도가니부의 상부를 관통하는 주입구를 갖는 주입부 포함하고,상기 주입부에 실리콘 원료를 공급하는 원료 공급부; 및상기 주입부에 가스를 공급하는 가스 공급부를 더 포함하고,상기 주입부에 상기 실리콘 원료와 상기 가스가 선택적으로 공급되는 실리콘 기판 제조 장치
12 12
하면부와 평행한 방향으로 일측에 관통된 토출부를 갖는 도가니부;상기 도가니부의 토출부와 평행한 방향으로 상기 토출부로부터 연장되며, 실리콘 기판이 형성되는 주조 공간을 갖는 주조부;상기 주조부의 외측에서 상기 주조 공간으로 삽입되는 더미바; 상기 더미바에 체결 가능한 더미바 체결부; 및상기 주조 공간에서 액상의 실리콘 용탕이 외부의 대기가 접촉하는 것을 방지하도록 상기 더미바 및 상기 더미바 체결부의 외측을 밀폐시키는 차폐부를 포함하며,상기 도가니부 내부의 단면적은 하 방향으로 작아지는 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조 장치
13 13
삭제
14 14
제 12항에 있어서,상기 도가니부는 제 1 도가니부와 제 2 도가니부를 포함하고,상기 제 1 도가니부는 실리콘 원료가 장입되는 원료 주입부 및 상기 하면부와 평행한 방향으로 일측에 관통된 제 1 토출부를 갖고, 상기 제 2 도가니부는 상기 제 1 도가니부와 대응되는 형상을 갖고, 상기 제 1 도가니부의 내측에 끼움 결합되며,상기 제 2 도가니부 내부의 단면적은 하 방향으로 작아지는 것을 특징으로 하는 실리콘 하는 기판 제조 장치
15 15
제 12항에 있어서,밀폐된 공간을 제공하는 메인 챔버를 더 포함하고,상기 도가니부는 상기 메인 챔버 내에 설치되며, 상측을 관통하는 원료 주입구를 갖는 원료 주입부 및 상기 원료 주입구와 소정 간격으로 이격되며 상측을 관통하는 가스 주입구를 갖는 가스 주입부를 포함하고,상기 메인 챔버 상측에 배치되며 실리콘 원료물질이 저장되는 원료 공급몸체부, 상기 원료 공급몸체부와 상기 원료 주입부를 연결하는 원료 공급관 및 상기 원료 공급관의 개폐를 제어하는 제 1 밸브를 포함하는 원료 공급부; 및비활성 가스를 상기 도가니부 내에 공급하는 가스 공급부를 더 포함하는 실리콘 기판 제조 장치
16 16
제 15항에 있어서,상기 가스 공급부에서 비활성 가스를 공급하여 상기 메인 챔버와 상기 도가니부를 동시에 가압하는 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조 장치
17 17
제 16항에 있어서,상기 가스 공급부는상기 비활성 가스를 발생시키거나 비활성 가스를 저장하는 공간을 제공하는 가스 발생부;상기 가스 발생부 및 상기 가스 주입부와 연결하는 가스 공급관; 및상기 가스 발생부와 상기 가스 공급관 사이에 배치되는 제 2 밸브를 포함하는 실리콘 기판 제조 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한국에너지기술연구원 신재생에너지기술개발사업 태양전지용 실리콘 기판 직접제조기술 개발