맞춤기술찾기

이전대상기술

피셔­트롭쉬 액화공정용 합성가스 제조공정에 사용되는메탄 자열개질촉매 및 이를 이용한 메쉬형 촉매층, 그리고이를 이용한 피셔­트롭쉬용 합성가스 제조방법

  • 기술번호 : KST2015153894
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 피셔-트롭쉬 액화공정용 합성가스 제조공정에 사용되는 메탄 자열개질촉매 및 이를 이용한 메쉬형 촉매층, 그리고 이를 이용한 피셔-트롭쉬용 합성가스 제조방법에 관한 것으로, 그 주된 목적은 주된 반응으로 메탄 또는 천연가스를 부분산화반응하고 부가되는 반응으로 수증기개질반응과 (역)수성가스전이반응(reverse) water gas shift reaction, (R)WGS에 의해 수소와 일산화탄소로 전환하면서, 피셔-트롭쉬 공정(Fischer-Tropsch Process)에 적합한 수소와 일산화탄소 비율(H2/CO≒2)을 얻는데 필요한 촉매 및 촉매층과 이를 이용한 반응조건을 제시하는 데 있다. 본 발명의 구성은 고표면적 알루미나 담체와, 촉매 전체 무게 대비 팔라듐 금속 2~4wt%로 조성된 피셔-트롭쉬 액화공정용 합성가스 제조 촉매 및 이 촉매를 메쉬형 금속판을 불규칙 유로를 유발하면서 원하는 촉매양에 따라 용이하게 그 수의 조절이 가능한 형태로 적층한 촉매층, 그리고 이를 이용한 합성가스 제조방법을 그 기술적 사상의 특징으로 한다.
Int. CL B01J 23/44 (2006.01.01) B01J 21/04 (2006.01.01) C01B 3/38 (2006.01.01) B01J 37/08 (2006.01.01) B01J 37/34 (2006.01.01)
CPC B01J 23/44(2013.01) B01J 23/44(2013.01) B01J 23/44(2013.01) B01J 23/44(2013.01) B01J 23/44(2013.01)
출원번호/일자 1020070111383 (2007.11.02)
출원인 한국에너지기술연구원, 대림산업 주식회사, 에스케이이노베이션 주식회사, 두산메카텍 주식회사, 현대엔지니어링 주식회사, 한국석유공사
등록번호/일자 10-0927105-0000 (2009.11.09)
공개번호/일자 10-2009-0045519 (2009.05.08) 문서열기
공고번호/일자 (20091113) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.11.02)
심사청구항수 10

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 대림산업 주식회사 대한민국 서울특별시 종로구
3 에스케이이노베이션 주식회사 대한민국 서울특별시 종로구
4 두산메카텍 주식회사 대한민국 경상남도 창원시 성산구
5 현대엔지니어링 주식회사 대한민국 서울특별시 종로구
6 한국석유공사 대한민국 울산광역시 중구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 주현규 대한민국 대전광역시 서구
2 구경모 대한민국 충남 아산시
3 김학주 대한민국 대전 유성구
4 윤재경 대한민국 대전 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 최영규 대한민국 서울특별시 금천구 가산디지털*로 ***, B동 ***호 새천년 국제특허법률사무소 (가산동, 우림 라이온스밸리)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 현대엔지니어링 주식회사 대한민국 서울특별시 종로구
3 에스케이이노베이션 주식회사 대한민국 서울특별시 종로구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2007.11.02 수리 (Accepted) 1-1-2007-0789035-70
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2008.08.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2008.09.11 수리 (Accepted) 9-1-2008-0056871-18
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2009.02.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0081685-36
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.03.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0178622-76
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2009.03.25 수리 (Accepted) 1-1-2009-0178614-11
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2009.07.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0310726-26
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.07.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0468550-56
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2009.07.30 수리 (Accepted) 1-1-2009-0468540-00
10 등록결정서
Decision to grant
2009.11.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0458202-40
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.02.09 수리 (Accepted) 4-1-2010-5023909-84
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.01.05 수리 (Accepted) 4-1-2011-5002365-44
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.01.06 수리 (Accepted) 4-1-2011-5003468-16
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.01.04 수리 (Accepted) 4-1-2012-5001923-88
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.02.13 수리 (Accepted) 4-1-2012-5031054-64
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.11.05 수리 (Accepted) 4-1-2012-5230479-11
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.11.06 수리 (Accepted) 4-1-2012-5231776-45
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2012-5249714-91
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.04 수리 (Accepted) 4-1-2013-5001839-85
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.08 수리 (Accepted) 4-1-2013-5003664-38
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.02 수리 (Accepted) 4-1-2013-5052752-96
22 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2013-5055126-49
23 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.06.27 수리 (Accepted) 4-1-2013-0028555-51
24 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.08.27 수리 (Accepted) 4-1-2013-5117115-80
25 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.12.20 수리 (Accepted) 4-1-2013-5172685-16
26 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.12.20 수리 (Accepted) 4-1-2013-5172686-51
27 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.07 수리 (Accepted) 4-1-2014-5003356-15
28 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.27 수리 (Accepted) 4-1-2014-5025517-85
29 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2014-5057853-05
30 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.10 수리 (Accepted) 4-1-2015-5018929-52
31 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.10 수리 (Accepted) 4-1-2015-0013224-83
32 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.04.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5050753-64
33 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.19 수리 (Accepted) 4-1-2017-5010650-13
34 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.01.08 수리 (Accepted) 4-1-2019-5004978-55
35 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5102900-82
36 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166803-39
37 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166801-48
38 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.12.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5260828-53
39 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.12.12 수리 (Accepted) 4-1-2019-5263004-74
40 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2020-5197654-62
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
피셔-트롭쉬 액화공정용 합성가스(H2/CO≒2) 제조를 위한 메탄 자열개질용 촉매에 있어서, 비표면적이 100m2/g 보다 큰 알루미나담체와; 담체와 촉매 전체 촉매 무게 대비 팔라듐 2 ~ 4wt%로 조성되어 소성된 것을 특징으로 하는 피셔-트롭쉬 액화공정용 합성가스 제조공정에 사용되는 메탄 자열개질촉매
2 2
제 1항에 있어서, 상기 알루미나담체는 감마 알루미나(γ-alumina)인 것을 특징으로 하는 피셔-트롭쉬 액화공정용 합성가스 제조공정에 사용되는 메탄 자열개질촉매
3 3
제 1항에 있어서, 상기 소성 조건은 공기 분위기에서 650 ~ 900℃에서 수행된 것을 특징으로 하는 피셔-트롭쉬 액화공정용 합성가스 제조공정에 사용되는 메탄 자열개질촉매
4 4
피셔-트롭쉬 액화공정용 합성가스(H2/CO≒2) 제조를 위해, 고온단열재(13)로 단열된 자열개질반응기 케이스(14)의 내부 전단부에 기동장치인 전기가열기(10)를 설치하고, 전기가열기(10) 후단부에 촉매층을 장착하고, 전기가열기 전단부에 설치한 열전쌍(T1)과; 상기 전기가열기와 워시코트된 촉매층 사이에 열전쌍(T2)과; 워시코트된 메쉬형 촉매층 후단부에 설치된 열전쌍(T3)을 더 포함하여 구성한 자열개질반응기에 사용되는 촉매층 구조에 있어서, 상기 촉매층은 전기가열기(10) 밑단 공간부에 일정간격 이격된 지점의 자열개질반응기 케이스(14) 내부에서 상향 절곡된 지지대(12)를 적어도 2개 이상 설치하고, 이 지지대에 상기 1항 내지 3항 중 어느 한 항에 따른 팔라듐이 담지된 촉매가 워시코트된 다수개의 메쉬형 금속판을 적층하여 구성한 메쉬형 촉매층(11)으로 구성한 것을 특징으로 하는 피셔-트롭쉬 액화공정용 합성가스 제조공정에 사용되는 메탄 자열개질촉매를 이용한 메쉬형 촉매층
5 5
제 4항에 있어서, 상기 메쉬형 촉매층(11)을 구성하는 메쉬형 금속판은 팔라듐이 담지된 촉매가 메쉬 금속판 총량의 15 ~ 20 wt%가 워시코트된 것을 특징으로 하는 피셔-트롭쉬 액화공정용 합성가스 제조공정에 사용되는 메탄 자열개질촉매를 이용한 메쉬형 촉매층
6 6
제 4항에 있어서, 상기 메쉬형 촉매층(11)을 구성하는 메쉬형 금속판은 50 ~ 100마이크로미터두께의 합금판으로 1000℃ 내외에서 변질이 안되는 합금판으로 구성된 것을 특징으로 하는 피셔-트롭쉬 액화공정용 합성가스 제조공정에 사용되는 메탄 자열개질촉매를 이용한 메쉬형 촉매층
7 7
제 4항에 있어서, 상기 메쉬형 촉매층(11)을 구성하는 메쉬형 금속판 면적 오프닝%는 60 ~ 70%인 것을 사용한 것을 특징으로 하는 피셔-트롭쉬 액화공정용 합성가스 제조공정에 사용되는 메탄 자열개질촉매를 이용한 메쉬형 촉매층
8 8
제 4항에 있어서, 상기 메쉬형 촉매층(11)을 구성하는 메쉬형 금속판은 상하로 이웃하는 메쉬형 금속판의 메쉬 구멍이 수직한 유로를 이루지 않고 불규칙 유로를 가지게 배치되도록 적층한 것을 특징으로 하는 피셔-트롭쉬 액화공정용 합성가스 제조공정에 사용되는 메탄 자열개질촉매를 이용한 메쉬형 촉매층
9 9
피셔-트롭쉬 액화공정용 합성가스(H2/CO≒2) 제조를 위해, 고온단열재(13)로 단열된 자열개질반응기 케이스(14)의 내부 전단부에 기동장치인 전기가열기(10)를 설치하고, 전기가열기(10) 후단부에 촉매층을 장착하고, 전기가열기 전단부에 설치한 열전쌍(T1)과; 상기 전기가열기와 워시코트된 촉매층 사이에 열전쌍(T2)과; 워시코트된 메쉬형 촉매층 후단부에 설치된 열전쌍(T3)을 더 포함하여 구성한 자열개질반응기를 구비하여, 산소 또는 공기 중의 하나 그리고 스팀이 별도의 공급라인에서 공급되는 메탄 또는 천연가스 중의 하나와 혼합하는 단계와; 기동을 위한 모노리스형태의 전기가열기를 가열하는 단계와; 이후 산소 또는 공기 중의 하나, 스팀 그리고 메탄 또는 천연가스 중의 하나가 혼합된 반응기체를, 팔라듐이 100m2/g 보다 큰 비표면적을 갖는 알루미나에 담지된 촉매(PdO/Al2O3)가 워시코트된 다수개의 메쉬형 금속판이 적층되어 충전된 메쉬형 촉매층에 공급하여 촉매부분산화반응하는 단계와; 상기 촉매부분산화반응이후, 촉매부분산화, 스팀개질반응 그리고 수성가스전이반응이 외부의 에너지 공급 없이 지속되어 피셔-트롭쉬 액화반응에 최적인 비율로 수소와 일산화탄소를 생산하는 단계로 이루어지되, 상기 촉매부분산화반응에 공급하는 메탄 또는 천연가스는 메쉬 촉매층 후단의 열전대(T3) 온도가 200℃ ~ 250℃ 영역에 도달했을 시점에 주입되도록 구성하는 것을 특징으로 하는 피셔-트롭쉬 액화공정용 합성가스 제조공정에 사용되는 메탄 자열개질촉매를 이용한 피셔-트롭쉬용 합성가스 제조방법
10 10
제 9항에 있어서, 상기 촉매부분산화반응하는 단계는 메쉬형 촉매층(11)에 적층된 메쉬 금속판의 적층 숫자를 조절하여 촉매량을 조절함으로써 촉매부분산화반응을 제어하는 것을 특징으로 하는 피셔-트롭쉬 액화공정용 합성가스 제조공정에 사용되는 메탄 자열개질촉매를 이용한 피셔-트롭쉬용 합성가스 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업자원부 한국에너지기술연구원 온실가스저감사업 천연가스로부터 FT합성용 합성가스의 제조기술개발