맞춤기술찾기

이전대상기술

금속산란막을 갖는 후면전극과 이를 이용한 태양전지 및 이들의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015153999
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 후면전극이 이중층으로 구성된 CIGS 박막 태양전지에 관한 것으로, 태양전지 후면전극의 제조방법에 있어서, 기판(100)위에 후면전극(200)을 형성시키는 단계(s100); 상기 후면전극(200) 위에 금속산란막(210)을 형성시키는 단계(s200)를 포함하는 것을 특징으로 하여, 태양광의 광흡수층 내에서의 광경로가 증가시킴으로써 광-전기 변환의 효율을 극대화시킨 것이다.
Int. CL H01L 31/18 (2006.01) H01L 31/04 (2014.01) H01L 31/0224 (2006.01)
CPC H01L 31/035218(2013.01) H01L 31/035218(2013.01) H01L 31/035218(2013.01) H01L 31/035218(2013.01) H01L 31/035218(2013.01) H01L 31/035218(2013.01)
출원번호/일자 1020130074939 (2013.06.27)
출원인 한국에너지기술연구원
등록번호/일자 10-1557020-0000 (2015.09.24)
공개번호/일자 10-2015-0001906 (2015.01.07) 문서열기
공고번호/일자 (20151002) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.06.27)
심사청구항수 6

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 어영주 대한민국 대전 유성구
2 조준식 대한민국 대전 유성구
3 박주형 대한민국 대전 유성구
4 윤경훈 대한민국 대전 유성구
5 안세진 대한민국 대전 유성구
6 곽지혜 대한민국 대전 서구
7 윤재호 대한민국 대전 중구
8 조아라 대한민국 서울 관악구
9 신기식 대한민국 대전 유성구
10 안승규 대한민국 대전 유성구
11 유진수 대한민국 서울 노원구
12 박상현 대한민국 대전 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한상수 대한민국 서울시 서초구 효령로**길 ** *층 (브릿지웰빌딩)(에이치앤피국제특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.06.27 수리 (Accepted) 1-1-2013-0579597-99
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.07 수리 (Accepted) 4-1-2014-5003356-15
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.05.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0363321-32
4 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.07.25 수리 (Accepted) 1-1-2014-0706153-12
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.08.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0809127-73
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.08.26 수리 (Accepted) 1-1-2014-0809126-27
7 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2015.01.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0065070-00
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.10 수리 (Accepted) 4-1-2015-0013224-83
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.03.30 수리 (Accepted) 1-1-2015-0311086-32
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.03.30 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2015-0311087-88
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2015.08.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0587130-40
12 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2015.09.11 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2015-0886515-58
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.09.11 수리 (Accepted) 1-1-2015-0886514-13
14 등록결정서
Decision to Grant Registration
2015.09.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0644655-79
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.19 수리 (Accepted) 4-1-2017-5010650-13
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.01.08 수리 (Accepted) 4-1-2019-5004978-55
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166801-48
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166803-39
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2020-5197654-62
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
태양전지 후면전극의 제조방법에 있어서, 기판(100) 위에 황동(Brass)으로 구성되는 후면전극(200)을 형성시키는 단계(s1000);상기 후면전극(200) 위에 두께가 5-10μm인 금속산란막(210)을 형성시키는 단계(s2000);를 포함하며,상기 후면전극(200) 위에 금속산란막(210)을 형성시키는 단계(s2000)에서 상기 금속산란막(210)은 은, 카드뮴, 알루미늄, 아연, 인듐, 주석, 납, 안티몬, 비스무스, 마그네슘 중 선택된 하나 이상의 금속 입자들로 구성되고, 상기 후면전극(200) 위에 금속산란막(210)을 형성시키는 단계(s200)에서, 상기 금속입자들을 스퍼터링, 음극아크증착, 증기증착, 전자빔증착, 화학기상증착, 원자층증착, 전기화학적증착, 분사코팅, 닥터블레이드코팅, 스크린 프린트, 잉크젯 코팅, 열증착법, 전자선증착법, 전착법, 도금법 중에서 적어도 어느 하나의 방법으로 증착시켜 금속산란막(210)을 형성시키며,상기 금속산란막(210)을 레이저 스크라이빙(laser scribing) 공법으로 규칙적인 10nm-900nm 직경의 문양을 갖도록 패터닝 하여 형성시키는 것을 특징으로 하는 금속산란막을 갖는 후면전극의 제조방법
2 2
삭제
3 3
제 1항에 있어서, 상기 후면전극(200)은 상기 기판(100) 위에 스퍼터링, 음극아크증착, 증기증착, 전자빔증착, 화학기상증착, 원자층증착, 전기화학적증착, 분사코팅, 닥터블레이드코팅, 스크린 프린트, 잉크젯 코팅, 열증착법, 전자선증착법, 전착법, 도금법스퍼터링, 열증착법, 전자선증착법, 전착법, 도금법 중에서 적어도 어느 하나의 방법을 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 금속산란막을 갖는 후면전극의 제조방법
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
삭제
7 7
삭제
8 8
삭제
9 9
삭제
10 10
태양전지의 제조방법에 있어서,(i) 기판(100)을 준비하는 단계(s100);(ii) 상기 기판 위에 두께가 5-10μm인 금속산란막(210)을 가지며, 황동(Brass)으로 구성되는 후면전극층(200)을 형성하는 단계(s200);(iii) 후면전극층(200) 위에 구리, 인듐, 갈륨, 셀레늄을 포함하여 구성되는 CIGS 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s300);(iv) 상기 광흡수층(300) 위에 CdS, ZnS, InOH 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 버퍼층(400)을 형성하는 단계(s400);(v) 상기 버퍼층(400) 위에 산화아연, 산화갈륨, 산화알루미늄, 산화인듐, 산화납, 산화구리, 산화티탄, 산화주석, 산화철, 이산화주석, 인듐주석산화물 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 전면전극층(500)을 형성하는 단계(s500);를 포함하는 것에 있어서, 상기 (ii) 상기 기판 위에 후면전극층(200)을 형성하는 단계(s200)는 제 1항 또는 제 3항의 방법을 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지의 제조방법
11 11
태양전지의 후면전극에 있어서, 태양전지의 기판(100) 위에 황동(Brass)으로 구성되는 후면전극(200)은 상기 후면전극(200) 상에 형성되는 두께가 5-10μm인 금속산란막(210)을 포함하며,상기 금속산란막(210)은 은, 카드뮴, 알루미늄, 아연, 인듐, 주석, 납, 안티몬, 비스무스, 마그네슘 중 선택된 하나 이상의 금속 입자들로 구성되고,상기 금속산란막(210)은, 금속입자들을 스퍼터링, 음극아크증착, 증기증착, 전자빔증착, 화학기상증착, 원자층증착, 전기화학적증착, 분사코팅, 닥터블레이드코팅, 스크린 프린트, 잉크젯 코팅, 열증착법, 전자선증착법, 전착법, 도금법 중에서 적어도 어느 하나의 방법으로 증착시켜 형성되며,상기 금속산란막(210)이 규칙적인 10nm-900nm 직경의 문양을 갖도록 레이저 스크라이빙(laser scribing) 공법으로 패터닝된 것임을 특징으로 하는 금속산란막을 갖는 후면전극
12 12
삭제
13 13
제 11항에 있어서,상기 후면전극(200)은 상기 기판(100) 위에 스퍼터링, 음극아크증착, 증기증착, 전자빔증착, 화학기상증착, 원자층증착, 전기화학적증착, 분사코팅, 닥터블레이드코팅, 스크린 프린트, 잉크젯 코팅, 열증착법, 전자선증착법, 전착법, 도금법스퍼터링, 열증착법, 전자선증착법, 전착법, 도금법 중에서 적어도 어느 하나의 방법을 이용하여 형성된 것임을 특징으로 하는 금속산란막을 갖는 후면전극
14 14
삭제
15 15
삭제
16 16
삭제
17 17
삭제
18 18
삭제
19 19
삭제
20 20
태양전지에 있어서,기판(100)과, 상기 기판(100) 위에 황동(Brass)으로 구성되는 후면전극층(200)과, 상기 후면전극층(200) 위에 형성되는 광흡수층(300)과, 상기 광흡수층(300) 위에 형성되는 버퍼층(400)과, 상기 버퍼층(400) 위에 형성되는 전면전극층(500)을 포함하는 것에 있어서, 상기 후면전극층(200)은 제 11항 또는 제 13항의 후면전극으로 구성되며, 상기 광흡수층(300)은 구리, 인듐, 갈륨, 셀레늄을 포함하여 구성되는 CIGS 광흡수층인 것을 특징으로 하는 태양전지
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한국에너지기술연구원 한국에너지기술연구원주요사업 플렉서블 박막 태양전지 고효율화 기술개발