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태양전지의 후면전극의 제조방법에 있어서, 태양전지의 투명기판(100)을 준비하는 단계(s1000);상기 투명기판(100) 위에 산화아연, 산화갈륨, 산화알루미늄, 산화인듐, 산화납, 산화구리, 산화티탄, 산화주석, 산화철, 이산화주석, 인듐주석산화물 및 이들 중 2 이상의 물질의 산화물 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 후면투명전극층(200)을 형성시키는 단계(s2000);후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s3000);를 포함하며,상기 후면투명전극층(200)을 형성시키는 단계(s2000)에서의 상기 후면투명전극층(200)은 RF 마그네트론 스퍼터링, DC 마그네트론 스퍼터링, MF 마그네트론 스퍼터링, 열증발법, 전자빔증발법, 열분무법 중 선택되는 하나의 방법을 선택하여 증착되는 것임을 특징으로 하는 광투과 후면전극의 제조방법
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제 1항에 있어서, 후면투명전극층(200)을 형성시키는 단계(s2000)에서의 상기 투명기판(100)은 유리 또는 플라스틱 중 선택되는 하나의 재질로 구성된 것임을 특징으로 하는 광투과 후면전극의 제조방법
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제 1항에 있어서, 후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s3000)의 상기 광흡수층(300)은 CIGS(Cu(InGa)Se2), CdTs(Cadmium-Telluride), 결정질실리콘, 비결정질실리콘 중 선택된 하나 이상의 물질로 구성되는 것을 특징으로 하는 광투과 후면전극의 제조방법
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제 1항에 있어서, 후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s3000)는 CIGS계 전구체 화합물을 스핀코팅(Spin coating), 딥코팅(Dip coating), 스프레이코팅(Spray coating), 닥터블레이드코팅(Dr
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제 1항에 있어서, 후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s3000)는 CIGS계 전구체 화합물을 E-beam 증착법(Electron beam evaporation), 전자빔 이온 플레이팅(Electron Beam Ion plating), 스퍼터링(Suppertering), 스퍼터링 이온 플레이팅 시스템(Suppertering Ion plating System), 레이저 분자빔 증착법(Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스 레이저 증착법 (Pulsed Laser Deposition), 저항 가열식 증착법(Thermal evaporation), 이온 어시스트 증착법(Ion-Assist Deposition) 중 선택되는 적어도 어느 하나의 방법으로 증착하여 코팅하는 것임을 특징으로 하는 광투과 후면전극의 제조방법
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태양전지의 후면전극에 있어서,제1항, 제2항 및 제4항 내지 제6항 중 선택되는 어느 한 항의 방법으로 제조되는 것을 특징으로 하는 광투과 후면전극
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태양전지의 제조방법에 있어서,태양전지의 투명기판(100)을 준비하는 단계(s100);태양전지의 투명기판(100) 위에 후면투명전극층(200)을 형성시키는 단계(s200);후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s300);상기 광흡수층(300) 위에 CdS, ZnS, InOH 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 버퍼층(400)을 형성하는 단계(s400);상기 버퍼층(400) 위에 산화아연, 산화갈륨, 산화알루미늄, 산화인듐, 산화납, 산화구리, 산화티탄, 산화주석, 산화철, 이산화주석, 인듐주석산화물 및 이들 중 2 이상의 물질의 산화물 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 투명전극층(500)을 형성하는 단계(s500);를 포함하며,상기 태양전지의 투명기판(100) 위에 후면투명전극층(200)을 형성시키는 단계(s200)에서의 상기 후면투명전극층(200)은 산화아연, 산화갈륨, 산화알루미늄, 산화인듐, 산화납, 산화구리, 산화티탄, 산화주석, 산화철, 이산화주석, 인듐주석산화물 및 이들 중 2 이상의 물질의 산화물 중에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하고,상기 후면투명전극층(200)은 RF 마그네트론 스퍼터링, DC 마그네트론 스퍼터링, MF 마그네트론 스퍼터링, 열증발법, 전자빔증발법, 열분무법 중 하나의 방법을 선택하여 증착되는 것임을 특징으로 하는 광투과 후면전극을 이용한 태양전지의 제조방법
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제 8항에 있어서, 태양전지의 투명기판(100) 위에 후면투명전극층(200)을 형성시키는 단계(s200)에서의 상기 투명기판(100)은 유리 또는 플라스틱 중 선택되는 하나의 재질로 구성된 것임을 특징으로 하는 광투과 후면전극을 이용한 태양전지의 제조방법
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제 8항에 있어서, 후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s300)의 상기 광흡수층(300)은 CIGS(Cu(InGa)Se2), CdTs(Cadmium-Telluride), 결정질실리콘, 비결정질실리콘 중 선택된 하나 이상의 물질로 구성되는 것을 특징으로 하는 광투과 후면전극을 이용한 태양전지의 제조방법
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제 8항에 있어서, 후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s300)는 CIGS계 전구체 화합물을 스핀코팅(Spin coating), 딥코팅(Dip coating), 스프레이코팅(Spray coating), 닥터블레이드코팅(Dr
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제 8항에 있어서, 후면투명전극층(200) 위에 광흡수층(300)을 형성하는 단계(s300)는 CIGS계 전구체 화합물을 E-beam 증착법(Electron beam evaporation), 전자빔 이온 플레이팅(Electron Beam Ion plating), 스퍼터링(Suppertering), 스퍼터링 이온 플레이팅 시스템(Suppertering Ion plating System), 레이저 분자빔 증착법(Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스 레이저 증착법 (Pulsed Laser Deposition), 저항 가열식 증착법(Thermal evaporation), 이온 어시스트 증착법(Ion-Assist Deposition) 중 선택되는 적어도 어느 하나의 방법으로 증착하여 코팅하는 것임을 특징으로 하는 광투과 후면전극을 이용한 태양전지의 제조방법
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기판과, 기판위에 형성되는 후면전극과, 후면전극위에 형성되는 광흡수층과, 광흡수층 위에 형성되는 버퍼층과, 버퍼층 위에 형성되는 투명전극층을 갖는 태양전지에 있어서, 제8항, 제9항 및 제12항 내지 제14항 중 선택되는 어느 한 항의 제조방법에 의해 제조되는 후면전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 광투과 후면전극을 이용한 태양전지
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