1 |
1
실리콘 용탕을 저장하는 실리콘 용융부: 및상기 실리콘 용융부의 실리콘 용탕을 공급받아 상기 실리콘 용탕을 응고시키는 일방향 응고부를 포함하고,상기 일방향 응고부는 외측에 배치된 복수의 냉각유로부를 갖고,상기 복수의 냉각유로부 중 적어도 어느 하나의 냉각유로부의 유로 폭은 나머지 유로 폭보다 큰 실리콘의 정련 장치
|
2 |
2
제 1항에 있어서,상기 적어도 어느 하나의 냉각유로부는 상기 일방향 응고부의 외측 상부에 배치되는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
|
3 |
3
제 1항에 있어서,상기 일방향 응고부는상기 일방향 응고부의 중심을 기준으로 상측의 냉각유로부에 연결되는 제 1 유체공급부와상기 일방향 응고부의 중심을 기준으로 하측의 냉각유로부에 연결되는 제 2 유체공급부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
|
4 |
4
제 1항에 있어서,상기 일방향 응고부는구리 재질을 가지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
|
5 |
5
제 1항에 있어서,상기 일방향 응고부의 상단부의 단면적은상부 방향으로 증가하는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
|
6 |
6
제 1항에 있어서,상기 실리콘 용융부는 외측에 배치되며, 유체가 흐르는 유로부를 포함하고,상기 유로부는 복수 개의 슬릿에 의해 형성된 복수의 유로를 포함하는 제 1 유로부와 상기 제 1 유로부에 연장되고, 상기 복수의 유로가 서로 연결되어 하나의 유로를 형성하는 제 2 유로부를 포함하는 실리콘의 정련 장치
|
7 |
7
제 1항에 있어서,상기 실리콘 용융부의 제 1 채널부와 상기 일방향 응고부의 제 2 채널부가 서로 접하여 이루어진 연결탕로부를 포함하고,상기 연결탕로부는 상기 제 1 채널부와 상기 제 2 채널부로 이루어진 채널의 폭이 상기 실리콘 용탕이 이송되는 방향에 따라 좁아지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
|
8 |
8
제 1항에 있어서,상기 실리콘 용융부의 제 1 채널부와 상기 일방향 응고부의 제 2 채널부가 서로 접하여 이루어진 연결탕로부를 포함하고,상기 연결탕로부의 중심축은 원료 공급부의 투입구의 중심축과 다른 위치에 있는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
|
9 |
9
실리콘 용탕을 저장하는 실리콘 용융부: 및상기 실리콘 용융부의 실리콘 용탕을 공급받아 상기 실리콘 용탕을 응고시키는 일방향 응고부를 포함하고,상기 일방향 응고부는 외측에 설치된 유체가 흐르는 제 1 냉각유로부와 제 2 냉각유로부를 포함하고,상기 제 1 냉각유로부에 흐르는 유체의 유량은 상기 제 2 냉각유로부에 흐르는 유체의 유량보다 많은 실리콘의 정련 장치
|
10 |
10
제 9항에 있어서,상기 제 1 냉각유로부는 상기 일방향 응고부의 외측 상부에 배치되는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
|
11 |
11
제 9항에 있어서,상기 실리콘 용융부는 각 외측에 배치된 각각의 유로부를 포함하고,인접한 상기 유로부들은 상기 실리콘 용융부의 내부를 관통하여 서로 공간적으로 연결되는 실리콘의 정련장치
|
12 |
12
제 9항에 있어서,상기 실리콘 용융부는 외측에 배치된 복수의 유로부를 갖고,상기 복수의 유로부 중 적어도 어느 하나의 유로부의 유로 폭은 나머지 유로부의 유로 폭보다 큰 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
|
13 |
13
제 9항에 있어서,상기 실리콘 용융부는 제 1 채널부를 갖고,상기 제 1 채널부와 접하여 연결탕로부를 형성하는 제 2 채널부를 갖는 일방향 응고부; 및상기 실리콘 용융부에 실리콘 원료물질을 공급하는 원료 공급부를 포함하고,상기 원료 공급부의 투입구는 상기 실리콘 용융부에 실리콘 원료물질이 공급되는 위치에서 용융되어 상기 연결탕로부로 이동하는 경로가 가장 최대가 되도록 상기 실리콘 용융부 상부에 배치되는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
|