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평행판 영역과;상기 평행판 영역의 제 1벽을 따라 배치되는 다수(多數)의 빔포트와;상기 평행판 영역의 제 2벽을 따라 배치되는 다수의 배열포트와; 그리고상기 다수의 빔포트와 배열포트 각각의 사이에 형성된 더미포트를 포함하여 구성된 마이크로스트립 초고주파 렌즈로서,상기 빔포트 및 배열포트 각각은 상기 평행판 영역과 일체로 연장된 테이퍼와, 상기 테이퍼의 중심축과 평행하게 상기 테이퍼의 길이 방향으로 연장되는 마이크로스트립 전송선로로 구성되고; 그리고상기 빔포트 및 배열포트 각각의 최외곽 포트는 그 테이퍼 중심축이 상기 평행판의 곡률과 예각을 이루도록 형성되고, 나머지 포트들은 그 테이퍼 중심축이 상기 평행판의 곡률과 수직을 이루도록 형성되는 것을 특징으로 하는 마이크로스트립 초고주파 렌즈
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평행판 영역과;상기 평행판 영역의 제 1벽을 따라 배치되는 다수의 빔포트와;상기 평행판 영역의 제 2벽을 따라 배치되는 다수의 배열포트와; 그리고상기 다수의 빔포트와 배열포트 중 적어도 두개의 빔포트 또는 배열포트를 제외한 나머지 포트 각각의 사이에 형성된 하나 이상의 더미포트를 포함하여 구성된 마이크로스트립 초고주파 렌즈로서,상기 빔포트 및 배열포트 각각은 상기 평행판 영역과 일체로 연장된 테이퍼와, 상기 테이퍼의 중심축과 평행하게 상기 테이퍼의 길이 방향으로 연장되는 마이크로스트립 전송선로로 구성되고;상기 제외된 적어도 두개의 빔포트 또는 배열포트 각각의 사이에는 상기 평행판 영역과 일체로 연장된 테이퍼와, 상기 테이퍼의 중심축과 평행하게 상기 테이퍼의 길이 방향으로 연장되는 전송선로로 구성된 점검포트가 형성되고; 그리고상기 점검포트의 양 옆에 인접한 빔포트 또는 배열포트의 상기 마이크로스트립 전송 선로부는 상기 테이퍼의 중심축 방향과 예각을 이루도록 형성된 것을 특징으로 하는 마이크로스트립 초고주파 렌즈
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제 2항에 있어서,상기 점검포트는 상기 다수의 빔포트 또는 배열포트 중 중앙에 위치한 두 빔포트 또는 배열포트 사이에 형성되어 균일 출력 특성을 가지는 것을 특징으로 하는 초고주파 렌즈
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평행판 영역과;상기 평행판 영역의 제 1벽을 따라 배치되는 다수의 빔포트와;상기 평행판 영역의 제 2벽을 따라 배치되는 다수의 배열포트와; 그리고상기 다수의 빔포트와 배열포트 중 적어도 두개의 빔포트 또는 배열포트를 제외한 나머지 포트 각각의 사이에 형성된 하나 이상의 더미포트를 포함하여 구성된 마이크로스트립 초고주파 렌즈로서,상기 빔포트 및 배열포트 각각은 상기 평행판 영역과 일체로 연장된 테이퍼와, 상기 테이퍼의 중심축과 평행하게 상기 테이퍼의 길이 방향으로 연장되는 마이크로스트립 전송선로로 구성되고;상기 제외된 적어도 두개의 빔포트 또는 배열포트 각각의 사이에는 상기 평행판 영역과 일체로 연장된 테이퍼와, 상기 테이퍼의 중심축과 평행하게 상기 테이퍼의 길이 방향으로 연장되는 전송선로로 구성된 점검포트가 형성되고;상기 점검포트의 양 옆에 인접한 빔포트 또는 배열포트의 상기 마이크로스트립 전송 선로부는 상기 테이퍼의 중심축 방향과 예각을 이루도록 형성되고; 그리고상기 빔포트 및 배열포트 각각의 최외곽 포트는 그 테이퍼 중심축이 상기 평행판의 곡률과 예각을 이루도록 형성되고, 나머지 포트들은 그 테이퍼 중심축이 상기 평행판의 곡률과 수직을 이루도록 형성되는 것을 특징으로 하는 마이크로스트립 초고주파 렌즈
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제 4항에 있어서,상기 점검포트는 상기 다수의 빔포트 또는 배열포트 중 중앙에 위치한 두 빔포트 또는 배열포트 사이에 형성되어 균일 출력 특성을 가지는 것을 특징으로 하는 마이크로스트립 초고주파 렌즈
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제 4항에 있어서,상기 점검포트는 상기 다수의 빔포트 또는 배열포트 중 중앙에 위치한 두 빔포트 또는 배열포트 사이에 형성되어 균일 출력 특성을 가지는 것을 특징으로 하는 마이크로스트립 초고주파 렌즈
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