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시료의 화학작용에 의해 독성가스를 발생시켜 배출하는 독성가스 발생수단;상기 독성가스 발생수단에 의해 배출되는 독성가스에 유체를 혼합하여 희석시키는 독성가스 희석수단;외부의 유체를 흡입하여 상기 독성가스 발생수단과 상기 독성가스 희석수단에 유체를 공급하는 유체공급수단;상기 독성가스의 희석 과정에 투입되는 표준가스를 공급하는 표준가스 공급수단;상기 독성가스 희석수단의 희석에 의해 제조된 가스를 사용하기 위해 포집하는 독성가스 포집수단;상기 독성가스 포집수단에 의해 포집되지 않은 독성가스를 여과시켜 배출하는 배출안전수단;을 포함하는 것을 특징으로 하는 미량의 농도를 가지는 독성가스 제조를 위한 가스 발생장치
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청구항 1에 있어서,상기 독성가스 발생수단은 내부에 시료를 저장하는 시료저장용기와, 상기 시료저장용기에 일정 유량의 유체를 투입시켜, 배출되는 독성가스의 유량을 조절하는 가스발생유량조절부와, 상기 가스발생유량조절부의 출구측에 구비되어, 상기 독성가스가 상기 가스발생유량조절부로 유입되지 않도록 하는 밸브로 구성된 것을 특징으로 하는 미량의 농도를 가지는 독성가스 제조를 위한 가스 발생장치
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청구항 2에 있어서,상기 시료는 가스이거나, 액체인 것을 특징으로 하는 미량의 농도를 가지는 독성가스 제조를 위한 가스 발생장치
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청구항 3에 있어서,상기 가스 시료는 독성가스를 투과시키는 투과성 튜브에 담겨지고, 상기 투과성 튜브는 상기 시료저장용기의 내부로 저장되며, 상기 시료저장용기는 상기 투과성 튜브에 유체를 투입하여 하부로 진행시키는 유량도입관과, 상기 유량도입관의 상부로 투입되어 상기 투과성 튜브를 투과하여 발생된 가스를 배출구로 배출시키는 가스배출관과, 상기 유량도입관과, 상기 가스배출관을 내부 공간에 위치시키는 외부하우징 및 상기 외부하우징의 내부 공간으로 특정 온도로 유지된 유체를 순환시키는 유체공급부로 구성된 것을 특징으로 하는 가스 미량의 농도를 가지는 독성가스 제조를 위한 가스 발생장치
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청구항 4에 있어서,상기 투과성 튜브는 PTFE(POLYTETRAFLUOROETHYLENE) 소재로 구성된 것을 특징으로 하는 미량의 농도를 가지는 독성가스 제조를 위한 가스 발생장치
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청구항 4에 있어서,상기 가스배출관은 상기 유량도입관의 하부로 가스를 배출하여 상기 유량도입관의 외측 둘레부를 따라 다수 회전하여 상부로 배출시키도록 구성된 것을 특징으로 하는 미량의 농도를 가지는 독성가스 제조를 위한 가스 발생장치
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청구항 3에 있어서,상기 액체시료는 상기 시료저장용기의 내부로 저장되며, 상기 시료저장용기는 독성가스를 발생시키는 액체시료를 저장하는 시료저장부와, 상기 시료저장부의 상부에서 반원 형상을 이루며 상기 시료저장부의 상부로 유체를 투입하는 유량도입관과, 상기 유량도입관과 대칭의 반원 형상을 이루며, 상부의 외부로 가스를 배출하는 가스배출관과, 상기 유량도입관과 상기 가스배출관을 내부 공간에 위치시키는 외부하우징과, 상기 시료저장용기에 저장된 액체 시료의 수면 위의 일측에 형성된 작은 관을 상기 외부하우징의 외부로 통하도록 연결되는 미세통로 및 상기 외부하우징의 내부 공간으로 특정 온도로 유지된 항온순환기에 의한 유체를 순환시키는 유체공급부로 구성된 것을 특징으로 하는 미량의 농도를 가지는 독성가스 제조를 위한 가스 발생장치
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청구항 1에 있어서,상기 독성가스 희석수단은 상기 독성가스 발생수단을 통해 배출된 독성가스를 1차 희석시키기 위한 유체의 유량을 조절하는 제1희석유량조절부와, 상기 1차 희석된 독성가스의 일부를 통과시키는 제1우회유로와, 상기 제1우회유로를 통해 유입된 상기 1차 희석 가스를 2차 희석시키기 위한 유체의 유량을 조절하는 제2희석유량조절부로 구성된 것을 특징으로 하는 미량의 농도를 가지는 독성가스 제조를 위한 가스 발생장치
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청구항 8에 있어서,상기 제2희석유량조절부의 출구측에는 공급 유체를 우회시키는 제2우회유로와, 상기 제2우회유로상에 설치되어 상기 공급 유체의 습도를 조절하는 증류수 저장용기와, 상기 제2우회유로로 투입되는 상기 공급 유체의 투입량을 조절하는 습도조절밸브가 더 포함된 것을 특징으로 하는 미량의 농도를 가지는 독성가스 제조를 위한 가스 발생장치
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청구항 8에 있어서,상기 제1우회유로는 1차 희석가스의 투입을 조절하는 혼합유량조절밸브와, 내부로 투입된 1차 희석가스의 유량을 조절하는 혼합유량조절부가 더 포함된 것을 특징으로 하는 미량의 농도를 가지는 독성가스 제조를 위한 가스 발생장치
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11
청구항 10에 있어서,상기 제1우회유로는 가스봄베로부터 표준가스가 공급되어 혼합시킬 수 있도록 하는 표준가스 공급유로와, 상기 표준가스 공급유로로 공급되는 표준가스의 투입을 조절하는 다방향 밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미량의 농도를 가지는 독성가스 제조를 위한 가스 발생장치
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12
청구항 1에 있어서,상기 독성가스 포집수단은 상기 독성가스 희석수단을 통해 최종 희석된 가스의 일부를 유입시키는 가스공급유로와, 상기 가스공급유로로 유입되는 가스의 유입을 조절하는 가스조절밸브로 구성된 것을 특징으로 하는 미량의 농도를 가지는 독성가스 제조를 위한 가스 발생장치
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13
청구항 12에 있어서,상기 가스공급유로로 배출되는 가스의 공급 유량을 조절하는 가스배출유량조절부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미량의 농도를 가지는 독성가스 제조를 위한 가스 발생장치
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청구항 13에 있어서,상기 가스공급유로로 유입된 가스의 일부를 유입하여, 가스의 농도를 측정하기 위한 장치로 투입시키기 위한 포집유량배출유로와, 상기 포집유량배출유로로 배출되는 가스의 유량을 조절하는 포집유량조절부가 더 포함된 것을 특징으로 하는 미량의 농도를 가지는 독성가스 제조를 위한 가스 발생장치
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청구항 1에 있어서,상기 배출안전수단은 상기 독성가스 희석수단을 통해 희석된 가스 중 상기 독성가스 포집수단으로 유입되지 않은 가스를 배출구를 통해 외부로 배출하는 가스배출유로와, 상기 가스배출유로의 출구측에 설치되는 여과장치로 구성된 것을 특징으로 하는 미량의 농도를 가지는 독성가스 제조를 위한 가스 발생장치
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청구항 15에 있어서,상기 가스배출유로는 내부로 통과하는 가스의 온도 또는 습도 중 어느 하나 이상을 측정하여 표시하는 측정수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미량의 농도를 가지는 독성가스 제조를 위한 가스 발생장치
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청구항 1에 있어서,상기 유체공급수단은 외부의 유체를 흡입하여 정화시키는 공기정화기와, 상기 공기정화기를 통해 정화된 유체를 다수로 분기시켜 상기 독성가스 발생수단과, 상기 독성가스 희석수단에 공급하도록 하는 공급유로로 구성된 것을 특징으로 하는 미량의 농도를 가지는 독성가스 제조를 위한 가스 발생장치
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시료저장용기의 저장된 시료에 의해 발생된 독성가스가 투과성 튜브를 투과하여 공급유체를 통해 배출되는 가스발생단계;상기 독성가스에 특정 유량의 공급유체를 혼합한 1차 희석가스로 희석시키는 1차 희석단계;상기 1차 희석가스의 일정량을 취출하고, 가스봄베로부터 공급되는 표준가스를 혼합하여 혼합표준가스가 생성되는 표준가스 혼합단계;상기 시료의 휘발성을 고려하고, 상기 혼합표준가스에 특정 유량의 상기 공급유체를 혼합하여 2차 희석가스로 혼합시키는 2차 희석단계;상기 2차 희석가스의 일정량을 취출하여 사용할 수 있도록 포집되는 2차 희석가스 취출 및 포집단계;로 이루어지는 미량의 농도를 가지는 독성가스 제조를 위한 가스 발생방법
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청구항 18에 있어서,상기 표준가스 혼합단계 후, 상기 시료의 휘발성이 작은 경우, 상기 혼합표준가스의 일정량을 취출하여 사용할 수 있도록 포집하는 혼합표준가스 취출 및 포집단계;를 수행하는 것을 특징으로 하는 미량의 농도를 가지는 독성가스 제조를 위한 가스 발생방법
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