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보론 입자, 용매 및 전구체를 혼합하여 공급하는 코어-쉘 물질 공급부,상기 코어-쉘 물질 공급부에서 공급된 보론 입자에 대해 습식 밀링으로 입자 코팅을 실행하는 입도 조절 및 코팅부,상기 습식 밀링에 의하여 코팅된 입자의 잔여물들을 처리하는 처리부,상기 입도 조절 및 코팅부에 불활성 기체를 공급하는 불활성 가스 공급부,상기 입도 조절 및 코팅부에서 불활성 기체를 배출하는 불활성 가스 배출부를 포함하고,상기 전구체는 TTIP(Titanium isopropoxide) 또는 지르코늄 테트라이소프로폭사이드(zirconium tetraisopropoxide)인 것을 특징으로 하는 보론 입자의 코팅장치
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제1항에 있어서,상기 습식 밀링은 텀블러 볼 밀(tumbler ball mill), 진동 밀(vibratory mill), 유성형 볼 밀(Planetary Micro Mill), 아트리토 밀(attritor mill), 로드 밀(Rod mill), 쉐이커 밀(shaker mill) 중의 어느 하나에 의해 실행되는 것을 특징으로 하는 보론 입자의 코팅장치
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제1항에 있어서,상기 용매는 헥산(hexane)인 것을 특징으로 하는 보론 입자의 코팅장치
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제1항에 있어서,상기 처리부는 상기 입도 조절 및 코팅부에서 코팅된 입자를 세척하는 초음파세척기, 상기 입도 조절 및 코팅부에서 코팅된 입자의 잔여물을 제거하는 원심분리기 및 초음파세척기에 의해 세척된 코팅된 입자를 건조시키는 건조기를 포함하는 것을 특징으로 하는 보론 입자의 코팅장치
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(a) 코어물질이 될 보론 입자, 습식 밀링 상태를 유지해 줄 용매 및 쉘을 위한 전구체를 혼합하여 공급하는 전처리 단계,(b) 상기 전처리 공정에 의해 실행된 보론 입자에 대해 습식 밀링으로 입자 코팅을 실행하는 단계,(c) 상기 습식 밀링에 의하여 코팅된 입자의 잔여물들을 처리하는 단계를 포함하고,상기 전구체는 TTIP(Titanium isopropoxide) 또는 지르코늄 테트라이소프로폭사이드(zirconium tetraisopropoxide)이고,상기 단계 (b)는 불활성 기체 중에서 밀링하여 보론의 산화막을 제거해줌과 동시에 보론의 입도를 조절하는 것을 특징으로 하는 보론 입자의 코팅방법
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제6항에 있어서,상기 단계 (b)는 상기 습식 밀링은 텀블러 볼 밀(tumbler ball mill), 진동 밀(vibratory mill), 유성형 볼 밀(Planetary Micro Mill), 아트리토 밀(attritor mill), 로드 밀(Rod mill), 쉐이커 밀(shaker mill) 중의 어느 하나에 의해 실행되는 것을 특징으로 하는 보론 입자의 코팅방법
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제6항에 있어서,상기 용매는 헥산(hexane)인 것을 특징 것을 특징으로 하는 보론 입자의 코팅방법
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제6항에 있어서,상기 단계 (b)에서 생성된 코어-쉘 나노입자는 보론-TiO2 또는 보론-ZrO2인 것을 특징으로 하는 보론 입자의 코팅방법
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