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조작자의 조작에 따라 동작되는 햅틱 디바이스와, 햅틱 디바이스를 제어하는 제어기와, 상기 제어기에 의해 제어되는 가상 환경을 갖는 다자유도 햅틱 시스템의 위치 왜곡 제어 방법에 있어서,투과 깊이의 증가에 따라 상기 햅틱 디바이스의 위치가 자유 공간에서 가상 환경으로 이동하는 가상 환경 이동 단계;가상 환경으로의 이동에 따라 상기 조작자에게 제공되는 힘이 나타나는 제 1 시간 동안 가상 환경단의 제 1 위치 왜곡이 발생하는 제 1 위치 왜곡 발생 단계;상기 투과 깊이의 감소에 따라 상기 햅틱 디바이스의 위치가 가상 환경으로부터 자유 공간으로 이동하는 자유 공간 이동 단계;자유 공간으로의 이동에 따라 상기 조작자에게 제공되는 힘이 소멸하는 제 2 시간 동안 상기 가상 환경단의 제 2 위치 왜곡이 발생하는 제 2 위치 왜곡 발생 단계;에너지 제한 알고리즘을 이용하여 상기 제 1 위치 왜곡 또는 제 2 위치 왜곡을 정의하는 위치 왜곡 정의 단계; 및 수동성 이론에 근거한 안정화 제어 법칙을 이용하여 정의된 위치 왜곡의 크기를 보정하는 보정 단계;를 포함하되,상기 투과 깊이는 상기 조작자의 조작에 따른 위치 변화를 거리로 나타낸 것으로서 가상 환경단과 동작되는 햅틱 다바이스의 위치간 차이인 것을 특징으로 하는 다자유도 햅틱 시스템의 위치 왜곡 제어 방법
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제 1 항에 있어서,상기 보정은, 상기 가상 환경단의 위치 변화량을 상기 안정화 제어 법칙에 삽입하여 수행하는 것을 특징으로 하는 다자유도 햅틱 시스템의 위치 왜곡 제어 방법
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제 2 항에 있어서,상기 보정에 대한 수행은 다음식(여기서, 이고, ΔE는 조작자가 가상환경과 접촉하며 움직일 때 가상 환경단의 위치 변화량이고, ΔD는 햅틱 디바이스의 위치 변화량이며, P는 투과 깊이이고, Fd는 조작자에게 제공되는 힘을 나타내고, Fe는 가상 환경단의 힘을 나타낸다)에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 다자유도 햅틱 시스템의 위치 왜곡 제어 방법
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제 1 항에 있어서,상기 가상 환경단의 위치 왜곡 정보는 다자유도 시스템에서 샘플링에 의한 가상 환경단의 위치 왜곡인 것을 특징으로 하는 다자유도 햅틱 시스템의 위치 왜곡 제어 방법
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 위치 왜곡의 크기는 다음식 (여기서, Ex1은 접촉시 환경단의 위치이고, Exp는 햅틱 디바이스가 가상 환경과 접촉 후 조작자에게 제공되는 힘이 처음으로 나타나는 위치를 나타낸다)에 의해 산출되는 것을 특징으로 하는 다자유도 햅틱 시스템의 위치 왜곡 제어 방법
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제 6 항에 있어서,힘이 처음 나타나는 위치(Exp)는 실제 환경단의 위치(Ex1)와 pDOE 크기만큼의 차이인 것을 특징으로 하는 다자유도 햅틱 시스템의 위치 왜곡 제어 방법
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제 1 항에 있어서,상기 제 2 위치 왜곡의 크기는 다음식 (여기서, Ex2는 탈출시 가상 환경단의 위치이고, Exd는 햅틱 디바이스가 가상 환경을 빠져나오려고 할 때 조작자에게 제공되는 힘이 없어지는 위치를 나타낸다)에 의해 산출되는 것을 특징으로 하는 다자유도 햅틱 시스템의 위치 왜곡 제어 방법
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제 8 항에 있어서,힘이 없어지는 위치(Exd)는 실제 환경단의 위치(Ex2)와 dDOE 크기만큼의 차이인 것을 특징으로 하는 다자유도 햅틱 시스템의 위치 왜곡 제어 방법
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