1 |
1
전류를 인가받아 빛을 발생시키는 광원부;상기 광원부로부터 발생되는 빛을 통과시키는 중공부를 구비하며, 전압이 인가되면 기계적 변형이 발생하는 압전소자;상기 압전소자에 상기 중공부의 적어도 일부를 가로막도록 장착되고, 상기 광원부로부터 발생되는 빛의 선폭을 감소시키도록, 입사되는 빛 중 적어도 일부를 회절시켜 상기 광원부로 피드백(feedback)시키고 다른 일부는 투과시켜 외부로 출력시키는 부피 홀로그래픽 격자;상기 광원부로부터 발생되는 빛이 통과되어 상기 빛을 평행광으로 변환시키는 시준렌즈;상기 광원부 및 상기 시준렌즈를 내부에 수용하도록 적어도 일측이 개방된 시준튜브;적어도 일측이 개방된 내부에서 상기 시준튜브가 슬라이드 이동 가능하도록 형성되는 제1 바디;상기 평행광이 상기 부피 홀로그래픽 격자로 입사되도록 일측에 상기 압전소자가 장착되고, 상기 부피 홀로그래픽 격자를 투과한 평행광이 통과되는 홀을 구비하는 제2 바디; 및상기 제1 및 제2 바디의 상대 위치를 조절하도록, 일측은 상기 제1 바디에 고정되고 타측은 상기 제2 바디에 삽입되어 상기 제1 및 제2 바디의 이격거리를 조절하는 조절부재를 포함하고,상기 부피 홀로그래픽 격자로 입사되는 빛의 입사각을 조절시키도록, 상기 부피 홀로그래픽 격자는, 상기 압전소자에 전압을 인가시킴에 따라 기울기 및 상기 광원부로부터의 이격거리가 변화되는 것을 특징으로 하는 외부 공진기형 반도체 레이저
|
2 |
2
삭제
|
3 |
3
삭제
|
4 |
4
제1항에 있어서,상기 제1 및 제2 바디에 적어도 일부가 삽입되어 회전가능하도록 곡면으로 이루어지는 회전부재를 더 포함하고,상기 부피 홀로그래픽 격자의 기울기가 조절되도록, 상기 회전부재는 상기 조절부재에 의해 상기 제1 및 제2 바디의 상대 위치가 조절됨에 따라, 상기 제1 바디 또는 제2 바디를 회전시키는 것을 특징으로 하는 외부 공진기형 반도체 레이저
|
5 |
5
제4항에 있어서,상기 제1 및 제2 바디의 상대 위치가 변동되는 것을 방지하도록, 상기 제1 및 제2 바디 사이에 연결되어, 상기 제1 및 제2 바디가 밀착되게 탄성력을 형성하는 탄성부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 외부 공진기형 반도체 레이저
|
6 |
6
제1항에 있어서,상기 시준튜브와 상기 부피 홀로그래픽 격자의 이격거리가 조절된 상태에서 상기 시준튜브를 고정하도록, 상기 제1 바디를 관통하여 상기 시준튜브를 가압하는 가압부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 외부 공진기형 반도체 레이저
|
7 |
7
제1항에 있어서,상기 시준튜브와 상기 부피 홀로그래픽 격자의 이격거리를 조절하도록, 상기 제1 바디를 관통하여 상기 시준튜브에 적어도 일부가 삽입되고, 상기 제1 바디의 내부에서 상기 시준튜브가 슬라이드 이동되는 방향을 따라 이동 가능하게 형성되는 고정부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 외부 공진기형 반도체 레이저
|