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비균등 광학소자가 적용된 적응광학 파면 보정장치

  • 기술번호 : KST2015156212
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 파면 보정장치의 입사측과 반사측에 각각 비균등 광학소자를 설치하여, 반사경으로 입사되는 입사광의 단면이 원형에 가깝도록 하는 비균등 광학소자가 적용된 적응광학 파면 보정장치에 관한 것이다.본 발명에 따른 비균등 광학소자가 적용된 적응광학 파면 보정장치는, 반사경으로 입사되는 불균일한 파면을 갖는 입사광을 균일한 파면을 갖는 반사광으로 변형시키는 파면 보정장치에 있어서, 상기 반사경(10)으로 입사광(20)이 입사되는 경로상에는 상기 입사광(20)이 상기 반사경(10)의 유효영역과 일치하게 입사되도록 상기 입사광(20)을 변형시키는 입사광 변형 수단(40)과, 상기 반사경(10)으로부터 반사된 반사광(30)을 복원시키는 반사광 변형 수단(50)을 포함한다.
Int. CL G02B 26/06 (2006.01)
CPC G05D 25/00(2013.01) G05D 25/00(2013.01)
출원번호/일자 1020140017428 (2014.02.14)
출원인 국방과학연구소
등록번호/일자 10-1541420-0000 (2015.07.28)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20150803) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.02.14)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 국방과학연구소 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유재은 대한민국 대전광역시 서구
2 김현숙 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 한양특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, 한양빌딩 (도곡동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 국방과학연구소 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.02.14 수리 (Accepted) 1-1-2014-0147875-56
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.12.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0873930-01
3 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.02.23 수리 (Accepted) 1-1-2015-0174788-49
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.02.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0174789-95
5 등록결정서
Decision to grant
2015.07.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0499551-61
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
반사경으로 입사되는 불균일한 파면을 갖는 입사광을 균일한 파면을 갖는 반사광으로 변형시키는 파면 보정장치에 있어서,상기 반사경으로 입사광이 입사되는 경로상에는 상기 입사광이 상기 반사경의 유효영역과 일치하게 입사되도록 상기 입사광을 상기 입사광의 광축에 대하여 입사광 진행방향의 수평한 방향으로는 광폭을 유지하고 수직한 방향으로 광폭이 커지도록 변형시키고, 상기 입사광 진행방향의 수직한 방향으로는 일정한 배율로 입사광을 변형시키는 입사광 변형 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 비균등 광학소자가 적용된 적응광학 파면 보정장치
2 2
제1항에 있어서,상기 입사광 변형 수단은 상기 입사광의 경로상에 설치되는 비균등 광학소자인 것을 특징으로 하는 비균등 광학소자가 적용된 적응광학 파면 보정장치
3 3
제1항에 있어서,상기 반사광이 반사되는 경로에는, 상기 입사광 변형 수단에 의해 변형된 반사광을 복원시키는 반사광 변형 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 비균등 광학소자가 적용된 적응광학 파면 보정장치
4 4
제3항에 있어서,상기 반사광 변형 수단은, 상기 반사광의 경로상에 설치되는 비균등 광학소자인 것을 특징으로 하는 비균등 광학소자가 적용된 적응광학 파면 보정장치
5 5
제4항에 있어서,상기 반사광 변형 수단은 상기 입사광 변형 수단과 동일한 광학소자인 것을 특징으로 하는 비균등 광학소자가 적용된 적응광학 파면 보정장치
6 6
제2항 또는 제4항에 있어서,상기 비균등 광학소자는, 실린더 렌즈(cylindrical lens), 토릭 렌즈(toric lens), 액체 렌즈, 빔 형상변형 반사경 중 어느 하나 인 것을 특징으로 하는 비균등 광학소자가 적용된 적응광학 파면 보정장치
7 7
제1항에 있어서,상기 입사광 변형 수단에 의해서 변형된 입사광의 광축에 대하여 입사광 진행방향의 수직방향의 직경은 하기의 식과 같이 변형되는 것을 특징으로 하는 비균등 광학소자가 적용된 적응광학 파면 보정장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.