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레이더의 펄스를 수신하는 전자장비의 위치와 상기 전자장비가 분석한 위협의 방위값으로 교차점들을 계산하는 단계;상기 교차점들간의 거리 중 제일 긴 거리를 반지름으로 하는 원을 염색체 생성영역으로 설정한 후 염색체를 가상 시뮬레이션으로 랜덤하게 생성시키는 단계;상기 염색체 생성 후 레이더의 펄스를 수신하는 전자장비와 염색체와의 거리, 및 대상 펄스의 개수로 염색체의 적합도를 계산하는 단계;상기 적합도를 반영하여 생성된 염색체들끼리 교배시켜 새로운 염색체를 생성시키는 단계;상기 새로운 염색체의 생성을 종료하는 단계; 및생성된 염색체 중 동일한 염색체의 비율이 가장 큰 위치를 위협 위치로 판단하는 단계를 포함하며,상기 대상 펄스의 개수는 레이더의 펄스를 수신하는 전자장비를 통해 입력되는 펄스반복주기(PRI, Pulse Repetition Interval)로 산정되는 것인, 위협 위치를 추정하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 방법은 상기 전자장비간의 거리가 레이더의 펄스반복주기 ⅹ 빛의 속도 값 미만인 경우에도 위협 위치를 추정하는 것을 특징으로 하는, 위협 위치를 추정하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 대상 펄스의 개수는 하기 수학식 1에 따라 산정되는 것인 위협 위치를 추정하는 방법:[수학식 1]상기 N은 대상 펄스의 개수이며,c는 빛의 속도이며,d는 레이더의 펄스를 수신하는 전자장비간의 최소 이격거리이다
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제1항에 있어서, 상기 새로운 염색체의 생성은 돌연변이 발생율이 반영된 것으로, 상기 돌연변이 발생율은 30%인 것인, 위협 위치를 추정하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 종료하는 단계는 유전되는 세대가 20 이상이거나 전체 염색체 중 동일한 염색체를 가지는 비율이 50% 이상인 경우 종료하는 것인, 위협 위치를 추정하는 방법
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