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파장 안정화기에 있어서,입방체형상체로서, 전면에 구비되는 시준화기(11)와, 배면 적소에 구비되는 거울(14)과, 일측면 소정위치에 구비되는 판체형상의 에탈론(15)으로 이루어지는 빛살 가르개(10); 및상기 빛살 가르개(10)의 배면과 상기 에탈론(15)이 구비된 일측면에 대향하는 면의 적소에 소정거리 이격되게 구비되는 검출부(30);가 포함되는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기
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제1항에 있어서,상기 검출부(30)가 상기 빛살 가르개(10)의 배면에 위치하는 제1 검출기(31)와 상기 에탈론(15)이 구비된 일측면에 대향하는 면에 위치하는 제2 검출기(33)로 이루어지고, 상기 제1 검출기(31)와 제2 검출기(33)에 포토다이오드(35)가 각각 구비되는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기
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3
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 입방체형 빛살 가르개(10)의 전면에 구비되는 시준화기(11)가 다수개로 이루어지는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기
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제3항에 있어서, 상기 검출부(30)의 제1 검출기(31)와 제2 검출기(33)에 구비되는 포토다이오드(35)가 다수개로 이루어지는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기
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5
제4항에 있어서, 상기 시준화기(11)와 상기 포토다이오드(35)의 갯수가 상호 대응되게 이루어지는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기
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6
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 빛살 가르개(10)가 석영 블록, BK7 및 유리재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기
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7
제6항에 있어서, 상기 빛살 가르개(10)의 내부에 소정각도로 경사지게 이루어지는 가르개면(18)이 구비되는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기
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8
제7항에 있어서, 상기 빛살 가르개(10)의 내부에 구비되는 가르개면(18)의 각도 및 위치가 가변가능하게 이루어지는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기
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9
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 에탈론(15)은 그 내부에 채널의 간격에 해당하는 소정두께의 공진층(16)이 형성되는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기
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10
제9항에 있어서, 상기 에탈론(15)의 내부에 형성되는 공진층(16)의 두께가 변경가능하게 이루어지고, 그에 따라 채널의 간격을 능동 또는 수동으로 가변가능하게 이루어지는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기
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11
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 빛살 가르개(10)와 시준화기(11) 사이 및 빛살 가르개(10)의 일측면에 소정두께의 판상체형상으로 이루어지는 무반사 박막(12)이 개재되는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기
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12
제11항에 있어서, 상기 무반사 박막(12)이 유전체 박막으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기
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13
제12항에 있어서, 상기 시준화기(11)가 구배형 렌즈나 구면 또는 비구면을 갖는 렌즈로 이루어지는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기
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14
제1항 또는 제2항에 있어서,상기 빛살 가르개(10)의 배면과 일측면에 구비되는 거울(14)과 에탈론(15)의 위치가 상호 변경가능하게 이루어지는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기
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15
제14항에 있어서,상기 빛살 가르개(10)의 배면과 일측면에 구비되는 거울(14)과 에탈론(15)이 유전체 박막으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기
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16
제15항에 있어서, 상기 거울(14)과 에탈론(15)이 상호 별개의 소자로 구성되는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기
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17
레이져 다이오드(3)에서 광이 광선로(5)를 통하여 진행되는 단계(S1); 상기 광선로(5)를 통하여 진행되는 광의 일부가 탭 커플러(7)를 통하여 파장 안정화기로 입력되는 단계(S2); 상기 파장 안정화기(1)로 입력되는 광이 시준화기(11)를 통과하면서 시준화되는 단계(S3); 상기 시준화기(11)를 통과한 광이 입방체형 빛살 가르개(10)로 입력되는 단계(S4); 상기 빛살 가르개(10)에 입력된 광이 그 내부에 소정각도로 경사지게 구비되는 가르개면(18)에 의해 두개의 광속(51, 53)으로 분리되는 단계(S5); 상기 가르개면(18)에 의하여 분리된 두개의 광속(51, 53) 중 투과된 광속(51)은 거울(14)에 입력되고, 다른 하나의 광속(53)은 반사되어 에탈론(15)에 입력되는 단계(S6); 상기 가르개면(18)에 의하여 분리된 두개의 광속(51, 53) 중 반사된 광속(53)이 에탈론(15)에 의해 재반사되는 단계(S7); 상기 거울(14)에 입력되는 광속(51)이 다시 두개의 광속(52, 55)으로 분리되는 단계(S8); 상기 거울(14)에 입력되는 두개의 광속(52, 55) 중 투과된 광속(52)은 거울(14)에 입력되고, 다른 하나의 광속(55)이 거울(14)에 반사되는 단계(S9); 상기 에탈론(15)에 의하여 반사되는 광속(57) 및 상기 거울(14)에 의하여 반사되는 광속(55)이 재결합되는 단계(S10); 상기 거울(14)을 투과한 광속(52) 및 상기 에탈론(15)과 거울(14)에 의하여 반사된 광속(57, 55)이 각각의 검출기(31, 33)에 의하여 전기적 신호의 세기로 검출되는 단계(S11); 상기 각 검출기(31, 33)에 의하여 검출된 각 광속의 주기적인 투과특성 교점을 잠금파장으로 설정하는 단계(S12)를 포함하는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기의 구동방법
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제17항에 있어서, 상기 빛살 가르개(10)에 의하여 분리되었다가 에탈론(15)과 거울(14)에 의해 반사되는 각 광(57, 55)의 재 결합 시 이들 두 광속(57, 55)간의 위상변화에 의한 간섭원리에 의하여 잠금파장을 설정하는 단계(S11-1)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기의 구동방법
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제17항에 있어서, 상기 빛살 가르개(10)에 의하여 분리되었다가 에탈론(15)과 거울(14)에 의해 반사되는 각 광(57, 55)의 재 결합 시 이들 두 광속(57, 55)간의 위상변화에 의한 간섭원리에 의하여 잠금파장을 설정하는 단계(S11-1)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기의 구동방법
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