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복수 개의 셀 영역들을 갖는 기판; 및상기 셀 영역에 배치되는 메모리 패턴을 포함하되,상기 메모리 패턴은 복수의 자구들(magnetic domains)을 갖는 제1 정보 저장 패턴(the first data storage pattern), 상기 제1 정보 저장 패턴과 나란히 진행하는 복수의 자구들을 갖는 제2 정보 저장 패턴, 및 상기 제1 정보 저장 패턴과 상기 제2 정보 저장 패턴 사이에 개재된 적어도 하나의 비자성 패턴을 포함하는 자벽이동 메모리 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 정보 저장 패턴의 소정의 자구의 자화 방향은 이에 대향하는 제2 정보 저장 패턴의 자구의 자화 방향과 반평행한 것을 특징으로 하는 자벽이동 메모리 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 정보 저장 패턴의 소정의 자구의 자화 방향은 이에 대향하는 제2 정보 저장 패턴의 자구의 자화 방향과 평행한 것을 특징으로 하는 자벽이동 메모리 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제1, 제2 정보 저장 패턴들은 강자성체(ferromagnetic material), 강자성체 합금, 및 페리자성체(ferrimagnetic material) 중에서 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 자벽이동 메모리 장치
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제 1 항에 있어서,상기 메모리 패턴은 스트립 라인(strip line) 모양, "U" 모양, 및 서펜타인(serpentine) 모양 중에서 적어도 하나의 모양인 것을 특징으로 하는 자벽이동 메모리 장치
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제1 항에 있어서,상기 제1 정보 저장 패턴의 두께와 상기 제2 정보 저장 패턴의 두께가 다른 것을 특징으로 하는 자벽이동 메모리 장치
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제1 항에 있어서,상기 제1 정보 저장 패턴의 두께와 상기 제2 정보 저장 패턴의 두께가 같은 것을 특징으로 하는 자벽이동 메모리 장치
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제1 항에 있어서,상기 제1 정보 저장 패턴의 두께와 상기 제2 정보 저장 패턴의 물질이 같은 것을 특징으로 하는 자벽이동 메모리 장치
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제1 항에 있어서,상기 제1 정보 저장 패턴의 물질와 상기 제2 정보 저장 패턴의 물질이 다른 것을 특징으로 하는 자벽이동 메모리 장치
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제1 항에 있어서,상기 비자성 패턴은 전이금속 및 그 합금 중의 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 자벽이동 메모리 장치
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제 10 항에 있어서,상기 전이금속은 구리(Cu), 크롬(Cr), 루세듐(Ru) 중에서 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 자벽이동 메모리 장치
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제 1항에 있어서, 상기 제1 정보 자장 패턴과 상기 제2 정보 저장 패턴의 간격은 0
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제 1항에 있어서,상기 메모리 패턴의 일측에서 배치되어, 상기 제1 및 제2 정보 저장 패턴들의 자구들 중에 적어도 하나의 자구에 대향되는 적어도 하나의 재생 전극 구조체; 및상기 메모리 패턴의 일측에 배치되어, 상기 제1 및 제2 정보 저장 패턴들의 자구들 중에 적어도 하나의 자구에 대향되는 적어도 하나의 기록 전극 구조체를 포함하는 것을 특징으로 하는 자벽이동 메모리 장치
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복수의 자구들(magnetic domains)을 갖는 제1 정보 저장 패턴을 형성하는 단계;상기 제1 정보 저장 패턴 상에 비자성 패턴을 형성하는 단계; 및상기 비자성 패턴 상에 제2 정보저장 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 자벽이동 메모리 장치의 형성 방법
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제 14 항에 있어서,상기 제2 정보 저장 패턴, 상기 비자성 패턴, 및 제1 정보 저장 패턴을 형성하는 단계는:기판 상에 차례로 적층된 제1 정보 저장막, 비자성막, 및 제2 정보 저장막을 형성하는 단계; 및상기 제2 정보 저장막, 비자성막, 및 제1 정보 저장막을 연속적으로 패터닝하여 상기 제2 정보 저장 패턴, 상기 비자성 패턴, 및 상기 제1 정보 저장 패턴을 형성하는 것을 포함하는 자벽이동 메모리 장치의 형성 방법
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제 14 항에 있어서,상기 비자성 패턴은 전이금속 및 그 합금으로 형성하는 것을 특징으로 하는 자벽이동 메모리 장치의 형성 방법
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제 16 항에 있어서,상기 전이금속은 구리(Cu), 크롬(Cr), 루세듐(Ru) 중에서 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 자벽이동 메모리 장치의 형성 방법
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제 14 항에 있어서,상기 제1 정보 저장 패턴과 상기 제2 정보 저장 패턴의 간격은 0
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제 14 항에 있어서,상기 제1 정보 저장 패턴의 두께와 상기 제2 정보 저장 패턴의 두께가 다른 것을 특징으로 하는 자벽이동 메모리 장치의 형성 방법
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