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비균일 듀티율을 갖는 광 도파로 격자 결합기

  • 기술번호 : KST2015157474
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 단일/하이브리드 전광 집적 회로를 이용한 정보 통신 시스템을 구현하기 위해 필수적으로 사용되는 광 연결 장치인 광 도파로 격자 결합기에 관한 것이다. 절연체상의 실리콘(Silicon on Insulator)의 실리콘층에 듀티율(duty ratio)이 균일하지 않은 격자 영역을 형성시켜, 기존의 광 도파로 수직 광 결합 장치의 결합 효율을 떨어뜨리는 요인중의 하나인 격자 영역으로 진행하는 광이 유효 굴절률의 차이로 인해 격자 영역으로부터 발생하는 반사율을 획기적으로 작게 할 수 있다. 또한, 격자 영역으로부터 덮개 영역으로 회절되는 출력광의 외형(diffracted output beam profile)을 조절할 수 있고, 집광 효과를 얻을 수 있어 모드 크기로 인해 발생하는 광 결합 손실을 최소화 하는 것을 특징으로 한다. 본 발명은 집적화가 용이하고, 저가 대량 생산등의 장점을 가지고 있어 실리콘 기반 전광 집적회로와 이들이 탑재될 수 있는 O-PCB(Optical Printed Circuit Board)등에 이용되어 광 신호 전달 및 검출을 용이하게 할 수 있다. 광 도파로, 전광 집적회로, 회절광, 광 도파로 격자 결합기
Int. CL G02B 6/124 (2006.01)
CPC G02B 6/124(2013.01) G02B 6/124(2013.01) G02B 6/124(2013.01) G02B 6/124(2013.01) G02B 6/124(2013.01)
출원번호/일자 1020080031236 (2008.04.03)
출원인 인하대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1006959-0000 (2011.01.03)
공개번호/일자 10-2009-0105655 (2009.10.07) 문서열기
공고번호/일자 (20110112) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.04.03)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 인하대학교 산학협력단 대한민국 인천광역시 미추홀구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 오범환 대한민국 인천 남구
2 양정수 대한민국 인천 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 인하대학교 산학협력단 대한민국 인천광역시 남구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.04.03 수리 (Accepted) 1-1-2008-0243175-37
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2008-5093865-89
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2009.06.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2009.07.10 수리 (Accepted) 9-1-2009-0039845-22
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.11.17 수리 (Accepted) 4-1-2009-5220324-82
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2009.11.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0477605-26
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2010.01.20 무효 (Invalidation) 1-1-2010-0037894-73
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2010.01.20 수리 (Accepted) 1-1-2010-0037906-33
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2010.01.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0037899-01
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2010.01.20 수리 (Accepted) 1-1-2010-0037903-07
11 보정요구서
Request for Amendment		 2010.01.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2010-0009437-13
12 무효처분통지서
Notice for Disposition of Invalidation		 2010.02.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2010-0016872-25
13 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2010.06.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0274776-88
14 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2010.07.09 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0444864-49
15 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2010.07.09 수리 (Accepted) 1-1-2010-0444862-58
16 등록결정서
Decision to grant		 2010.12.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0601240-11
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.07.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5098802-16
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2016.09.05 수리 (Accepted) 4-1-2016-5127132-49
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5036549-31
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266647-91
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번호 청구항
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실리콘 기판; 상기 기판의 상부면에 증착되는 버퍼층; 상기 버퍼층 상부에 형성되며, 광신호가 진행하는 코어층; 및 상기 코어층의 상부에서 광의 진행방향을 따라 주기적으로 반복 형성되는 다수의 격자로 이루어지되, 상기 격자의 격자 폭-대-피치(pitch) 비율이 가우시안 곡선 형태로 감소되는 것을 특징으로 하는 비균일한 듀티율을 갖는 광 도파로 격자 결합기
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청구항 6에 있어서, 상기 격자는 상기 코어층에서 진행하는 광신호를 격자표면의 수직 방향에 대하여 기 설정된 범위의 결합각으로 회절시키는 것을 특징으로 하는 비균일한 듀티율을 갖는 광 도파로 격자 결합기
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청구항 7에 있어서, 상기 격자는 상기 광신호가 격자표면의 수직 방향에 대하여 -1 회절 차수를 갖도록 회절시키는 것을 특징으로 하는 비균일한 듀티율을 갖는 광 도파로 격자 결합기
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청구항 6에 있어서, 상기 비균일한 듀티율을 갖는 광 도파로 격자 결합기는 상기 격자 폭-대-피치(pitch) 비율의 변화에 따라 회절되는 광신호의 초점거리가 조절되는 집광렌즈로 동작되는 것을 특징으로 하는 비균일한 듀티율을 갖는 광 도파로 격자 결합기
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