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간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 및 열광학 계수 측정시스템 그리고 이를 이용한 전기광학 및 열광학 계수 측정방법

  • 기술번호 : KST2015157567
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 광소자 및 광소재의 전기광학 계수 및 열광학 계수를 측정하기 위한 것으로, 더욱 자세하게는 복잡한 장비를 이용하지 않고도 측정대상이 되는 넓은 파장에서의 광학 특성을 정밀하게 측정할 수 있도록 한 "간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 및 열광학 계수 측정시스템 그리고 이를 이용한 전기광학 및 열광학 계수 측정방법"에 관한 것이다. 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 전기광학 계수 측정시스템은, 다중 파장의 광신호를 출력하는 광원; 상기 광원으로부터 입력되는 광신호를 2개로 분배하는 광신호 분배수단, 분배된 광신호 중 어느 하나를 수신하는 기준팔, 분배된 두 광신호 중 다른 하나를 수신하며 측정대상인 광 샘플이 연결되어 상기 광 샘플에 전압을 가하는 샘플팔, 상기 기준팔 및 상기 샘플팔을 거쳐 출력되는 광신호들을 결합하여 상호 간섭시키는 광신호 결합수단을 포함하는 광 간섭계; 및 상기 광 간섭계에서 간섭된 광신호를 전달받아 스펙트럼을 분석하는 광 스펙트럼 분석장치;를 포함한다. 광, 간섭무늬, 전기광학 계수, 열광학 계수, 마하젠더, 마이켈슨, 간섭계
Int. CL G01J 3/457 (2006.01) G01J 3/45 (2006.01) G01J 3/26 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020090041827 (2009.05.13)
출원인 인하대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1062021-0000 (2011.08.29)
공개번호/일자 10-2010-0122763 (2010.11.23) 문서열기
공고번호/일자 (20110905) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.05.13)
심사청구항수 53

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 인하대학교 산학협력단 대한민국 인천광역시 미추홀구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김경헌 대한민국 인천광역시 연수구
2 이승훈 대한민국 인천광역시 남동구
3 김승환 대한민국 인천광역시 남구
4 이일항 대한민국 경기도 고양시 일산동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인(유한) 다래 대한민국 서울 강남구 테헤란로 ***, **층(역삼동, 한독타워)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 인하대학교 산학협력단 대한민국 인천광역시 미추홀구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2009.05.13 수리 (Accepted) 1-1-2009-0287715-47
2 [전자문서첨부서류]전자문서첨부서류등 물건제출서
[Attachment to Electronic Document] Submission of Object such as Attachment to Electronic Document		 2009.05.18 수리 (Accepted) 1-1-2009-5019362-09
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.11.17 수리 (Accepted) 4-1-2009-5220324-82
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2010.05.17 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2010.06.17 수리 (Accepted) 9-1-2010-0038827-56
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2010.11.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0526671-82
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.01.19 수리 (Accepted) 1-1-2011-0045485-80
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.01.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0045487-71
9 등록결정서
Decision to grant		 2011.07.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0422301-33
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.07.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5098802-16
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2016.09.05 수리 (Accepted) 4-1-2016-5127132-49
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5036549-31
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266647-91
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
다중 파장의 광신호를 출력하는 광원; 상기 광원으로부터 입력되는 광신호를 2개로 분배하는 광신호 분배수단, 분배된 광신호 중 어느 하나를 수신하는 기준팔, 분배된 두 광신호 중 다른 하나를 수신하며 측정대상인 광 샘플이 연결되어 상기 광 샘플에 전압을 가하는 샘플팔, 상기 기준팔 및 상기 샘플팔을 거쳐 출력되는 광신호들을 결합하여 상호 간섭시키는 광신호 결합수단을 포함하는 광 간섭계; 및 상기 광 간섭계에서 간섭된 광신호를 전달받아 스펙트럼을 분석하는 광 스펙트럼 분석장치; 를 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정시스템
2 2
제 1항에 있어서, 상기 기준팔은, 상기 광신호 분배수단으로부터 수신한 광신호를 공기 중으로 출력하기 위한 광신호 발사수단; 및 상기 광신호 발사수단으로부터 출력된 광신호를 수신하기 위한 광신호 수광수단; 을 포함하며, 상기 광신호 분배수단과 광신호 발사수단 사이의 광경로와, 광신호 수광수단과 광신호 결합수단 사이의 광경로 중의 어느 하나 이상은 광섬유(optical fiber)로 구성되는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정시스템
3 3
제 2항에 있어서, 상기 샘플팔은, 상기 광 샘플의 일단에 연결되어, 상기 광신호 분배수단으로부터 수신한 광신호를 상기 광 샘플로 조사하는 제1광 연결수단; 및 상기 광 샘플을 거쳐 상기 제1광 연결수단로부터 조사되는 광신호를 수신하기 위한 제2광 연결수단; 을 포함하며, 상기 광신호 분배수단과 제1광 연결수단 사이의 광경로와, 제2광 연결수단과 광신호 결합수단 사이의 광경로 중 어느 하나 이상은 광섬유(optical fiber)로 구성되는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정시스템
4 4
제 3항에 있어서, 상기 광신호 분배수단과 광 샘플 사이의 광경로에, 상기 광 샘플로 조사되는 광신호의 편광 방향을 조절하기 위한 편광조절기가 구비되는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정시스템
5 5
제 1항에 있어서, 상기 기준팔은, 상기 광신호 분배수단으로부터 나온 광신호를 굴절시켜 상기 광신호 결합수단으로 조사되도록 하고, 위치 이동을 통한 기준팔에서의 광 경로 길이 조절이 가능하게 하는 제1굴절수단; 을 포함하고, 상기 샘플팔은, 상기 광신호 분배수단으로부터 나온 상기 광신호를 굴절시켜 상기 광 샘플을 거쳐 상기 광신호 결합수단으로 조사되도록 하는 제2굴절수단; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정시스템
6 6
제 5항에 있어서, 상기 제1굴절수단과 상기 광신호 결합수단 사이 및 상기 광신호 분배수단과 상기 광 샘플 사이의 광경로에, 광신호의 편광 방향을 조절하기 위한 반파장판형 편광조절기가 구비되는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정시스템
7 7
제 1항에 있어서, 상기 샘플팔은, 상기 광 샘플을 통과하는 광신호와 중첩되지 않는 위치에서 상기 광 샘플에 접촉하여, 상기 광 샘플에 전압을 인가하는 전극; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정시스템
8 8
제 1항에 있어서, 상기 샘플팔은, 상기 광 샘플을 통과하는 광신호와 중첩되는 위치에서 상기 광 샘플에 접촉하여 상기 광 샘플에 전압을 인가하는 투명전극; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정시스템
9 9
제 1항에 있어서, 상기 광 간섭계는, 외부 진동의 영향을 차단하기 위해 외면에 진동차단막이 형성되는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정시스템
10 10
다중 파장의 광신호를 출력하는 광원; 상기 광원으로부터 입력되는 광신호를 2개로 분배하는 광신호 분배수단, 분배된 광신호 중 어느 하나를 수신하는 기준팔, 분배된 두 광신호 중 다른 하나를 수신하며 측정대상인 광 샘플이 연결되어 상기 광 샘플에 열을 가하는 샘플팔, 상기 기준팔 및 상기 샘플팔을 거쳐 출력되는 광신호들을 결합하여 상호 간섭시키는 광신호 결합수단을 포함하는 광 간섭계; 및 상기 광 간섭계에서 간섭된 광신호를 전달받아 스펙트럼을 분석하는 광 스펙트럼 분석장치; 를 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정시스템
11 11
제 10항에 있어서, 상기 기준팔은, 상기 광신호 분배수단으로부터 수신한 광신호를 공기 중으로 출력하기 위한 광신호 발사수단; 및 상기 광신호 발사수단으로부터 출력된 광신호를 수신하기 위한 광신호 수광수단; 을 포함하며, 상기 광신호 분배수단과 광신호 발사수단 사이의 광경로와, 광신호 수광수단과 광신호 결합수단 사이의 광경로 중의 어느 하나 이상은 광섬유(optical fiber)로 구성되는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정시스템
12 12
제 11항에 있어서, 상기 샘플팔은, 상기 광 샘플의 일단에 연결되어, 상기 광신호 분배수단으로부터 수신한 광신호를 상기 광 샘플로 조사하는 제1광 연결수단; 및 상기 광 샘플을 거쳐 상기 제1광 연결수단로부터 조사되는 광신호를 수신하기 위한 제2광 연결수단; 을 포함하며, 상기 광신호 분배수단과 제1광 연결수단 사이의 광경로와, 제2광 연결수단과 광신호 결합수단 사이의 광경로 중 어느 하나 이상은 광섬유(optical fiber)로 구성되는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정시스템
13 13
제 12항에 있어서, 상기 광신호 분배수단과 광 샘플 사이의 광경로에, 상기 광 샘플로 조사되는 광신호의 편광 방향을 조절하기 위한 편광조절기가 구비되는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정시스템
14 14
제 10항에 있어서, 상기 기준팔은, 상기 광신호 분배수단으로부터 수신한 광신호가, 상기 광신호 결합수단으로 조사되도록 상기 광신호 분배수단으로부터 수신한 광신호를 굴절시키며, 위치 이동을 통한 기준팔에서의 광 경로 길이 조절이 가능한 제1굴절수단;을 포함하고, 상기 샘플팔은, 상기 광신호 분배수단으로부터 상기 수신한 광신호가, 상기 광 샘플을 거쳐 상기 광신호 결합수단으로 조사되도록, 상기 광신호 분배수단으로부터 수신한 광신호를 굴절시키기 위한 제2굴절수단; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정시스템
15 15
제 14항에 있어서, 상기 제1굴절수단과 상기 광신호 결합수단 사이 및 상기 광신호 분배수단과 상기 광 샘플 사이의 광경로에, 광신호의 편광 방향을 조절하기 위한 반파장판형 편광조절기가 구비되는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정시스템
16 16
제 10항에 있어서, 상기 샘플팔은, 상기 광 샘플의 온도를 올리거나 내릴 수 있는 가열/냉각장치; 및 상기 광 샘플의 온도를 측정하기 위한 온도센서;를 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정시스템
17 17
제 10항에 있어서, 상기 광 간섭계는, 외부 진동의 영향을 차단하기 위해 외면에 진동차단막이 형성되는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정시스템
18 18
다중 파장의 광신호를 출력하는 광원; 상기 광원으로부터 입력되는 광신호를 2개로 분배하고, 분배한 방향으로부터 되돌아오는 두 광신호들을 결합하여 상호 간섭시키는 광신호 분배결합수단, 분배된 두 광신호 중 어느 하나를 반사하여 상기 광신호 분배결합수단으로 되돌려보내는 기준팔, 분배된 광신호 중 다른 하나를 측정대상인 광 샘플에 투과시킨 후 반사하여 상기 광신호 분배결합수단으로 되돌려보내며 상기 광 샘플에 전압을 가하는 샘플팔을 포함하는 광 간섭계; 및 상기 광 간섭계에서 간섭된 광신호를 전달받아 스펙트럼을 분석하는 광 스펙트럼 분석장치; 를 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정시스템
19 19
제 18항에 있어서, 상기 기준팔은, 상기 광신호 분배결합수단으로부터 나온 광신호를 수신하고, 수신된 광신호를 통하여 제1반사체로 출력한 후, 상기 제1반사체에 의해 반사된 상기 광신호를 입력받는 광신호 발사/수광수단; 을 포함하고, 상기 샘플팔은, 상기 광 샘플의 일단에 연결되어, 상기 광신호 분배결합수단으로부터 나온 광신호를 상기 광 샘플로 출력하고, 상기 광 샘플을 투과하여 제2반사체에 의해 반사된 상기 광신호를 입력받는 광 연결수단; 를 포함하며, 상기 광신호 분배결합수단과 광신호 발사/수광수단 사이의 광경로 및 상기 광신호 분배결합수단과 상기 광 연결수단 사이의 광경로는 광섬유(optical fiber)로 구성되는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정시스템
20 20
제 19항에 있어서, 상기 광신호 분배결합수단과 광 샘플 사이의 광경로에, 상기 광 샘플로 조사되는 광신호의 편광 방향을 조절하기 위한 편광조절기가 구비되는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정시스템
21 21
제 19항에 있어서, 제1반사체는, 상기 광신호 분배결합수단으로부터 분파된 광신호 중 어느 하나를 반사하여 상기 광신호 분배결합수단으로 되돌려보내며, 위치 이동을 통한 기준팔에서의 광 경로 길이 조절이 가능하도록 하는 것을 특징으로 하는 기광학 계수 측정시스템
22 22
제 21항에 있어서, 상기 광신호 분배결합수단과 상기 광 샘플 사이의 광경로에, 광신호의 편광 방향을 조절하기 위한 반파장판형 편광조절기가 구비되는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정시스템
23 23
제 18항에 있어서, 상기 샘플팔은, 상기 광 샘플을 통과하는 광신호와 중첩되지 않는 위치에서 상기 광 샘플에 접촉하여, 상기 광 샘플에 전압을 인가하는 전극; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정시스템
24 24
제 18항에 있어서, 상기 샘플팔은, 상기 광 샘플을 통과하는 광신호와 중첩되는 위치에서 상기 광 샘플에 접촉하여 상기 광 샘플에 전압을 인가하는 투명전극; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정시스템
25 25
제 18항에 있어서, 상기 광 간섭계는, 외부 진동의 영향을 차단하기 위해 외면에 진동차단막이 형성되는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정시스템
26 26
다중 파장의 광신호를 출력하는 광원; 상기 광원으로부터 입력되는 광신호를 2개로 분배하고, 분배한 방향으로부터 되돌아오는 두 광신호들을 결합하여 상호 간섭시키는 광신호 분배결합수단, 분배된 두 광신호 중 어느 하나를 반사하여 상기 광신호 분배결합수단으로 되돌려보내는 기준팔, 분배된 광신호 중 다른 하나를 측정대상인 광 샘플에 투과시킨 후 반사하여 상기 광신호 분배결합수단으로 되돌려보내며 상기 광 샘플에 열을 가하는 샘플팔을 포함하는 광 간섭계; 및 상기 광 간섭계에서 간섭된 광신호를 전달받아 스펙트럼을 분석하는 광 스펙트럼 분석장치; 를 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정시스템
27 27
제 26항에 있어서, 상기 기준팔은, 상기 광신호 분배결합수단으로부터 나온 광신호를 수신하고, 수신된 광신호를 통하여 제1반사체로 출력한 후, 상기 제1반사체에 의해 반사된 상기 광신호를 입력받는 광신호 발사/수광수단; 을 포함하고, 상기 샘플팔은, 상기 광 샘플의 일단에 연결되어, 상기 광신호 분배결합수단으로부터 나온 광신호를 상기 광 샘플로 출력하고, 상기 광 샘플을 투과하여 제2반사체에 의해 반사된 상기 광신호를 입력받는 광 연결수단; 를 포함하며, 상기 광신호 분배결합수단과 광신호 발사/수광수단 사이의 광경로 및 상기 광신호 분배결합수단과 상기 광 연결수단 사이의 광경로는 광섬유(optical fiber)로 구성되는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정시스템
28 28
제 27항에 있어서, 상기 광신호 분배결합수단과 광 샘플 사이의 광경로에, 상기 광 샘플로 조사되는 광신호의 편광 방향을 조절하기 위한 편광조절기가 구비되는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정시스템
29 29
제 27항에 있어서, 상기 제1반사체는, 상기 광신호 분배결합수단으로부터 분파된 광신호 중 어느 하나를 반사하여 상기 광신호 분배결합수단으로 되돌려보내며, 위치 이동을 통한 기준팔에서의 광 경로 길이 조절이 가능하도록 한 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정시스템
30 30
제 29항에 있어서, 상기 광신호 분배결합수단과 상기 광 샘플 사이의 광경로에, 광신호의 편광 방향을 조절하기 위한 반파장판형 편광조절기가 구비되는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정시스템
31 31
제 26항에 있어서, 상기 샘플팔은, 상기 광 샘플의 온도를 올리거나 내릴 수 있는 가열/냉각장치; 및 상기 광 샘플의 온도를 측정하기 위한 온도센서;를 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 및 열광학 계수 측정시스템
32 32
제 26항에 있어서, 상기 광 간섭계는, 외부 진동의 영향을 차단하기 위해 외면에 진동차단막이 형성되는 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 및 열광학 계수 측정시스템
33 33
다중 파장의 광신호를 출력하는 광원; 상기 광원으로부터 입력되는 광신호를 2개로 분배하는 광신호 분배수단, 분배된 광신호 중 어느 하나를 수신하는 기준팔, 분배된 두 광신호 중 다른 하나를 수신하며 측정대상인 광 샘플이 연결되어 상기 광 샘플에 전압을 가하는 샘플팔, 상기 기준팔 및 상기 샘플팔을 거쳐 출력되는 광신호들을 결합하여 상호 간섭시키는 광신호 결합수단을 포함하는 광 간섭계; 및 상기 광 간섭계에서 간섭된 광신호를 전달받아 스펙트럼을 분석하는 광 스펙트럼 분석장치; 를 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정시스템을 이용하여 전기광학 계수를 측정하는 방법으로서, 상기 광 샘플에 전압이 가해지지 않은 상태에서 상기 간섭계를 통과하여 출력되는 스펙트럼을 측정하고, 파장을 주파수로 바꾸어 주파수 스펙트럼을 얻는 기준 스펙트럼 획득단계; 상기 기준 스펙트럼 획득단계와 동일하게 전압이 가해지지 않은 상태에서, 상기 간섭계의 두 팔 중 하나만을 교번적으로 막아 빛통과를 차단하고, 차단하지 않은 팔의 스펙트럼을 측정한 후, 이들 스펙트럼을 상기 기준 스펙트럼 획득단계에서 얻어진 스펙트럼으로부터 제외하고 정규화(normalize)하여 간섭무늬 스펙트럼을 구하는 기준 간섭무늬 획득단계; 상기 기준 간섭무늬 획득단계에서 얻어진 간섭무늬 스펙트럼을 이용하여 미리 정해진 기준주파수로부터의 주파수 변화에 따른 위상차이값을 계산하는 기준 위상차 계산단계; 상기 광 샘플에 전압이 가해진 상태에서, 상기 간섭계를 통과하여 나오는 스펙트럼을 측정하고 파장을 주파수로 바꾸어 주파수 스펙트럼을 얻는 대조 스펙트럼 획득단계; 상기 대조 스펙트럼 획득단계와 동일하게 전압이 가해지지 않은 상태에서, 상기 간섭계의 두 팔 중 하나만을 교번적으로 막아 빛통과를 차단하고, 차단하지 않은 팔의 스펙트럼을 측정한 후, 이들 스펙트럼을 상기 대조 스펙트럼 획득단계에서 얻어진 스펙트럼으로부터 제외하고 정규화(normalize)하여 간섭무늬 스펙트럼을 구하는 대조 간섭무늬 획득단계; 상기 대조 간섭무늬 획득단계에서 얻어진 간섭무늬 스펙트럼을 이용하여 미리 정해진 기준 주파수로부터의 주파수 변화에 따른 위상 차이값을 계산하는 대조 위상차 계산단계; 상기 기준 위상차 계산단계 및 상기 대조 위상차 계산단계 각각에 대해서 계산된 주파수 변화에 따른 위상차이 값을 데이터 피팅(data fitting)하여 각각의 피팅 함수를 결정하는 피팅 함수 결정단계; 및 상기 피팅 함수 결정단계에서 결정된 피팅 함수들을 이용하여 임의의 주파수()에서의 기준 위상차 값()과 대조 위상차 값()을 구하고, 상기 기준 위상차값 및 상기 대조 위상차값 간의 차이값()과, Sellmeier 공식을 통해 산출된 굴절률 값이나 측정된 굴절률 값을 이용하여 전기광학 계수 값을 계산하는 광학 계수 계산단계; 를 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정방법
34 34
다중 파장의 광신호를 출력하는 광원; 상기 광원으로부터 입력되는 광신호를 2개로 분배하는 광신호 분배수단, 분배된 광신호 중 어느 하나를 수신하는 기준팔, 분배된 두 광신호 중 다른 하나를 수신하며 측정대상인 광 샘플이 연결되어 상기 광 샘플에 전압을 가하는 샘플팔, 상기 기준팔 및 상기 샘플팔을 거쳐 출력되는 광신호들을 결합하여 상호 간섭시키는 광신호 결합수단을 포함하는 광 간섭계; 및 상기 광 간섭계에서 간섭된 광신호를 전달받아 스펙트럼을 분석하는 광 스펙트럼 분석장치; 를 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정시스템을 이용하여 전기광학 계수를 측정하는 방법으로서, 상기 광 샘플에 전압이 가해지지 않은 상태에서 상기 간섭계를 통과하여 출력되는 스펙트럼을 측정하고, 파장을 주파수로 바꾸어 주파수 스펙트럼을 얻는 기준 스펙트럼 획득단계; Hilbert 변환에 의한 광 신호 세기 분포 계산값을 상기 기준 스펙트럼 획득단계에서 획득한 주파수 스펙트럼으로부터 제외하고 정규화(normalize)하여 간섭무늬 스펙트럼을 구하는 기준 간섭무늬 획득단계; 상기 기준 간섭무늬 획득단계에서 얻어진 간섭무늬 스펙트럼을 이용하여 미리 정해진 기준주파수로부터의 주파수 변화에 따른 위상차이값을 계산하는 기준 위상차 계산단계; 상기 광 샘플에 전압이 가해진 상태에서, 상기 간섭계를 통과하여 나오는 스펙트럼을 측정하고 파장을 주파수로 바꾸어 주파수 스펙트럼을 얻는 대조 스펙트럼 획득단계; Hilbert 변환에 의한 광 신호 세기 분포 계산값을 상기 대조 스펙트럼 획득단계에서 획득한 주파수 스펙트럼으로부터 제외하고 정규화(normalize)하여 간섭무늬 스펙트럼을 구하는 대조 간섭무늬 획득단계; 상기 대조 간섭무늬 획득단계에서 얻어진 간섭무늬 스펙트럼을 이용하여 미리 정해진 기준 주파수로부터의 주파수 변화에 따른 위상 차이값을 계산하는 대조 위상차 계산단계; 상기 기준 위상차 계산단계 및 상기 대조 위상차 계산단계 각각에 대해서 계산된 주파수 변화에 따른 위상차이 값을 데이터 피팅(data fitting)하여 각각의 피팅 함수를 결정하는 피팅 함수 결정단계; 및 상기 피팅 함수 결정단계에서 결정된 피팅 함수들을 이용하여 임의의 주파수()에서의 기준 위상차 값()과 대조 위상차 값()을 구하고, 상기 기준 위상차값 및 상기 대조 위상차값 간의 차이값()과, Sellmeier 공식을 통해 산출된 굴절률 값이나 측정된 굴절률 값을 이용하여 전기광학 계수 값을 계산하는 광학 계수 계산단계; 를 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정방법
35 35
제 33항 또는 제 34항에 있어서, 상기 기준 스펙트럼 획득단계 또는 대조 스펙트럼 획득단계 이전에, 상기 광 스펙트럼 분석장치에서 측정되는 스펙트럼이 상기 간섭된 광신호의 특성을 상대적으로 잘 나타낸 상태가 되도록 상기 기준팔의 광신호 전송길이를 조절하는 전송길이 조절단계; 를 더 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정방법
36 36
제 35항에 있어서, 상기 간섭된 광신호의 특성을 상대적으로 잘 나타낸 상태는, 간섭무늬의 가시도(visibility)가 가장 큰 상태인 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정방법
37 37
제 35항에 있어서, 상기 광 샘플이 복굴절률을 갖는 경우, 이중 간섭무늬가 측정되도록 상기 광 샘플로 조사되는 광 신호의 편광과 상기 기준팔의 광신호 전송길이를 조절하는 조절단계; 일정한 간격의 스펙트럼을 구하기 위해 상기 기준 스펙트럼 획득단계 및 대조 스펙트럼 획득단계에서 획득된 스펙트럼을 보간(interporation)하는 보간단계; 푸리에변환과 필터링, 역푸리에 과정을 이용하여 보간된 스펙트럼으로부터 정상 굴절빔과 비정상 굴절빔에 대한 간섭무늬로 구분해내는 간섭무늬 구분단계; 를 더 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정방법
38 38
다중 파장의 광신호를 출력하는 광원; 상기 광원으로부터 입력되는 광신호를 2개로 분배하고, 분배한 방향으로부터 되돌아오는 두 광신호들을 결합하여 상호 간섭시키는 광신호 분배결합수단, 분배된 두 광신호 중 어느 하나를 반사하여 상기 광신호 분배결합수단으로 되돌려보내는 기준팔, 분배된 광신호 중 다른 하나를 측정대상인 광 샘플에 투과시킨 후 반사하여 상기 광신호 분배결합수단으로 되돌려보내며 상기 광 샘플에 전압을 가하는 샘플팔을 포함하는 광 간섭계; 및 상기 광 간섭계에서 간섭된 광신호를 전달받아 스펙트럼을 분석하는 광 스펙트럼 분석장치;를 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정시스템을 이용하여 전기광학 계수를 측정하는 방법으로서, 상기 광 샘플에 전압이 가해지지 않은 상태에서 상기 간섭계를 통과하여 출력되는 스펙트럼을 측정하고, 파장을 주파수로 바꾸어 주파수 스펙트럼을 얻는 기준 스펙트럼 획득단계; 상기 기준 스펙트럼 획득단계와 동일하게 전압이 가해지지 않은 상태에서, 상기 간섭계의 두 팔 중 하나만을 교번적으로 막아 빛통과를 차단하고, 차단하지 않은 팔의 스펙트럼을 측정한 후, 이들 스펙트럼을 상기 기준 스펙트럼 획득단계에서 얻어진 스펙트럼으로부터 제외하고 정규화(normalize)하여 간섭무늬 스펙트럼을 구하는 기준 간섭무늬 획득단계; 상기 기준 간섭무늬 획득단계에서 얻어진 간섭무늬 스펙트럼을 이용하여 미리 정해진 기준주파수로부터의 주파수 변화에 따른 위상차이값을 계산하는 기준 위상차 계산단계; 상기 광 샘플에 전압이 가해진 상태에서, 상기 간섭계를 통과하여 나오는 스펙트럼을 측정하고 파장을 주파수로 바꾸어 주파수 스펙트럼을 얻는 대조 스펙트럼 획득단계; 상기 대조 스펙트럼 획득단계와 동일하게 전압이 가해지지 않은 상태에서, 상기 간섭계의 두 팔 중 하나만을 교번적으로 막아 빛통과를 차단하고, 차단하지 않은 팔의 스펙트럼을 측정한 후, 이들 스펙트럼을 상기 대조 스펙트럼 획득단계에서 얻어진 스펙트럼으로부터 제외하고 정규화(normalize)하여 간섭무늬 스펙트럼을 구하는 대조 간섭무늬 획득단계; 상기 대조 간섭무늬 획득단계에서 얻어진 간섭무늬 스펙트럼을 이용하여 미리 정해진 기준 주파수로부터의 주파수 변화에 따른 위상 차이값을 계산하는 대조 위상차 계산단계; 상기 기준 위상차 계산단계 및 상기 대조 위상차 계산단계 각각에 대해서 계산된 주파수 변화에 따른 위상차이 값을 데이터 피팅(data fitting)하여 각각의 피팅 함수를 결정하는 피팅 함수 결정단계; 및 상기 피팅 함수 결정단계에서 결정된 피팅 함수들을 이용하여 임의의 주파수()에서의 기준 위상차 값()과 대조 위상차 값()을 구하고, 상기 기준 위상차값 및 상기 대조 위상차값 간의 차이값()과, Sellmeier 공식을 통해 산출된 굴절률 값이나 측정된 굴절률 값을 이용하여 전기광학 계수 값을 계산하는 광학 계수 계산단계; 를 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정방법
39 39
다중 파장의 광신호를 출력하는 광원; 상기 광원으로부터 입력되는 광신호를 2개로 분배하는 광신호 분배수단, 분배된 광신호 중 어느 하나를 수신하는 기준팔, 분배된 두 광신호 중 다른 하나를 수신하며 측정대상인 광 샘플이 연결되어 상기 광 샘플에 전압을 가하는 샘플팔, 상기 기준팔 및 상기 샘플팔을 거쳐 출력되는 광신호들을 결합하여 상호 간섭시키는 광신호 결합수단을 포함하는 광 간섭계; 및 상기 광 간섭계에서 간섭된 광신호를 전달받아 스펙트럼을 분석하는 광 스펙트럼 분석장치; 를 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정시스템을 이용하여 전기광학 계수를 측정하는 방법으로서, 상기 광 샘플에 전압이 가해지지 않은 상태에서 상기 간섭계를 통과하여 출력되는 스펙트럼을 측정하고, 파장을 주파수로 바꾸어 주파수 스펙트럼을 얻는 기준 스펙트럼 획득단계; Hilbert 변환에 의한 광 신호 세기 분포 계산값을 상기 기준 스펙트럼 획득단계에서 획득한 주파수 스펙트럼으로부터 제외하고 정규화(normalize)하여 간섭무늬 스펙트럼을 구하는 기준 간섭무늬 획득단계; 상기 기준 간섭무늬 획득단계에서 얻어진 간섭무늬 스펙트럼을 이용하여 미리 정해진 기준주파수로부터의 주파수 변화에 따른 위상차이값을 계산하는 기준 위상차 계산단계; 상기 광 샘플에 전압이 가해진 상태에서, 상기 간섭계를 통과하여 나오는 스펙트럼을 측정하고 파장을 주파수로 바꾸어 주파수 스펙트럼을 얻는 대조 스펙트럼 획득단계; Hilbert 변환에 의한 광 신호 세기 분포 계산값을 상기 대조 스펙트럼 획득단계에서 획득한 주파수 스펙트럼으로부터 제외하고 정규화(normalize)하여 간섭무늬 스펙트럼을 구하는 대조 간섭무늬 획득단계; 상기 대조 간섭무늬 획득단계에서 얻어진 간섭무늬 스펙트럼을 이용하여 미리 정해진 기준 주파수로부터의 주파수 변화에 따른 위상 차이값을 계산하는 대조 위상차 계산단계; 상기 기준 위상차 계산단계 및 상기 대조 위상차 계산단계 각각에 대해서 계산된 주파수 변화에 따른 위상차이 값을 데이터 피팅(data fitting)하여 각각의 피팅 함수를 결정하는 피팅 함수 결정단계; 및 상기 피팅 함수 결정단계에서 결정된 피팅 함수들을 이용하여 임의의 주파수()에서의 기준 위상차 값()과 대조 위상차 값()을 구하고, 상기 기준 위상차값 및 상기 대조 위상차값 간의 차이값()과, Sellmeier 공식을 통해 산출된 굴절률 값이나 측정된 굴절률 값을 이용하여 전기광학 계수 값을 계산하는 광학 계수 계산단계; 를 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정방법
40 40
제 38항 또는 제 39항에 있어서, 상기 기준 스펙트럼 획득단계 또는 대조 스펙트럼 획득단계 이전에, 상기 광 스펙트럼 분석장치에서 측정되는 스펙트럼이 상기 간섭된 광신호의 특성을 상대적으로 잘 나타낸 상태가 되도록 상기 기준팔의 광신호 전송길이를 조절하는 전송길이 조절단계; 를 더 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정방법
41 41
제 40항에 있어서, 상기 간섭된 광신호의 특성을 상대적으로 잘 나타낸 상태는, 간섭무늬의 가시도(visibility)가 가장 큰 상태인 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정방법
42 42
제 40항에 있어서, 상기 광 샘플이 복굴절률을 갖는 경우, 이중 간섭무늬가 측정되도록 상기 광 샘플로 조사되는 광 신호의 편광과 상기 기준팔의 광신호 전송길이를 조절하는 조절단계; 일정한 간격의 스펙트럼을 구하기 위해 상기 기준 스펙트럼 획득단계 및 대조 스펙트럼 획득단계에서 획득된 스펙트럼을 보간(interporation)하는 보간단계; 푸리에변환과 필터링, 역푸리에 과정을 이용하여 보간된 스펙트럼으로부터 정상 굴절빔과 비정상 굴절빔에 대한 간섭무늬로 구분해내는 간섭무늬 구분단계; 를 더 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 전기광학 계수 측정방법
43 43
다중 파장의 광신호를 출력하는 광원; 상기 광원으로부터 입력되는 광신호를 2개로 분배하는 광신호 분배수단, 분배된 광신호 중 어느 하나를 수신하는 기준팔, 분배된 두 광신호 중 다른 하나를 수신하며 측정대상인 광 샘플이 연결되어 상기 광 샘플에 열을 가하는 샘플팔, 상기 기준팔 및 상기 샘플팔을 거쳐 출력되는 광신호들을 결합하여 상호 간섭시키는 광신호 결합수단을 포함하는 광 간섭계; 및 상기 광 간섭계에서 간섭된 광신호를 전달받아 스펙트럼을 분석하는 광 스펙트럼 분석장치;를 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정시스템을 이용하여 열광학 계수를 측정하는 방법으로서, 상기 광 샘플에 열이 가해지지 않은 상태에서 상기 간섭계를 통과하여 출력되는 스펙트럼을 측정하고, 파장을 주파수로 바꾸어 주파수 스펙트럼을 얻는 기준 스펙트럼 획득단계; 상기 기준 스펙트럼 획득단계와 동일하게 열이 가해지지 않은 상태에서, 상기 간섭계의 두 팔 중 하나만을 교번적으로 막아 빛통과를 차단하고, 차단하지 않은 팔의 스펙트럼을 측정한 후, 이들 스펙트럼을 상기 기준 스펙트럼 획득단계에서 얻어진 스펙트럼으로부터 제외하고 정규화(normalize)하여 간섭무늬 스펙트럼을 구하는 기준 간섭무늬 획득단계; 상기 기준 간섭무늬 획득단계에서 얻어진 간섭무늬 스펙트럼을 이용하여 미리 정해진 기준주파수로부터의 주파수 변화에 따른 위상차이값을 계산하는 기준 위상차 계산단계; 상기 광 샘플에 열이 가해진 상태에서, 상기 간섭계를 통과하여 나오는 스펙트럼을 측정하고 파장을 주파수로 바꾸어 주파수 스펙트럼을 얻는 대조 스펙트럼 획득단계; 상기 대조 스펙트럼 획득단계와 동일하게 열이 가해진 상태에서, 상기 간섭계의 두 팔 중 하나만을 교번적으로 막아 빛통과를 차단하고, 차단하지 않은 팔의 스펙트럼을 측정한 후, 이들 스펙트럼을 상기 대조 스펙트럼 획득단계에서 얻어진 스펙트럼으로부터 제외하고 정규화(normalize)하여 간섭무늬 스펙트럼을 구하는 대조 간섭무늬 획득단계; 상기 대조 간섭무늬 획득단계에서 얻어진 간섭무늬 스펙트럼을 이용하여 미리 정해진 기준 주파수로부터의 주파수 변화에 따른 위상 차이값을 계산하는 대조 위상차 계산단계; 상기 기준 위상차 계산단계 및 상기 대조 위상차 계산단계 각각에 대해서 계산된 주파수 변화에 따른 위상차이 값을 데이터 피팅(data fitting)하여 각각의 피팅 함수를 결정하는 피팅 함수 결정단계; 및 상기 피팅 함수 결정단계에서 결정된 피팅 함수들을 이용하여 임의의 주파수()에서의 기준 위상차 값()과 대조 위상차 값()을 구하고, 상기 기준 위상차값 및 상기 대조 위상차값 간의 차이값()과, Sellmeier 공식을 통해 산출된 굴절률 값이나 측정된 굴절률 값 및 그리고 기존에 알려지거나 측정된 열팽창 계수를 이용하여 열광학 계수 값을 계산하는 광학 계수 계산단계; 를 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정방법
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다중 파장의 광신호를 출력하는 광원; 상기 광원으로부터 입력되는 광신호를 2개로 분배하는 광신호 분배수단, 분배된 광신호 중 어느 하나를 수신하는 기준팔, 분배된 두 광신호 중 다른 하나를 수신하며 측정대상인 광 샘플이 연결되어 상기 광 샘플에 열을 가하는 샘플팔, 상기 기준팔 및 상기 샘플팔을 거쳐 출력되는 광신호들을 결합하여 상호 간섭시키는 광신호 결합수단을 포함하는 광 간섭계; 및 상기 광 간섭계에서 간섭된 광신호를 전달받아 스펙트럼을 분석하는 광 스펙트럼 분석장치;를 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정시스템을 이용하여 열광학 계수를 측정하는 방법으로서, 상기 광 샘플에 열이 가해지지 않은 상태에서 상기 간섭계를 통과하여 출력되는 스펙트럼을 측정하고, 파장을 주파수로 바꾸어 주파수 스펙트럼을 얻는 기준 스펙트럼 획득단계; Hilbert 변환에 의한 광 신호 세기 분포 계산값을 상기 기준 스펙트럼 획득단계에서 획득한 주파수 스펙트럼으로부터 제외하고 정규화(normalize)하여 간섭무늬 스펙트럼을 구하는 기준 간섭무늬 획득단계; 상기 기준 간섭무늬 획득단계에서 얻어진 간섭무늬 스펙트럼을 이용하여 미리 정해진 기준주파수로부터의 주파수 변화에 따른 위상차이값을 계산하는 기준 위상차 계산단계; 상기 광 샘플에 열이 가해진 상태에서, 상기 간섭계를 통과하여 나오는 스펙트럼을 측정하고 파장을 주파수로 바꾸어 주파수 스펙트럼을 얻는 대조 스펙트럼 획득단계; Hilbert 변환에 의한 광 신호 세기 분포 계산값을 상기 대조 스펙트럼 획득단계에서 획득한 주파수 스펙트럼으로부터 제외하고 정규화(normalize)하여 간섭무늬 스펙트럼을 구하는 대조 간섭무늬 획득단계; 상기 대조 간섭무늬 획득단계에서 얻어진 간섭무늬 스펙트럼을 이용하여 미리 정해진 기준 주파수로부터의 주파수 변화에 따른 위상 차이값을 계산하는 대조 위상차 계산단계; 상기 기준 위상차 계산단계 및 상기 대조 위상차 계산단계 각각에 대해서 계산된 주파수 변화에 따른 위상차이 값을 데이터 피팅(data fitting)하여 각각의 피팅 함수를 결정하는 피팅 함수 결정단계; 및 상기 피팅 함수 결정단계에서 결정된 피팅 함수들을 이용하여 임의의 주파수()에서의 기준 위상차 값()과 대조 위상차 값()을 구하고, 상기 기준 위상차값 및 상기 대조 위상차값 간의 차이값()과, Sellmeier 공식을 통해 산출된 굴절률 값이나 측정된 굴절률 값 및 그리고 기존에 알려지거나 측정된 열팽창 계수를 이용하여 열광학 계수 값을 계산하는 광학 계수 계산단계; 를 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정방법
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제 43항 또는 제 44항에 있어서, 상기 기준 스펙트럼 획득단계 또는 대조 스펙트럼 획득단계 이전에, 상기 광 스펙트럼 분석장치에서 측정되는 스펙트럼이 상기 간섭된 광신호의 특성을 상대적으로 잘 나타낸 상태가 되도록 상기 기준팔의 광신호 전송길이를 조절하는 전송길이 조절단계; 를 더 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정방법
46 46
제 45항에 있어서, 상기 간섭된 광신호의 특성을 상대적으로 잘 나타낸 상태는, 간섭무늬의 가시도(visibility)가 가장 큰 상태인 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정방법
47 47
제 45항에 있어서, 상기 광 샘플이 복굴절률을 갖는 경우, 이중 간섭무늬가 측정되도록 상기 광 샘플로 조사되는 광 신호의 편광과 상기 기준팔의 광신호 전송길이를 조절하는 조절단계; 일정한 간격의 스펙트럼을 구하기 위해 상기 기준 스펙트럼 획득단계 및 대조 스펙트럼 획득단계에서 획득된 스펙트럼을 보간(interporation)하는 보간단계; 푸리에변환과 필터링, 역푸리에 과정을 이용하여 보간된 스펙트럼으로부터 정상 굴절빔과 비정상 굴절빔에 대한 간섭무늬로 구분해내는 간섭무늬 구분단계; 를 더 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정방법
48 48
다중 파장의 광신호를 출력하는 광원; 상기 광원으로부터 입력되는 광신호를 2개로 분배하고, 분배한 방향으로부터 되돌아오는 두 광신호들을 결합하여 상호 간섭시키는 광신호 분배결합수단, 분배된 두 광신호 중 어느 하나를 반사하여 상기 광신호 분배결합수단으로 되돌려보내는 기준팔, 분배된 광신호 중 다른 하나를 측정대상인 광 샘플에 투과시킨 후 반사하여 상기 광신호 분배결합수단으로 되돌려보내며 상기 광 샘플에 열을 가하는 샘플팔을 포함하는 광 간섭계; 및 상기 광 간섭계에서 간섭된 광신호를 전달받아 스펙트럼을 분석하는 광 스펙트럼 분석장치;를 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정시스템을 이용하여 열광학 계수를 측정하는 방법으로서, 상기 광 샘플에 열이 가해지지 않은 상태에서 상기 간섭계를 통과하여 출력되는 스펙트럼을 측정하고, 파장을 주파수로 바꾸어 주파수 스펙트럼을 얻는 기준 스펙트럼 획득단계; 상기 기준 스펙트럼 획득단계와 동일하게 열이 가해지지 않은 상태에서, 상기 간섭계의 두 팔 중 하나만을 교번적으로 막아 빛통과를 차단하고, 차단하지 않은 팔의 스펙트럼을 측정한 후, 이들 스펙트럼을 상기 기준 스펙트럼 획득단계에서 얻어진 스펙트럼으로부터 제외하고 정규화(normalize)하여 간섭무늬 스펙트럼을 구하는 기준 간섭무늬 획득단계; 상기 기준 간섭무늬 획득단계에서 얻어진 간섭무늬 스펙트럼을 이용하여 미리 정해진 기준주파수로부터의 주파수 변화에 따른 위상차이값을 계산하는 기준 위상차 계산단계; 상기 광 샘플에 열이 가해진 상태에서, 상기 간섭계를 통과하여 나오는 스펙트럼을 측정하고 파장을 주파수로 바꾸어 주파수 스펙트럼을 얻는 대조 스펙트럼 획득단계; 상기 대조 스펙트럼 획득단계와 동일하게 열이 가해진 상태에서, 상기 간섭계의 두 팔 중 하나만을 교번적으로 막아 빛통과를 차단하고, 차단하지 않은 팔의 스펙트럼을 측정한 후, 이들 스펙트럼을 상기 대조 스펙트럼 획득단계에서 얻어진 스펙트럼으로부터 제외하고 정규화(normalize)하여 간섭무늬 스펙트럼을 구하는 대조 간섭무늬 획득단계; 상기 대조 간섭무늬 획득단계에서 얻어진 간섭무늬 스펙트럼을 이용하여 미리 정해진 기준 주파수로부터의 주파수 변화에 따른 위상 차이값을 계산하는 대조 위상차 계산단계; 상기 기준 위상차 계산단계 및 상기 대조 위상차 계산단계 각각에 대해서 계산된 주파수 변화에 따른 위상차이 값을 데이터 피팅(data fitting)하여 각각의 피팅 함수를 결정하는 피팅 함수 결정단계; 및 상기 피팅 함수 결정단계에서 결정된 피팅 함수들을 이용하여 임의의 주파수()에서의 기준 위상차 값()과 대조 위상차 값()을 구하고, 상기 기준 위상차값 및 상기 대조 위상차값 간의 차이값()과, Sellmeier 공식을 통해 산출된 굴절률 값이나 측정된 굴절률 값 및 그리고 기존에 알려지거나 측정된 열팽창 계수를 이용하여 열광학 계수 값을 계산하는 광학 계수 계산단계; 를 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정방법
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다중 파장의 광신호를 출력하는 광원; 상기 광원으로부터 입력되는 광신호를 2개로 분배하고, 분배한 방향으로부터 되돌아오는 두 광신호들을 결합하여 상호 간섭시키는 광신호 분배결합수단, 분배된 두 광신호 중 어느 하나를 반사하여 상기 광신호 분배결합수단으로 되돌려보내는 기준팔, 분배된 광신호 중 다른 하나를 측정대상인 광 샘플에 투과시킨 후 반사하여 상기 광신호 분배결합수단으로 되돌려보내며 상기 광 샘플에 열을 가하는 샘플팔을 포함하는 광 간섭계; 및 상기 광 간섭계에서 간섭된 광신호를 전달받아 스펙트럼을 분석하는 광 스펙트럼 분석장치;를 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정시스템을 이용하여 열광학 계수를 측정하는 방법으로서, 상기 광 샘플에 열이 가해지지 않은 상태에서 상기 간섭계를 통과하여 출력되는 스펙트럼을 측정하고, 파장을 주파수로 바꾸어 주파수 스펙트럼을 얻는 기준 스펙트럼 획득단계; Hilbert 변환에 의한 광 신호 세기 분포 계산값을 상기 기준 스펙트럼 획득단계에서 획득한 주파수 스펙트럼으로부터 제외하고 정규화(normalize)하여 간섭무늬 스펙트럼을 구하는 기준 간섭무늬 획득단계; 상기 기준 간섭무늬 획득단계에서 얻어진 간섭무늬 스펙트럼을 이용하여 미리 정해진 기준주파수로부터의 주파수 변화에 따른 위상차이값을 계산하는 기준 위상차 계산단계; 상기 광 샘플에 열이 가해진 상태에서, 상기 간섭계를 통과하여 나오는 스펙트럼을 측정하고 파장을 주파수로 바꾸어 주파수 스펙트럼을 얻는 대조 스펙트럼 획득단계; Hilbert 변환에 의한 광 신호 세기 분포 계산값을 상기 대조 스펙트럼 획득단계에서 획득한 주파수 스펙트럼으로부터 제외하고 정규화(normalize)하여 간섭무늬 스펙트럼을 구하는 대조 간섭무늬 획득단계; 상기 대조 간섭무늬 획득단계에서 얻어진 간섭무늬 스펙트럼을 이용하여 미리 정해진 기준 주파수로부터의 주파수 변화에 따른 위상 차이값을 계산하는 대조 위상차 계산단계; 상기 기준 위상차 계산단계 및 상기 대조 위상차 계산단계 각각에 대해서 계산된 주파수 변화에 따른 위상차이 값을 데이터 피팅(data fitting)하여 각각의 피팅 함수를 결정하는 피팅 함수 결정단계; 및 상기 피팅 함수 결정단계에서 결정된 피팅 함수들을 이용하여 임의의 주파수()에서의 기준 위상차 값()과 대조 위상차 값()을 구하고, 상기 기준 위상차값 및 상기 대조 위상차값 간의 차이값()과, Sellmeier 공식을 통해 산출된 굴절률 값이나 측정된 굴절률 값 및 그리고 기존에 알려지거나 측정된 열팽창 계수를 이용하여 열광학 계수 값을 계산하는 광학 계수 계산단계; 를 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정방법
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제 48항 또는 제 49항에 있어서, 상기 기준 스펙트럼 획득단계 또는 대조 스펙트럼 획득단계 이전에, 상기 광 스펙트럼 분석장치에서 측정되는 스펙트럼이 상기 간섭된 광신호의 특성을 상대적으로 잘 나타낸 상태가 되도록 상기 기준팔의 광신호 전송길이를 조절하는 전송길이 조절단계; 를 더 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정방법
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제 50항에 있어서, 상기 간섭된 광신호의 특성을 상대적으로 잘 나타낸 상태는, 간섭무늬의 가시도(visibility)가 가장 큰 상태인 것을 특징으로 하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정방법
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제 50항에 있어서, 상기 광 샘플이 복굴절률을 갖는 경우, 이중 간섭무늬가 측정되도록 상기 광 샘플로 조사되는 광 신호의 편광과 상기 기준팔의 광신호 전송길이를 조절하는 조절단계; 일정한 간격의 스펙트럼을 구하기 위해 상기 기준 스펙트럼 획득단계 및 대조 스펙트럼 획득단계에서 획득된 스펙트럼을 보간(interporation)하는 보간단계; 푸리에변환과 필터링, 역푸리에 과정을 이용하여 보간된 스펙트럼으로부터 정상 굴절빔과 비정상 굴절빔에 대한 간섭무늬로 구분해내는 간섭무늬 구분단계; 를 더 포함하는 간섭무늬 측정을 이용한 열광학 계수 측정방법
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제 33항, 제 34항, 제 38항, 제 39항, 제 43항, 제 44항, 제 48항 및 제 49항 중 어느 한 항의 방법을 실행시키기 위한 프로그램을 기록한 컴퓨터로 판독이 가능한 매체
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