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전도성 폴리머를 이용한 나노선의 밀도조절 방법

  • 기술번호 : KST2015157783
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 전도성 폴리머를 이용한 나노선의 밀도조절 방법을 개시한다. 상기 전도성 폴리머를 이용한 나노선의 밀도조절 방법은 기판 위에 상기 씨드 레이어 및 전극층으로 쓰일 투명 전도막(AZO)를 제공하는 기판 제공단계, 상기 기판 상에 형성된 상기 투명전극에 바이어스를 인가한 후, 상기 씨드 레이어 상부에 에어브러쉬를 이용하여 다수의 전도성 폴리머들이 균일하게 증착되도록 분사시키는 분사 단계, 상기 기판 상에 열처리 공정을 수행하는 열처리 단계, 상기 기판상에 액상 합성법을 이용하여 나노선을 합성하는 합성 단계 및 상기 전도성 폴리머를 제거하는 제거 단계를 포함한다.
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) B82B 3/00 (2006.01)
CPC H01L 21/02603(2013.01) H01L 21/02603(2013.01) H01L 21/02603(2013.01)
출원번호/일자 1020100140471 (2010.12.31)
출원인 인하대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1264382-0000 (2013.05.08)
공개번호/일자 10-2012-0078241 (2012.07.10) 문서열기
공고번호/일자 (20130514) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.12.31)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 인하대학교 산학협력단 대한민국 인천광역시 미추홀구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 노임준 대한민국 인천광역시 남구
2 신백균 대한민국 인천광역시 연수구
3 박동화 대한민국 서울시 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 제이원시스템 경기도 화성시
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.12.31 수리 (Accepted) 1-1-2010-0880835-30
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2012.02.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2012.03.23 수리 (Accepted) 9-1-2012-0023545-15
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.01.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0031027-36
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.01.31 수리 (Accepted) 1-1-2013-0094552-58
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.01.31 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0094553-04
7 등록결정서
Decision to grant		 2013.05.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0311411-56
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.07.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5098802-16
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2016.09.05 수리 (Accepted) 4-1-2016-5127132-49
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5036549-31
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266647-91
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 위에 씨드 레이어와 투명전극층의 역할을 동시에 수행하는 투명 전도막인 Al doped ZnO(AZO)를 제공하는 기판 제공단계;상기 기판 상에 형성된 투명전극층에 바이어스를 인가한 후, 상기 씨드 레이어 상부에 에어브러쉬를 이용하여 다수의 전도성 폴리머들이 균일한 도트(dot) 형태로 증착되도록 분사시키는 분사 단계;상기 기판 상에 열처리 공정을 수행하는 열처리 단계;상기 기판상에 액상 합성법을 이용하여 나노선을 합성하는 합성 단계; 및상기 전도성 폴리머를 제거하는 제거 단계를 포함하는 전도성 폴리머를 이용한 나노선 제조 방법
2 2
제1항에 있어서,상기 분사 단계는,상기 전도성 폴리머를 성장시키도록 상기 에어브러쉬를 이용하는 단계인 것을 특징으로 하는 전도성 폴리머를 이용한 나노선 제조 방법
3 3
제1항에 있어서,상기 분사 단계는,상기 전도성 폴리머를 PDOT : PSS를 분사시키는 단계인 것을 특징으로 전도성 폴리머를 이용한 나노선 제조 방법
4 4
제1항에 있어서,상기 합성 단계는,상기 기판 상에 기체 합성법을 이용하여 수행하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 폴리머를 이용한 나노선 제조 방법
5 5
제1항에 있어서,상기 제거 단계는,아세톤을 이용하여 제거하는 단계인 것을 특징으로 하는 전도성 폴리머를 이용한 나노선 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.