맞춤기술찾기

이전대상기술

실리콘 나노 구조물을 이용한 발광다이오드

  • 기술번호 : KST2015158122
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 실리콘 나노 구조물을 이용한 발광다이오드가 개시된다. 발광다이오드는 발광 다이오드부 및 발광 다이오드부의 상층부인 표면에 적층된 실리콘 나노 구조물을 포함한다. 실리콘 나노 구조물은 상층부 표면 일부에 적층된 제 2전극층과 각각 전기적으로 접촉되는 복수의 실리콘 나노선을 포함하고, 복수의 실리콘 나노선으로부터 이격된 나노돗 집합체를 더 포함하며, 나노돗 집합체는 복수의 나노돗으로 이루어진다.
Int. CL H01L 33/36 (2010.01) H01L 33/38 (2010.01)
CPC H01L 33/40(2013.01) H01L 33/40(2013.01) H01L 33/40(2013.01)
출원번호/일자 1020130150137 (2013.12.04)
출원인 인하대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1604360-0000 (2016.03.11)
공개번호/일자 10-2015-0065055 (2015.06.12) 문서열기
공고번호/일자 (20160317) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.12.04)
심사청구항수 9

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 인하대학교 산학협력단 대한민국 인천광역시 미추홀구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 오범환 대한민국 인천 연수구
2 안신모 대한민국 인천 남구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 인하대학교 산학협력단 인천광역시 미추홀구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.12.04 수리 (Accepted) 1-1-2013-1111802-46
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.06.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.07.10 수리 (Accepted) 9-1-2014-0055044-16
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.11.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0810082-88
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.01.26 수리 (Accepted) 1-1-2015-0079899-57
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.02.26 수리 (Accepted) 1-1-2015-0190898-38
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.03.06 수리 (Accepted) 1-1-2015-0222622-40
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.03.06 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0222621-05
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.07.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0467198-52
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.07.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5098802-16
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.09.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0891805-12
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.09.14 수리 (Accepted) 1-1-2015-0891804-66
13 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.11.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0822675-13
14 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.12.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-1283633-39
15 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.12.29 수리 (Accepted) 1-1-2015-1283613-26
16 등록결정서
Decision to grant
2016.03.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0180017-44
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.09.05 수리 (Accepted) 4-1-2016-5127132-49
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5036549-31
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266647-91
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
일부의 리세스된 표면층을 구비한 n형 반도체층;상기 리세스된 표면층에 적층된 제 1전극층;상기 리세스된 표면층을 제외한 n형 반도체층에 적층된 발광층;상기 발광층에 적층된 p형 반도체층; 및상기 p형 반도체층에 적층된 실리콘 나노 구조물을 포함하되,상기 실리콘 나노 구조물은 상기 p형 반도체층 일부에 적층된 제 2전극층과 각각 전기적으로 접촉되면서, 이격되어 배열된 복수의 실리콘 나노선 다발을 포함하고, 상기 실리콘 나노선 다발 각각은 평행하게 배열되어 있는 복수의 실리콘 나노선을 포함하며, 상기 복수의 실리콘 나노선 각각은 폭이 1/20 λ 내지 λ (λ 는 중심방출 파장)이며, 상기 복수의 실리콘 나노선 각각은 1/10 λ 내지 10 λ (λ 는 중심방출 파장)만큼 이격되어 배열되는 것을 특징으로 하는 실리콘 나노 구조물을 이용한 발광다이오드
2 2
삭제
3 3
일부의 리세스된 표면층을 구비한 n형 반도체층;상기 리세스된 표면층에 적층된 제 1전극층;상기 리세스된 표면층을 제외한 n형 반도체층에 적층된 발광층;상기 발광층에 적층된 p형 반도체층; 및상기 p형 반도체층에 적층된 실리콘 나노 구조물을 포함하되,상기 실리콘 나노 구조물은 상기 p형 반도체층 일부에 적층된 제 2전극층과 각각 전기적으로 접촉되는 복수의 실리콘 나노선을 포함하며, 상기 복수의 실리콘 나노선 각각은 폭이 1/20 λ 내지 λ (λ 는 중심방출 파장)이며, 상기 복수의 실리콘 나노선 각각은 1/10 λ 내지 10 λ (λ 는 중심방출 파장)만큼 이격되어 배열되고, 상기 복수의 실리콘 나노선은 서로 교차하여 격자무늬 형태를 이루는 것을 특징으로 하는 실리콘 나노 구조물을 이용한 발광다이오드
4 4
제 3항에 있어서,상기 복수의 실리콘 나노선은 평행하게 배열되는 것을 특징으로 하는 실리콘 나노 구조물을 이용한 발광다이오드
5 5
삭제
6 6
삭제
7 7
삭제
8 8
제 1항에 있어서, 상기 실리콘 나노 구조물은 상기 복수의 실리콘 나노선 다발로부터 이격된 나노돗 집합체를 더 포함하며, 상기 나노돗 집합체는 복수의 나노돗으로 이루어지며, 상기 복수의 나노돗 각각은 크기가 1/20 λ 내지 1/10 λ(λ는 중심방출 파장)이고, 1/10 λ 내지 10 λ (λ 는 중심방출 파장)만큼 이격되어 배열되는 것을 특징으로 하는 실리콘 나노 구조물을 이용한 발광다이오드
9 9
일부의 리세스된 표면층을 구비한 n형 반도체층;상기 리세스된 표면층에 적층된 제 1전극층;상기 리세스된 표면층을 제외한 n형 반도체층에 적층된 발광층;상기 발광층에 적층된 p형 반도체층; 및상기 p형 반도체층에 적층된 실리콘 나노 구조물을 포함하되, 상기 나노 구조물은 상기 p형 반도체층 일부에 적층된 제 2전극층을 포함하고,상기 제 1전극층은,상기 n형 반도체층 표면 일부에 적층된 제 1패드부; 및상기 제 1패드부로부터 연장되는 제1핑거부를 포함하고,상기 제 2전극층은,상기 p형 반도체층 표면 일부에 적층된 제 2패드부; 및상기 제2패드부로부터 연장되는 제2핑거부를 포함하고,상기 실리콘 나노 구조물은 상기 제2핑거부로부터 연결되는 복수의 실리콘 나노선을 포함하며, 상기 복수의 실리콘 나노선 각각은 폭이 1/20 λ 내지 λ (λ 는 중심방출 파장)이며, 상기 복수의 실리콘 나노선 각각은 1/10 λ 내지 10 λ (λ 는 중심방출 파장)만큼 이격되어 배열되는 것을 특징으로 하는 실리콘 나노 구조물을 이용한 발광다이오드
10 10
삭제
11 11
삭제
12 12
제 9항에 있어서, 상기 실리콘 나노 구조물은 상기 복수의 실리콘 나노선으로부터 이격된 나노돗 집합체를 더 포함하며, 상기 나노돗 집합체는 복수의 나노돗으로 이루어지며, 상기 복수의 나노돗 각각은 크기가 1/20 λ 내지 1/10 λ(λ는 중심방출 파장)이고, 1/10 λ 내지 10 λ (λ 는 중심방출 파장)만큼 이격되어 배열되는 것을 특징으로 하는 실리콘 나노 구조물을 이용한 발광다이오드
13 13
제 1항, 제3항, 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제 2 전극층은,상기 p형 반도체층 표면 일부에 적층되는 실리콘 패드층; 및상기 실리콘 패드층에 적층된 금속 패드층을 포함하는 실리콘 나노 구조물을 이용한 발광다이오드
14 14
제 13항에 있어서,상기 제 2 전극층은 실리콘 패드층 및 금속 패드층 사이에 게재되는 실리사이드층을 더 포함하는 실리콘 나노 구조물을 이용한 발광다이오드
15 15
제 1항, 제3항, 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 실리콘 나노 구조물은 불순물을 포함하고, 상기 포함된 불순물은 3족 또는 5족 원소인 것을 특징으로 하는 실리콘 나노 구조물을 이용한 발광다이오드
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 인하대학교 산학협력단 IT융합 고급인력과정 지원사업 고성능 LED 조명모듈 핵심기술