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볼록부와 오목부가 형성된 고분자 몰드를 준비하는 단계(단계 1);폴리(퍼플루오로알킬 메타크릴레이트)(Poly(perfluoroalkyl methacrylate) 또는 폴리(퍼플루오로알킬 아크릴레이트)(Poly(perfluoroalkyl acrylate)를 포함하는 고분자 용액을 준비하는 단계(단계 2);상기 단계 1에서 준비된 고분자 몰드에 상기 단계 2에서 준비된 고분자 용액을 도포하여 고분자 몰드의 볼록부 표면에 고분자 층을 형성하는 단계(단계 3); 및상기 단계 3에서 고분자 층이 형성된 고분자 몰드를 기판에 접촉시켜 고분자 몰드의 볼록부 표면에 형성된 고분자 층을 전사하는 단계(단계 4);를 포함하는 패턴의 형성방법
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제1항에 있어서,상기 단계 1의 고분자 몰드는 하드-폴리디메틸실록세인(h-PDMS) 몰드 또는 소프트-폴리디메틸실록세인(s-PDMS) 몰드인 것을 특징으로 하는 패턴의 형성방법
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3
제1항에 있어서,상기 단계 2의 고분자는 폴리(1H,1H,2H,2H-퍼플루오로데실 메타크릴레이트)(Poly(1H,1H,2H,2H-Perfluorodecyl methacrylate, PFDMA))인 것을 특징으로 하는 패턴의 형성방법
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제1항에 있어서,상기 단계 2의 고분자 용액은 플루오르계 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴의 형성방법
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제4항에 있어서,상기 플루오르계 용매는 하이드로플루오로에테르(Hydrofluoroether, HFE)인 것을 특징으로 하는 패턴의 형성방법
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제1항에 있어서,상기 단계 2의 폴리(퍼플루오로알킬 메타크릴레이트)(Poly(perfluoroalkyl methacrylate) 또는 폴리(퍼플루오로알킬 아크릴레이트)(Poly(perfluoroalkyl acrylate)의 함량은 전체 고분자 용액에 대하여 1 내지 25 중량%인 것을 특징으로 하는 패턴의 형성방법
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제1항에 있어서,상기 단계 4의 기판은 실리콘 기판, 유리 기판, 폴리 메틸 메타크릴레이트(Poly methyl methacrylate, PMMA) 기판, 폴리 비닐 피롤리돈(Poly vinyl pirrolidone, PVP) 기판 및 폴리스타이렌(Polystyrene, PS) 기판으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종인 것을 특징으로 하는 패턴의 형성방법
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8
제1항에 있어서,상기 단계 4에서 전사되어 형성된 패턴의 두께는 10 내지 500 nm인 것을 특징으로 하는 패턴의 형성방법
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볼록부와 오목부가 형성된 고분자 몰드를 준비하는 단계(단계 1);폴리(퍼플루오로알킬 메타크릴레이트)(Poly(perfluoroalkyl methacrylate) 또는 폴리(퍼플루오로알킬 아크릴레이트)(Poly(perfluoroalkyl acrylate) 고분자 용액을 준비하는 단계(단계 2);상기 단계 1에서 준비된 고분자 몰드에 상기 단계 2에서 준비된 고분자 용액을 도포하여 고분자 몰드의 볼록부 표면 및 오목부 내부에 고분자 층을 형성하는 단계(단계 3);상기 단계 3에서 고분자 층이 형성된 고분자 몰드를 기판에 접촉시켜 고분자 몰드의 볼록부 표면에 형성된 고분자 층을 전사하는 단계(단계 4); 및상기 단계 4가 수행된 고분자 몰드를 사용하여 새로운 기판에 접촉시키고, 압력을 가하여 고분자 몰드의 오목부 내부에 형성된 고분자 층을 전사하는 단계(단계 4);를 포함하는 패턴의 형성방법
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제1항 또는 제12항의 패턴 형성방법으로 패턴이 형성된 기판
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