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1
하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하는 폴리벤즈이미다졸계 고분자:
[화학식 1]
(상기 화학식 1에서, L은 -O-, -S(=O)2-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -C(CH3)2- 및 -C(CF3)2- 중에서 선택되며, Ar은 페닐(phenyl)기임)
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2 |
2
제1항에 있어서, 하기 화학식 2로 표시되는 반복단위 또는 하기 화학식 3으로 표시되는 반복단위를 추가로 포함하는 것이 특징인 폴리벤즈이미다졸계 고분자:
[화학식 2]
(상기 화학식 2에서 R은 , , , , , 중에서 선택됨);
[화학식 3]
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3 |
3
제1항에 있어서, 하기 화학식 4로 표시되는 고분자, 하기 화학식 5로 표시되는 고분자 및 하기 화학식 6으로 표시되는 고분자로 이루어진 군에서 선택된 폴리벤즈이미다졸계 고분자:
[화학식 4]
;
[화학식 5]
;
[화학식 6]
(상기 화학식 4 내지 화학식 6에서, L은 -O-, -S(=O)2-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -C(CH3)2- 및 -C(CF3)2- 중에서 선택되며, Ar은 페닐(phenyl)기이고, R은 , , , , , 중에서 선택되며, n은 2 내지 10,000이고, X와 Y는 각각 독립적으로 1 내지 10,000이고, X와 Y의 몰비율은 1~99:99~1임)
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4 |
4
제3항에 있어서, 상기 화학식 4로 표시되는 고분자는 하기 반응식 1에 의해 제조될 수 있는 것이 특징인 폴리벤즈이미다졸계 고분자:
[반응식 1]
(상기 반응식 1에서, L은 -O-, -S(=O)2-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -C(CH3)2- 및 -C(CF3)2- 중에서 선택되며, Ar은 페닐(phenyl)기임)
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5 |
5
제3항에 있어서, 상기 화학식 5로 표시되는 고분자는 하기 반응식 2에 의해 제조될 수 있는 것이 특징인 폴리벤즈이미다졸계 고분자:
[반응식 2]
(상기 반응식 2에서, L은 -O-, -S(=O)2-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -C(CH3)2- 및 -C(CF3)2- 중에서 선택되며, Ar은 페닐(phenyl)기이고, R은 , , , , 및 중에서 선택됨)
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6 |
6
제5항에 있어서, 상기 반응식 2에서 사용되는 HOOC-R-COOH는 테레프탈릭산, 이소프탈릭산(isophthalic acid), 프탈릭산(phthalic acid), 1,4-나프탈렌다이카르복시산, 2,6-나프탈렌다이카르복시산 및 4,4'-바이페닐다이카르복사산으로 이루어진 군에서 선택되는 것이 특징인 폴리벤즈이미다졸계 고분자
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7 |
7
제3항에 있어서, 상기 화학식 6으로 표시되는 고분자는 하기 반응식 3에 의해 제조될 수 있는 것이 특징인 폴리벤즈이미다졸계 고분자:
[반응식 3]
(상기 반응식 3에서 L은 -O-, -S(=O)2-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -C(CH3)2- 및 -C(CF3)2- 중에서 선택되며, Ar은 페닐(phenyl)기임)
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8 |
8
제4항, 제5항 및 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 은 페닐알콕시테레프탈릭산, 5-페닐알콕시이소프탈릭산, 페닐설포닐테레프탈릭산, 5-페닐설포닐이소프탈릭산, 페닐옥소테레프탈릭산, 5-페닐옥소이소프탈릭산, (2-페닐-프로판-2-닐)테레프탈릭산, 5-(2-페닐-프로판-2-닐)이소프탈릭산, (1,1,1,3,3,3-헥사프루오로-2-페닐-프로판-2-닐)테레프탈릭산 및 5-(1,1,1,3,3,3-헥사프루오로-2-페닐-프로판-2-닐)이소프탈릭산으로 이루어진 군으로부터 선택된 것임이 특징인 폴리벤즈이미다졸계 고분자
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9 |
9
제1항에 기재된 고분자를 포함하는 전해질막
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10 |
10
캐소드(cathode); 애노드(anode); 및 제9항에 기재된 전해질 막;을 포함하는 막전극 접합체(membrane electrode assembly: MEA)
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11
제10항의 막전극 접합체를 구비하는 연료전지
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