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유해 폐기물 처리용 고출력 공동형 플라즈마 토치

  • 기술번호 : KST2015160775
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 유기물 또는 무기물 형태로 배출되는 각종 유해 폐기물을 열분해에 의한 완전 소각과 용융고화에 의한 유리화 처리를 할 수 있는 열플라즈마를 발생시키는 플라즈마 토치의 설계와 제작에 관한 것으로, 특히 이 장치의 핵심 구성품인 전극, 기체 주입링, 냉각 라인의 설계 개선과 자기장의 이용 및 방전 특성 해석을 통해서 전극 및 토치수명의 연장, 토치 유지비용 절감 그리고, 처리 대상 폐기물의 다양화를 기할 수 있도록 한 공동형 전극을 가진 고출력 직류 플라즈마 토치 개발에 대한 것이다.
Int. CL H05H 1/26 (2006.01)
CPC H05H 1/3405(2013.01) H05H 1/3405(2013.01) H05H 1/3405(2013.01) H05H 1/3405(2013.01)
출원번호/일자 1020030029925 (2003.05.12)
출원인 재단법인서울대학교산학협력재단
등록번호/일자 10-0631823-0000 (2006.09.27)
공개번호/일자 10-2004-0097587 (2004.11.18) 문서열기
공고번호/일자 (20061004) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2003.05.12)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인서울대학교산학협력재단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 홍상희 대한민국 경기도용인시
2 김근수 대한민국 서울특별시 관악구
3 허민 대한민국 서울특별시마포구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김성헌 대한민국 서울특별시 강남구 도곡로 *** 비봉빌딩 *층(장백국제특허법률사무소)
2 문경진 대한민국 서울시 구로구 디지털로 **길 *, *층 에이스하이엔드타워 *차 ***호(대륙국제특허사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 (주)플라즈닉스 인천광역시 남동구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2003.05.12 수리 (Accepted) 1-1-2003-0167917-64
2 전자문서첨부서류제출서
Submission of Attachment to Electronic Document
2003.05.13 수리 (Accepted) 1-1-2003-5092212-97
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2003.05.21 수리 (Accepted) 4-1-2003-0029386-64
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2004.10.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2004.11.19 수리 (Accepted) 9-1-2004-0071250-34
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2005.04.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0199040-48
7 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2005.06.29 수리 (Accepted) 1-1-2005-0348010-94
8 보정요구서
Request for Amendment
2005.07.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2005-0054965-91
9 서지사항보정서
Amendment to Bibliographic items
2005.07.14 수리 (Accepted) 1-1-2005-0381926-19
10 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2005.07.29 수리 (Accepted) 1-1-2005-0421342-83
11 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2005.08.29 수리 (Accepted) 1-1-2005-5106821-24
12 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2005.09.29 수리 (Accepted) 1-1-2005-0552825-62
13 의견서
Written Opinion
2005.10.29 수리 (Accepted) 1-1-2005-0621279-39
14 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2005.10.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2005-0621281-21
15 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2006.01.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0059477-71
16 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2006.02.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0137550-78
17 등록결정서
Decision to grant
2006.06.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0382169-12
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2008-5015497-73
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.08.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5100909-62
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.20 수리 (Accepted) 4-1-2015-5036045-28
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
열 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 토치에 있어서,속이 비어 있는 원통형 음극(6)과;상기 음극(6)을 지지하며, 음전원과 냉각수를 토치에 공급하는 음극 몸체(1)와;상기 음극(6)과 마주보며 설치된 원통형 양극(15)과;상기 양극(15)의 외주에 설치되어 상기 양극(15)을 지지하는 양극 몸체(9)와;상기 원통형 음극(6)과 상기 원통형 양극(15) 사이에 설치되어 아크 기체를 공급하는 기체 주입링(10)을 포함하는 플라즈마 토치로,상기 기체 주입링(10)의 직경은 상기 원통형 음극(6)의 직경의 2
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서, 상기 양극(15)은 상기 음극(6)보다 길이가 짧고 전극의 직경이 처리 대상물 쪽으로 이동함에 따라 점점 확장되는 형태인 것을 특징으로 하는, 플라즈마 토치
5 5
삭제
6 6
제5항에 있어서, 상기 냉각로는 그 유로가 계단형태(53)로 확장되는 것을 특징으로 하는, 플라즈마 토치
7 7
제1항에 있어서, 상기 플라즈마 토치는 상기 음극(6)과 상기 양극(15)을 절연시켜 주며, 플라즈마 발생을 위한 아크 기체의 통로 역할을 하도록 상기 음극과 상기 양극의 외주에 형성된 절연 부분 I(3)과 절연 부분 II(4)를 더 포함하며, 상기 상기 절연 부분 I(3)과 상기 음극 몸체(1)사이에는 갭이 있어 환형의 관이 형성되는 것을 특징으로 하는, 플라즈마 토치
8 8
제1항에 있어서, 상기 플라즈마 토치에 있어서, 상기 플라즈마 토치를 이루는 부품 중, 상기 플라즈마 토치의 사용에 있어서 공정에 노출되는 부분은 열장벽 코팅처리된 것을 특징으로 하는, 플라즈마 토치
9 9
제1항, 제4항, 제6항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 플라즈마 토치의 부품은 모듈화되어 분리 가능하고 교체가 용이한 것을 특징으로 하는, 플라즈마 토치
10 9
제1항, 제4항, 제6항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 플라즈마 토치의 부품은 모듈화되어 분리 가능하고 교체가 용이한 것을 특징으로 하는, 플라즈마 토치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.