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과산화수소 및 수용성 카보네이트 화합물을 포함하면서, 강산 화합물을 포함하지 않는 혼합 에칭 조성물을 준비하는 단계; 및상기 에칭 조성물에 티타늄 또는 티타늄 합금 재질의 임플란트를 침적하여 산화에칭하는 단계를 포함하며, 상기 산화에칭하는 단계는 마이크로미터 수준의 스폰지 유사 네트워크 구조 및 나노스케일의 연속 또는 불연속 선형태 열린 채널구조의 요철을 상기 임플란트의 표면에 동시에 형성하는 것을 특징으로 하는 임플란트의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 과산화수소는 과산화수소 수용액, 고체 과산화수소, 요소 과산화수소(urea hydrogen peroxide; CO(NH2)·H2O2), 소디움 퍼카보네이트(sodium percarbonate; 2Na2CO3·3H2O2) 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택되는 것인 임플란트의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 수용성 카보네이트 화합물은 바이카보네이트, 카보네이트 화합물 또는 이들의 혼합물인 것인 임플란트의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 혼합 에칭 조성물은 2 내지 8 범위의 pH를 갖는 것인 임플란트의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 티타늄 합금은 알루미늄, 탄탈륨, 니오븀, 바나듐, 지르코늄, 주석, 몰리브덴, 규소, 금, 팔라듐, 구리, 백금 및 은으로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 금속을 추가로 포함하는 것인 임플란트의 제조방법
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제1항에 있어서,산화에칭은 0 내지 30℃에서 수행되는 것인 임플란트의 제조방법
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제1항에 있어서,기계 가공법(machined method), 상압 플라즈마 처리(atmospheric pressure plasma treatment), 진공 플라즈마 처리(vacuum plasma treatment), 고온 플라즈마 처리 (high temperature plasma treatment), 금속비즈 신터링법(metal beads sintering method)), 알칼리처리(alkali treatment), 양극산화법(anodic oxidation method), 이온주입법(ion implantation method) 또는 이들의 조합으로 처리하는 단계를 추가로 포함하는 것인 임플란트의 제조방법
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