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하기 화학식 1의 구조를 가지는 공중합체를 하기 화학식 2의 구조를 가지는 중합체와 반응시켜 제조되는 중합체(A)를 포함하는 지문 검출을 위한 그을음 제거용 조성물:[화학식 1]상기 식에서, R1 및 R2는 각각 -COOH, -CH2-COOH이거나, 또는 R1, R2 및 각각 R1 및 R2가 결합된 탄소와 함께 석시닉 안하이드라이드(succinic anhydride)를 형성하고,n은 5 내지 20의 정수이고, m은 5 내지 20의 정수이고,[화학식 2]상기 식에서, R3는 수소 또는 메틸이고, l은 4 내지 20의 정수이다
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제1항에 있어서, 상기 화학식 1의 구조를 가지는 공중합체와 하기 화학식 2의 구조를 가지는 중합체의 몰 비는 1:4 내지 1:10인 것을 특징으로 하는 조성물
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제1항에 있어서, 상기 그을음 제거용 조성물은 용매로 물을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물
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제1항에 있어서, 상기 중합체(A)는 상기 그을음 제거용 조성물 대비 1 중량% 내지 7 중량%로 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물
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제1항에 있어서, 상기 그을음 제거용 조성물은 분산제 또는 유화제를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물
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제5항에 있어서, 상기 분산제 또는 유화제는 상기 그을음 제거용 조성물 대비 1 중량% 내지 3 중량%로 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물
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제5항에 있어서, 상기 분산제는 폴리비닐알콜, 폴리비닐피롤리돈, 폴리에틸렌이민 및 폴리스티렌-아크릴산 공중합체로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 조성물
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제5항에 있어서, 상기 유화제는 소디움도데실설페이드, 소디움도데실벤젠설포네이트, 폴리에틸렌옥사이드폴리프로필렌옥사이드 삼원공중합체, 도데실트리메틸암모늄브로마이드 및 세틸트리메틸암모늄브로마이드로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 조성물
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