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X-선 발생장치에 있어서,
전자를 발생시키는 음극(cathode);
상기 음극으로부터 방출되는 전자를 집속시켜 전자빔을 방출하는 집속모듈(focusing module);
상기 집속모듈로부터의 전자빔으로 X-선을 발생시키는 타겟(target)부; 및
상기 타겟부로부터의 전자빔을 외부로 방출시키는 윈도우부가 구비되되,
상기 타겟부는, 상기 전자빔이 투과하여 X-선을 방출시키는 투과형 타겟 및 상기 집속모듈과 상기 투과형 타겟 사이에서 선택적으로 상기 전자빔의 진행선상 내에 또는 밖에 위치되어 입사되는 전자빔으로부터 선택적으로 X-선을 방출시키는 반사형 타겟을 포함하는 것을 특징으로 하는 듀얼 X-선 발생 장치
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제 1 항에 있어서,
상기 윈도우부는, 상기 투과형 타겟으로부터 방출되는 X-선을 외부로 방출시키는 투과형 윈도우 및 상기 반사형 타겟으로부터 방출되는 X-선을 외부로 방출시키는 반사형 윈도우를 포함하는 것을 특징으로 하는 듀얼 X-선 발생 장치
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제 2 항에 있어서,
상기 반사형 타겟은, 상기 집속모듈과 상기 투과형 타겟 사이에서 상기 전자빔의 진행방향과 수직방향으로 좌우 이동이 가능하여, 선택적으로 상기 전자빔의 진행선상에 위치되는 것을 특징으로 하는 듀얼 X-선 발생 장치
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제 2 항에 있어서,
상기 반사형 타겟은, 전자빔이 집속되는 끝단이 원추(circular cone) 모양으로 형성되고, 상기 원추의 중심축을 기준으로 회전이 가능한 것을 특징으로 하는 듀얼 X-선 발생 장치
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제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,
상기 반사형 타겟의 하부에 위치하여 상기 반사형 타겟과 같이 이동하며, 상기 반사형 타겟이 전자빔의 진행선상에 위치 시에 상기 투과형 타겟 및 상기 투과형 윈도우를 통해 X-선이 방출되는 것을 차단하기 위한 빔스토퍼(beam stopper)가 형성된 것을 특징으로 하는 듀얼 X-선 발생 장치
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제 2 항에 있어서,
상기 투과형 윈도우 및 상기 반사형 윈도우는, 베릴륨(Be)으로 형성된 것을 특징으로 하는 듀얼 X-선 발생 장치
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7
제 5 항에 있어서,
상기 빔 스토퍼는 X선이 투과할 수 없는 금속 물질을 포함하여 형성된 것을 특징으로 하는 듀얼 X-선 발생 장치
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8
제 1 항에 있어서,
상기 음극은, 텅스텐 필라멘트를 이용한 열전자 방출방식 또는 CNT를 이용한 전계 방출방식을 적용한 것을 특징으로 하는 듀얼 X-선 발생 장치
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9
제 1 항에 있어서,
상기 투과형 타겟과 반사형 타겟은 W, Cu 또는 Mo 중 어느 하나를 표적물질로 포함하는 것을 특징으로 하는 듀얼 X-선 발생 장치
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10
제 2 항에 있어서,
상기 투과형 타겟은, 상기 투과형 윈도우의 상면에 표적물질이 코팅되어 형성된 것을 특징으로 하는 듀얼 X-선 발생 장치
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