1 |
1
진공관 내 필라멘트로부터 방출된 전자가 타겟에 충돌하면서 X선이 발생하는 X선 발생장치의 동작방법에 있어서,
필라멘트에 전류를 인가하여 상기 필라멘트 주위에 전자 구름을 형성하는 제 1 단계; 및
상기 타겟 및 필라멘트에 인가되는 인가전압이 상승하면서 목표 전압에 대해 일정 비율 이상이 되면 집속 전극에 상기 필라멘트와 동일하거나 낮은 전위를 인가하여, 상기 전자구름이 집속하여 상기 타켓에 충돌하도록 하는 제 2 단계
를 포함하는 X선 발생장치의 동작방법
|
2 |
2
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 단계는, 상기 전자 구름이 형성되는 동안 상기 집속 전극에 상기 필라멘트의 전위보다 높은 전위를 인가하여, 상기 전자 구름이 상기 타겟에 대해 발산되거나 상기 필라멘트를 향하도록 하는 것을 특징으로 하는 X선 발생장치의 동작방법
|
3 |
3
제 1 항에 있어서,
상기 제 2 단계는, 상기 필라멘트에 인가되는 전압이 상기 일정 비율 이하인 동안, 상기 집속 전극에 상기 필라멘트보다 높은 전위를 인가하여, 상기 전자 구름이 상기 타겟에 대해 발산되거나 상기 필라멘트를 향하도록 하는 것을 특징으로 하는 X선 발생장치의 동작방법
|
4 |
4
제 1 항에 있어서,
상기 제 2 단계 후, 상기 필라멘트에 인가되는 전압이 하강하면서 상기 일정 비율 이하가 되면, 상기 집속 전극에 상기 필라멘트보다 높은 전위를 인가하여, 상기 전자 구름이 상기 타겟에 대해 발산되거나 상기 필라멘트를 향하도록 하는 것을 특징으로 하는 X선 발생장치의 동작방법
|
5 |
5
제 1 항에 있어서,
상기 일정 비율은 상기 진공관 및 필라멘트에 인가되는 목표 전압 대비 75% 인 것을 특징으로 하는 X선 발생장치의 동작방법
|
6 |
6
제 1 항에 있어서,
상기 제 2 단계는, 상기 집속전극에 상기 필라멘트와 동일하거나 낮은 전위가 인가되는 동안 셔터를 오픈하여 발생된 X선이 외부의 피검체에 조사되도록 하는 것을 특징으로 하는 X선 발생장치의 동작방법
|
7 |
7
필라멘트 및 집속전극을 구비하여, 상기 필라멘트에 인가되는 전류에 의해 생성된 전자 구름을 타겟 초점과 충돌시켜 X선을 발생시키는 X선 튜브; 및
상기 필라멘트에 전압을 인가하고, 상기 필라멘트에 인가되는 전압에 따라 상기 집속전극에 인가되는 전압을 조절하는 고전압 발생장치를 포함하고,
상기 고전압 발생장치는 상기 필라멘트에 인가된 전압이 상승하면서 목표 전압에 대해 일정 비율 이상이 되면 상기 집속 전극에 상기 필라멘트와 동일하거나 낮은 전위를 인가하여 상기 전자 구름이 집속되어 상기 타겟 초점과 충돌하면서 X선이 발생되도록 하는 것을 특징으로 하는 X선 발생장치
|
8 |
8
제 7 항에 있어서,
상기 고전압 발생장치는, 상기 필라멘트로 목표 전압의 75% 이상의 전압이 인가되면 상기 집속전극에 상기 필라멘트와 동일하거나 낮은 전위의 전압을 인가하는 것을 특징으로 하는 X선 발생장치
|
9 |
9
제 7 항에 있어서,
상기 고전압 발생장치는, 상기 필라멘트로 목표 전압의 75% 이하의 전압이 인가되면 상기 집속전극에 상기 필라멘트에 대해 양전위의 전압을 인가하는 것을 특징으로 하는 X선 발생장치
|
10 |
10
제 7 항에 있어서,
상기 X선 튜브는, 상기 필라멘트로 목표 전압의 75% 이상의 전압이 인가되는 동안 상기 X선 튜브 내에서 발생된 X선이 외부로 방출되도록 오픈 상태를 유지하는 셔터를 포함하는 X선 발생장치
|