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탄소나노튜브(CNT) 말단 및 표면에 히드록시기 및 카르복실기를 도입하는 산처리단계를 거쳐 형성된 탄소나노튜브(CNT) 분산액에 실란졸 혼합액을 첨가하여 코팅액을 형성시키되, 상기 실란졸 혼합액에는 불소계 실란이 포함되어 코팅액이 형성되고, 형성된 코팅액을 기질에 도포하여 고화시킴에 의해 형성됨을 특징으로 하는 전도성 초발수 코팅막의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 탄소나노튜브 분산액은 산 처리된 탄소나노튜브(CNT)를 분산용매에 분산시키는 용매분산단계를 거쳐 형성됨을 특징으로 하는 전도성 초발수 코팅막의 제조방법
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제2항에 있어서, 상기 실란졸 혼합액은 테트라알콕시실란류, 트리알콕시실란류, 디알콕시실란류 중 하나 이상이 선택되고, 이에 불소계 실란이 혼합된 후, 이를 용해용매에 녹여 형성됨을 특징으로 하는 전도성 초발수 코팅막의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 기질은 유리, 수정, 글래스 웨이퍼, 실리콘 웨이퍼, 플라스틱으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종으로 이루어진 것을 특징으로 하는 전도성 초발수 코팅막의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 코팅막은 스프레이, 딥코팅, 스핀코팅, 스크린코팅, 잉크젯프린팅, 패드프린팅, 나이프코팅, 키스코팅 및 그라비아코팅 중에서 어느 하나의 방법에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 전도성 초발수 코팅막의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 고화는 열 또는 자외선 경화 방법을 이용하여 고화됨을 특징으로 하는 전도성 초발수 코팅막의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 산처리 단계에서 사용된 산용액은 질산, 염산, 황산, 과산화수소 및 이들의 혼합액 중에 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 전도성 초발수 코팅막의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 탄소나노튜브는 단일벽 탄소나노튜브, 이중벽 탄소나노튜브, 다중벽 탄소나노튜브 및 이들의 혼합물 중에서 선택한 1종으로 이루어짐을 특징으로 하는 전도성 초발수 코팅막의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 용매분산단계에서 사용된 탄소나노튜브 분산용매는 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸알콜, 에틸알콜, 이소프로필알콜, 부틸알콜, 에틸렌글라이콜, 폴리에틸렌글라이콜, 테트라하이드로푸란, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아마이드, N-메틸-2-피롤리돈, 헥산, 사이클로헥사논, 톨루엔, 클로로포름, 증류수, 디클로로벤젠, 디메틸벤젠, 트리메틸벤젠, 피리딘, 메틸나프탈렌, 니트로메탄, 아크릴로니트릴, 옥타데실아민, 아닐린, 디메틸설폭사이드로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 것임을 특징으로 하는 전도성 초발수 코팅막의 제조방법
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제9항에 있어서, 상기 코팅액은, 코팅액의 농도 조절을 위해 희석용매가 첨가됨을 특징으로 하는 전도성 초발수 코팅막의 제조방법
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제10항에 있어서, 상기 희석용매는 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸알콜, 에틸알콜, 이소프로필알콜, 부틸알콜, 에틸렌글라이콜, 폴리에틸렌글라이콜, 테트라하이드로푸란, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아마이드, N-메틸-2-피롤리돈, 헥산, 사이클로헥사논, 톨루엔, 클로로포름, 증류수, 디클로로벤젠, 디메틸벤젠, 트리메틸벤젠, 피리딘, 메틸나프탈렌, 니트로메탄, 아크릴로니트릴, 옥타데실아민, 아닐린, 디메틸설폭사이드, 메틸렌클로라이드 및 이들의 혼합물 중에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 전도성 초발수 코팅막의 제조방법
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제11항에 있어서, 상기 분산용매 및 희석용매는 용해용매로 사용됨을 특징으로 전도성 초발수 코팅막의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 코팅액에는 SiO2, ZrO2, Al2O3, TiO2, SiO2, 금, 은 중 하나 이상의 나노입자가 함유됨을 특징으로 하는 전도성 초발수 코팅막의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 탄소나노튜브는 외경이 30㎚ 이하인 것을 특징으로 하는 전도성 초발수 코팅막의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 실란졸 혼합액에 포함된 실란은,
탄소나노튜브와 실란 혼합물 100 중량부에 대해 30 내지 99 중량부로 첨가됨을 특징으로 하는 전도성 초발수 코팅막의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 코팅막은 물에 대한 접촉각이 150도 이상임을 특징으로 하는 전도성 초발수 코팅막의 제조방법
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제16항에 있어서, 상기 코팅막은 면저항이 106 Ω/sq 이하인 것을 특징으로 하는 전도성 초발수 코팅막의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 불소계 실란은, 트리데카플루오로옥틸트리에톡시실란(tridecafluorooctyltriethoxysilane), 트리플루오로프로필트리메톡시실란(trifluoropropyltrimethoxysilane), 헵타데카플루오로데실트리메톡시실란(heptadecafluorodecyltrimethoxysilane) 및 헵타데카플루오로데실트리이소프로포시실란(heptadecafluorodecyltriisopropoxysilane)로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 전도성 초발수 코팅막의 제조방법
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제1항 내지 제18항 중 어느 하나의 항에 의한 방법으로 형성됨을 특징으로 하는 전도성 초발수 코팅막
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