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이산화티탄 광촉매 및 그 제작방법

  • 기술번호 : KST2015163599
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 광촉매 효율을 보다 향상시킨 이산화티탄 광촉매 및 그 제작방법에 관한 것으로, 에프티오글래스 상면에 에프티오가 결합되어 이루어진 지지체막에 이산화티탄 광촉매층을 형성하되, 금속티탄을 코팅하고 150 내지 200℃의 온도하에서 고온 아노다이징을 수행하거나 또는 이산화티탄 페이스트 도포 후 열처리에 의하여 나노기공이 무정형 방향으로 이루어지는 메조스폰지폼 형태의 광촉매막이 형성되는 이산화티탄 광촉매를 제공하는 것을 기술적 요지로 한다. 그리고 바람직 하기로는 상기 메조스폰지폼은 50마이크로 미터 이하의 두께를 가지고, 나노기공의 내부 직경은 수십 내지 수백 나노미터의 크기로 이루어지도록 한다. 또한 본 발명은, 에프티오글래스와 에프티오로 이루어진 지지체상에 이산화티탄 페이스트를 도포하고 이를 열처리하거나, 금속티탄을 도포후 150 내지 200℃의 고온하에서 아노다이징을 수행하여 이산화티탄 나노기공이 무방향으로 형성되는 메조스폰지폼 형태의 이산화티탄 광촉매층이 형성되도록 하는 이산화티탄 광촉매 제조방법을 제공하는 것을 다른 기술적 요지로 하고 있다. 본 발명에 따르면, 대면적화의 이산화티탄 광촉매의 제작이 가능해져 광촉매효율을 도모할 수 있으며, 애프티오상에 다양한 형태의 광촉매층을 형성할 수 있어 용도에 따라 맞춤형의 광촉매를 제작함으로써 다양한 응용분야에 사용할 수 있는 효과도 있다.
Int. CL B01J 35/04 (2006.01) B01J 37/12 (2006.01) B01J 21/06 (2006.01)
CPC B01J 35/04(2013.01) B01J 35/04(2013.01) B01J 35/04(2013.01) B01J 35/04(2013.01) B01J 35/04(2013.01)
출원번호/일자 1020110125531 (2011.11.29)
출원인 한국전기연구원
등록번호/일자 10-1386195-0000 (2014.04.10)
공개번호/일자 10-2013-0059516 (2013.06.07) 문서열기
공고번호/일자 (20140507) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.11.29)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전기연구원 대한민국 경상남도 창원시 성산구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이원재 대한민국 경상남도 김해시
2 최해영 대한민국 경상남도 창원시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인부경 대한민국 부산광역시 연제구 법원남로**번길 **, *층 (거제동, 대한타워)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전기연구원 경상남도 창원시 성산구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.11.29 수리 (Accepted) 1-1-2011-0945268-44
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.09.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.10.24 수리 (Accepted) 9-1-2012-0079280-56
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.05.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0362995-71
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.07.29 수리 (Accepted) 1-1-2013-0682415-93
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.08.27 수리 (Accepted) 1-1-2013-0780689-51
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.09.27 수리 (Accepted) 1-1-2013-0878786-02
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.09.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0878821-13
9 등록결정서
Decision to grant
2014.01.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0054903-35
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.04 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006987-25
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번호 청구항
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이산화티탄 광촉매에 있어서,에프티오글래스 상면에 에프티오가 결합되어 이루어진 지지체막에 이산화티탄 광촉매층을 형성하되, 금속티탄을 코팅하고 150 내지 200℃의 온도하에서 고온 아노다이징을 수행하거나 또는 이산화티탄 페이스트 도포 후 열처리에 의하여 나노기공이 무방향으로 이루어지는 메조스폰지폼 형태의 광촉매층이 형성되는 것을 특징으로 하는 이산화티탄 광촉매
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제 5항에 있어서, 상기 메조스폰지폼 형태의 광촉매층은 50마이크로 미터 이하의 두께를 가지고, 나노기공의 내부 직경은 수십 내지 수백 나노미터의 크기로 이루어지는 것을 특징으로 하는 이산화티탄 광촉매
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에프티오글래스와 에프티오로 이루어진 지지체상에 이산화티탄 페이스트를 도포하고 이를 열처리하되,상기 이산화티탄 페이스트는 50마이크로미터 이하의 두께로 도포되고, 1시간 가량 100 내지 150℃ 온도로 유지된 후, 200 내지 300℃ 온도로 30분 정도 가열 후, 400 내지 500 ℃ 온도로 1시간 가량 열처리하여 이루어짐을 특징으로 하는 이산화티탄 광촉매 제조방법
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에프티오글래스와 에프티오로 이루어진 지지체상에 금속티탄을 코팅 한 후 아노다이징에 의해 금속티탄 상에 산화에칭에 의한 이산화티탄 광촉매층이 형성되되,50 내지 60V전압을 이용하는 일반 아노다이징보다 보다 1 내지 2V 낮은 전압을 유지하고, 150 내지 200℃ 온도를 유지하여 이산화티탄 나노기공이 무방향으로 형성되는 메조스폰지폼 형태의 이산화티탄 광촉매층이 형성되도록 하는 것을 특징으로 이산화티탄 광촉매 제조방법
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제 9항에 있어서, 상기 이산화티탄 광촉매층은, 상기 전압과 온도를 유지한 채, 24시간 이상 수행됨을 특징으로 하는 이산화티탄 광촉매 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.