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태양전지용 박막에 있어서, 기판과; 이트리아(Y2O3) 용액에 나트륨(Na)을 함유시켜 형성시킨 졸을 상기 기판 상면에 코팅시켜 형성되는 이트리아 버퍼층;상기 이트리아 버퍼층 상면에 형성된 몰리브덴(Mo)층;을 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 이트리아 버퍼층이 형성된 태양전지용 박막
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제1항에 있어서, 상기 기판은 유연성의 금속기판 또는 폴리머 기판인 것을 특징으로 하는 이트리아 버퍼층이 형성된 태양전지용 박막
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제2항에 있어서, 상기 금속 기판은 하스텔로이(hastelloy) 또는 스테인레스기판인 것을 특징으로 하는 이트리아 버퍼층이 형성된 태양전지용 박막
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제1항에 있어서, 상기 코팅은 2회 이상 반복적으로 진행됨을 특징으로 하는 이트리아 버퍼층이 형성된 태양전지용 박막
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제1항에 있어서, 상기 코팅은 딥 코팅(dip coating) 방법이 사용됨을 특징으로 하는 이트리아 버퍼층이 형성된 태양전지용 박막
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삭제
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제1항에 있어서, 상기 몰리브덴(Mo)층 상면에는 Cu(In,Ga)Se2(CIGS)층, CdS층 및 ZnO층이 차례로 적층 되는 것을 특징으로 하는 이트리아 버퍼층이 형성된 태양전지용 박막
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이트륨아세테이트테트라하이드레이트와, 소듐하이드록사이드와 메탄올을 혼합하여 혼합물을 형성시키고 교반시키는 제1단계와;제1단계의 혼합물에 킬레이트제인 디에탄올아민을 투입하고 교반시켜 합성물을 합성시키는 제2단계와; 상기 제2단계에서 합성된 합성물을 필터를 이용하여 필터링 시켜 졸을 수득하는 제3단계; 그리고, 상기 제3단계에서 형성된 졸을 기판 상면에 코팅시켜 이트리아 버퍼층을 형성시키는 제4단계;를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 이트리아 버퍼층이 형성된 태양전지용 박막 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 제1단계는 50℃~60℃에서 30분 내지 5시간 동안 진행되는 것을 특징으로 하는 이트리아 버퍼층이 형성된 태양전지용 박막 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 2단계의 디에탄올아민의 투입은 시린지(syringe)를 이용하여 투입되는 것을 특징으로 하는 이트리아 버퍼층이 형성된 태양전지용 박막 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 제2단계는 상온에서 30분 내지 5시간 진행되는 것을 특징으로 하는 이트리아 버퍼층이 형성된 태양전지용 박막 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 3단계의 필터링은 시린지(syringe) 필터를 이용하여 진행되는 것을 특징으로 하는 이트리아 버퍼층이 형성된 태양전지용 박막 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 기판은 유연성의 금속기판 또는 폴리머 기판인 것을 특징으로 하는 이트리아 버퍼층이 형성된 태양전지용 박막 제조방법
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제13항에 있어서, 상기 금속 기판은 하스텔로이(hastelloy) 또는 스테인레스 기판인 것을 특징으로 하는 이트리아 버퍼층이 형성된 태양전지용 박막 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 코팅은 2회 이상 반복적으로 진행됨을 특징으로 하는 이트리아 버퍼층이 형성된 태양전지용 박막 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 코팅은 딥 코팅(dip coating) 방법이 사용됨을 특징으로 하는 이트리아 버퍼층이 형성된 태양전지용 박막 제조방법
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제8항 내지 제16항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 이트리아 버퍼층 상면에는 몰리브덴(Mo)층과 같이 전도성 박막의 전극층이 형성되는 것을 특징으로 하는 이트리아 버퍼층이 형성된 태양전지용 박막 제조방법
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제17항에 있어서, 상기 몰리브덴(Mo)층 상면에는 Cu(In,Ga)Se2(CIGS)층, CdS층 및 ZnO층이 차례로 적층 되는 것을 특징으로 하는 이트리아 버퍼층이 형성된 태양전지용 박막 제조방법
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