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1) 4가 알콕시 실란을 유기용매에 용해하고, 저비점 염기성 촉매와 상기 4가 알콕시 실란 몰수의 2~4배에 해당하는 물을 첨가하여 40~100℃의 가열조건에서 콜로이달 실리카 졸을 합성하는 1단계;2) 상기 콜로이달 실리카 졸의 표면을 개질하기 위해 표면개질물질을 추가하여 상기 콜로이달 실리카 졸의 표면을 개질하는 단계;3) 촉매 부산물 및 저비점 용매를 제거하여, 유기용매에 분산된 상태의 고순도 실리카졸을 완성하는 단계;를 포함하되, 상기 1단계의 상기 유기용매는 N-메틸피롤리돈, 디메틸포름아미드, 디메틸포름아세트아미드, 디메틸설폴시드, 벤질알콜, 시클로헥사논, 디클로로벤젠, 니트로벤젠, 글리세롤류, 셀로솔브류, 또는 글리콜류로부터 선택된 고비점 유기용매와, 저비점 유기용매가 함께 사용되며, 이 경우 상기 3단계에서 별도의 고비점 유기용매의 투입과정없이 상기 저비점 용매 및 촉매부산물을 제거하는 것을 특징으로 하는 고순도 실리카 졸의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 4가 알콕시 실란은 TMOS 또는 TEOS인 것을 특징으로 하는 고순도 실리카 졸의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 저비점 유기용매는 메틸알콜, 에틸알콜, 이소프로필알콜, 아세톤, 에틸에스테르, 테트라하이드로퓨란, 또는 메틸에틸케톤인 것을 특징으로 하는 고순도 실리카 졸의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 저비점 염기성 촉매는 NH4OH, RNH2, 또는 R2NH를 사용하되, 여기서 R은 알킬기인 것을 특징으로 고순도 실리카 졸의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 표면개질물질은 기능성 알콕시 실란인 것을 특징으로 하는 고순도 실리카 졸의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 표면개질물질은 알킬실록산인 것을 특징으로 하는 고순도 실리카 졸의 제조방법
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제 7항에 있어서,상기 알킬실록산은 헥사알킬 디실록산, 테트라알킬 디실록산 중 1종 이상이 사용되는 것을 특징으로 하는 고순도 실리카 졸을 제조하는 방법
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제 1항에 있어서, 상기 표면개질물질은 알킬실라잔인 것을 특징으로 하는 고순도 실리카 졸의 제조방법
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제 9항에 있어서,상기 알킬실라잔은 헥사알킬 디실라잔, 테트라알킬 실라잔 중 1종 이상이 사용되는 것을 특징으로 하는 고순도 실리카 졸을 제조하는 방법
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제 1항에 있어서, 상기 3단계에서, 촉매 부산물 및 저비점 용매의 제거는 감압증류법 또는 고온증류법에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 고순도 실리카 졸의 제조방법
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