맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

펨토초 레이저 장치 및 이를 포함한 펨토초 레이저 시스템

  • 기술번호 : KST2015163813
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 펨토초 레이저 장치 및 이를 포함한 펨토초 레이저 시스템을 제공한다. 펨토초 레이저 장치는 공간적으로 서로 수직방향의 Ng, Np, Nm축을 갖는 제 1 레이저 매질; 상기 제 1 레이저 매질의 Ng축에 실질적으로 평행한 Np축, 상기 제 1 레이저 매질의 Np 축에 실질적으로 평행한 Nm축, 상기 제 1 레이저 매질의 Nm축에 실질적으로 평행한 Ng축을 갖도록 배치된 제 2 레이저 매질; 및 상기 제 1 레이저 매질 및 상기 제 2 레이저 매질에 각각 펌핑광을 조사하기 위하여 배치된 제 1 레이저 다이오드 및 제 2 레이저 다이오드를 포함하고, 상기 제 1 레이저 매질은, 상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 진행방향이 상기 제 1 레이저 매질의 Ng축에 실질적으로 평행하도록 배치되고, 상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 편광방향이 상기 제 1 레이저 매질의 Np축에 실질적으로 평행하도록 배치되고, 상기 제 2 레이저 매질은, 상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 진행방향이 상기 제 2 레이저 매질의 Np축에 실질적으로 평행하도록 배치되고, 상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 편광방향이 상기 제 2 레이저 매질의 Nm축에 실질적으로 평행하도록 배치된다.
Int. CL H01S 3/06 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020130010367 (2013.01.30)
출원인 한국전기연구원
등록번호/일자 10-1416630-0000 (2014.07.02)
공개번호/일자 10-2013-0142056 (2013.12.27) 문서열기
공고번호/일자 (20140709) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020120065248   |   2012.06.18
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.01.30)
심사청구항수 13

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국전기연구원 대한민국 경상남도 창원시 성산구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김광훈 대한민국 부산광역시 수영구
2 강욱 대한민국 서울특별시 강서구
3 양주희 대한민국 서울특별시 마포구
4 이대식 대한민국 서울특별시 마포구
5 살 엘레나 러시아 서울특별시 마포구
6 치조프 세르게이 러시아 서울특별시 마포구
7 쿨릭 안드레이 러시아 서울특별시 마포구
8 야쉰 블라드미르 러시아 서울특별시 마포구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한라특허법인(유한) 대한민국 서울시 서초구 강남대로 ***(서초동, 남강빌딩 *층)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국전기연구원 경상남도 창원시 성산구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2013.01.30 수리 (Accepted) 1-1-2013-0089605-62
2 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2013.06.19 수리 (Accepted) 1-1-2013-0544479-01
3 [우선심사신청]선행기술조사의뢰서
[Request for Preferential Examination] Request for Prior Art Search		 2013.06.25 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search		 2013.06.27 수리 (Accepted) 9-1-2013-0049504-86
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.07.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0485163-18
6 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2013.08.30 수리 (Accepted) 1-1-2013-0794545-68
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2013.09.16 수리 (Accepted) 1-1-2013-0842542-92
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.11.11 수리 (Accepted) 1-1-2013-1025684-04
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.11.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-1025683-58
10 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2013.12.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0872663-02
11 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2014.02.12 수리 (Accepted) 1-1-2014-0135396-62
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.04.17 수리 (Accepted) 1-1-2014-0364195-07
13 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.04.17 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2014-0364194-51
14 등록결정서
Decision to grant		 2014.05.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0337947-48
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.04 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006987-25
16 대리인선임신고서
Report on Appointment of Agent		 2015.12.23 수리 (Accepted) 1-1-2015-5033520-42
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
펨토초 영역의 펄스를 발생시키기 위한 마스터 오실레이터;상기 발생된 펨토초 영역의 펄스의 폭을 확장하기 위한 펄스 확장기;상기 확장된 펄스의 스펙트럼을 성형하기 위한 스펙트럼 성형기;상기 확장된 펄스의 에너지를 증폭시키기 위한 증폭기; 및상기 증폭된 펄스를 펨토초 영역의 펄스로 압축시키기 위한 펄스 압축기를 포함하고,상기 마스터 오실레이터 및 상기 증폭기 중 적어도 어느 하나는,공간적으로 서로 수직방향의 Ng, Np, Nm축을 갖는 제 1 레이저 매질; 상기 제 1 레이저 매질의 Ng축에 실질적으로 평행한 Np축, 상기 제 1 레이저 매질의 Np 축에 실질적으로 평행한 Nm축, 상기 제 1 레이저 매질의 Nm축에 실질적으로 평행한 Ng축을 갖도록 배치된 제 2 레이저 매질; 및 상기 제 1 레이저 매질 및 상기 제 2 레이저 매질 각각에 펌핑광을 조사하도록 배치된 제 1 레이저 다이오드 및 제 2 레이저 다이오드를 포함하여 이루어지고,상기 제 1 레이저 매질은,상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 진행방향이 상기 제 1 레이저 매질의 Ng축에 실질적으로 평행하도록 배치되고,상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 편광방향이 상기 제 1 레이저 매질의 Np축에 실질적으로 평행하도록 배치되고, 상기 제 2 레이저 매질은,상기 제 1 레이저 매질과 열적 특성이 서로 다른 축 방향으로 레이저 빔이 진행하도록, 상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 진행방향이 상기 제 2 레이저 매질의 Np축에 실질적으로 평행하도록 배치되고,상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 편광방향이 상기 제 2 레이저 매질의 Nm축에 실질적으로 평행하도록 배치된 펨토초 레이저 시스템
2 2
제 1항에 있어서,상기 제 1 및 제 2 레이저 매질은 각각 Yb:KYW, Yb:KGW, Yb:KLuW, Yb:YCOB, Yb:YAP 중 적어도 어느 하나 인 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저 시스템
3 3
제 2항에 있어서,상기 Yb:KYW, Yb:KGW, Yb:KLuW, Yb:YCOB, Yb:YAP 중 Yb의 도핑 농도는 1 ~ 10 at
4 4
제 1항에 있어서, 상기 제 1 레이저 매질은,상기 제 1 레이저 다이오드로부터 발생된 제 1 펌핑 광의 편광방향이 상기 제 1 레이저 매질의 Nm 축에 대해 실질적으로 평행하도록 하고,상기 제 2 레이저 매질은,상기 제 2 레이저 다이오드로부터 발생된 제 2 펌핑 광의 편광방향이 상기 제 2 레이저 매질의 Nm축에 대해 실질적으로 평행하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저 시스템
5 5
펨토초 영역의 펄스를 발생시키기 위한 마스터 오실레이터;상기 발생된 펨토초 영역의 펄스의 폭을 확장하기 위한 펄스 확장기;상기 확장된 펄스의 스펙트럼을 성형하기 위한 스펙트럼 성형기;상기 확장된 펄스의 에너지를 증폭시키기 위한 증폭기; 및상기 증폭된 펄스를 펨토초 영역의 펄스로 압축시키기 위한 펄스 압축기를 포함하고,상기 마스터 오실레이터 및 상기 증폭기 중 적어도 어느 하나는,공간적으로 서로 수직방향의 Ng, Np, Nm축을 갖는 제 1 레이저 매질; 상기 제 1 레이저 매질의 Ng축에 실질적으로 평행한 Np축, 상기 제 1 레이저 매질의 Np 축에 실질적으로 평행한 Ng축, 상기 제 1 레이저 매질의 Nm축에 실질적으로 평행한 Nm축을 갖도록 배치된 제 2 레이저 매질; 및 상기 제 1 레이저 매질 및 상기 제 2 레이저 매질 각각에 펌핑광을 조사하기 위하여 배치된 제 1 레이저 다이오드 및 제 2 레이저 다이오드를 포함하여 이루어지고,상기 제 1 레이저 매질은,상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 진행방향이 상기 제 1 레이저 매질의 Ng축에 실질적으로 평행하도록 배치되고,상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 편광방향이 상기 제 1 레이저 매질의 Nm축에 실질적으로 평행하도록 배치되고, 상기 제 2 레이저 매질은,상기 제 1 레이저 매질과 열적 특성이 서로 다른 축 방향으로 레이저 빔이 진행하도록, 상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 진행방향이 상기 제 2 레이저 매질의 Np축에 실질적으로 평행하도록 배치되고,상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 편광방향이 상기 제 2 레이저 매질의 Nm축에 실질적으로 평행하도록 배치된 펨토초 레이저 시스템
6 6
삭제
7 7
제 1항 또는 제 5항에 있어서,상기 펄스 확장기와 상기 펄스 압축기는 하나의 분광소자를 공통으로 사용하여 일체형을 이루는 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저 시스템
8 8
삭제
9 9
펨토초 영역의 펄스를 발생시키기 위한 마스터 오실레이터;상기 발생된 펨토초 영역의 펄스의 폭을 확장하기 위한 펄스 확장기;상기 확장된 펄스의 스펙트럼을 성형하기 위한 스펙트럼 성형기;상기 확장된 펄스의 에너지를 증폭시키기 위한 증폭기; 및상기 증폭된 펄스를 펨토초 영역의 펄스로 압축시키기 위한 펄스 압축기를 포함하고,상기 마스터 오실레이터 및 상기 증폭기 중 적어도 어느 하나는, 공간적으로 서로 수직방향의 Ng, Np, Nm축을 갖고, 서로 마주하여 배치된 제 1 레이저 매질과 제 2 레이저 매질;상기 제 1 레이저 매질 및 제 2 레이저 매질에 각각 펌핑 광을 입사시키기 위하여 배치된 제 1 레이저 다이오드와 제 2 레이저 다이오드;상기 1 레이저 매질과 상기 제 2 레이저 매질 사이에 배치되어, 상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 편광방향이 상기 제 1 레이저 매질의 Np축과 상기 제 2 레이저 매질의 Nm축에 실질적으로 평행하도록 하는 광학부품을 포함하여 이루어지고,상기 제 1 레이저 매질은상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 진행방향이 상기 제 1 레이저 매질의 Ng축에 실질적으로 평행하도록 배치되고,상기 제 2 레이저 매질은,상기 제 1 레이저 매질과 열적 특성이 서로 다른 축 방향으로 레이저 빔이 진행하도록, 상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 진행방향이 상기 제 2 레이저 매질의 Np축에 실질적으로 평행하도록 배치되는 펨토초 레이저 시스템
10 10
제 9항에 있어서,상기 광학 부품은 반파장판(Half-wave plates), 복수의 프레넬의 사방체(Double Fresnel rhomb), 광대역 프리즘 회전자(Broadband prismatic rotator), 파라데이 회전기(Faraday rotator), 복수의 미러 중 적어도 어느 하나 인 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저 시스템
11 11
제 9항에 있어서,상기 제 1 및 제 2 레이저 매질은 각각 Yb:KYW, Yb:KGW, Yb:KLuW, Yb:YCOB, Yb:YAP 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저 시스템
12 12
제 11항에 있어서,상기 Yb:KYW, Yb:KGW, Yb:KLuW, Yb:YCOB, Yb:YAP 중 Yb의 도핑 농도는 1 ~ 10 at
13 13
제 9항에 있어서, 상기 제 1 레이저 매질은, 상기 제 1 레이저 다이오드로부터 발생된 제 1 펌핑 광의 편광방향이 상기 제 1 레이저 매질의 Nm 축에 대해 실질적으로 평행하도록 하고,상기 제 2 레이저 매질은,상기 제 2 레이저 다이오드로부터 발생된 제 2 펌핑 광의 편광방향이 상기 제 2 레이저 매질의 Nm축에 대해 실질적으로 평행하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저 시스템
14 14
펨토초 영역의 펄스를 발생시키기 위한 마스터 오실레이터;상기 발생된 펨토초 영역의 펄스의 폭을 확장하기 위한 펄스 확장기;상기 확장된 펄스의 스펙트럼을 성형하기 위한 스펙트럼 성형기;상기 확장된 펄스의 에너지를 증폭시키기 위한 증폭기; 및상기 증폭된 펄스를 펨토초 영역의 펄스로 압축시키기 위한 펄스 압축기를 포함하고,상기 마스터 오실레이터 및 상기 증폭기 중 적어도 어느 하나는, 공간적으로 서로 수직방향의 Ng, Np, Nm축을 갖고, 서로 마주하여 배치된 제 1 레이저 매질과 제 2 레이저 매질;상기 제 1 레이저 매질 및 제 2 레이저 매질에 각각 펌핑 광을 입사시키기 위하여 배치된 제 1 레이저 다이오드와 제 2 레이저 다이오드;상기 1 레이저 매질과 상기 제 2 레이저 매질 사이에 배치되어, 상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 편광방향이 상기 제 1 레이저 매질의 Nm축과 상기 제 2 레이저 매질의 Nm축에 실질적으로 평행하도록 하는 광학부품을 포함하여 이루어지고,상기 제 1 레이저 매질은상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 진행방향이 상기 제 1 레이저 매질의 Ng축에 실질적으로 평행하도록 배치되고,상기 제 2 레이저 매질은,상기 제 1 레이저 매질과 열적 특성이 서로 다른 축 방향으로 레이저 빔이 진행하도록, 상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 진행방향이 상기 제 2 레이저 매질의 Np축에 실질적으로 평행하도록 배치되는 펨토초 레이저 시스템
15 15
삭제
16 16
제 9항 또는 제 14항에 있어서,상기 펄스 확장기와 상기 펄스 압축기는 하나의 분광소자를 공통으로 사용하여 일체형을 이루는 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저 시스템
17 17
삭제
지정국 정보가 없습니다
순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - 패밀리정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP05658207 JP 일본 FAMILY
2 JP26003262 JP 일본 FAMILY
3 KR101377003 KR 대한민국 FAMILY
4 US08582613 US 미국 FAMILY
5 US08891564 US 미국 FAMILY
6 US20130336345 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP2014003262 JP 일본 DOCDBFAMILY
2 JP5658207 JP 일본 DOCDBFAMILY
3 KR101377003 KR 대한민국 DOCDBFAMILY
4 KR20130142886 KR 대한민국 DOCDBFAMILY
5 US8582613 US 미국 DOCDBFAMILY
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 서울특별시 한국전기연구원 세계유수연구소 유치 지원사업 Russia Science Seoul 유치 지원사업