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X―ray 다중에너지 필터를 이용한 플라즈마 이온 분포 측정 방법 및 그 시스템

  • 기술번호 : KST2015163905
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플라즈마에서 발생하는 다양한 파장대의X-ray를 다중 핀홀에 집적된 다중에너지 필터를 이용하여 에너지(파장대) 별로 동시에 분석영상을 획득함으로써 플라즈마 내 X-ray발생의 근원인 이온의 공간 분포를 보다 정확하게 측정하고, 나아가 플라즈마 이온 공간 분포의 실시간 변화를 확인할 수 있는 X-ray 다중에너지 필터를 이용한 플라즈마 이온 분포 측정 방법 및 그 시스템에 관한 것이다.본 발명의 실시예에 따르면, 플라즈마에서 방출되는 다양한 파장대의 X-ray 를 다중에너지 필터가 집적된 핀홀 어레이를 이용하여 시간차를 두지 않고 한번의 측정으로도 플라즈마 내 각기 다른 이온에서 발생하는 X-ray 분석영상을 효과적으로 획득할 수 있음은 물론 이를 통해 에너지(파장대) 별 X-ray를 동시 분석할 수 있게 됨으로써 플라즈마 내 이온의 공간 분포를 보다 정밀하게 측정할 수 있다.또한, 상기 다양한 파장대의 X-ray를 다중에너지 필터가 집적화된 핀홀을 이용하여 에너지(파장대) 별 실시간 분석영상을 획득할 수 있어 간편한 방식으로 플라즈마 내에 존재하는 다양한 이온의 공간 분포 변화를 확인할 수 있다.
Int. CL G01T 1/36 (2006.01)
CPC G01T 1/36(2013.01) G01T 1/36(2013.01)
출원번호/일자 1020130144744 (2013.11.26)
출원인 한국전기연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2015-0060383 (2015.06.03) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.11.26)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전기연구원 대한민국 경상남도 창원시 성산구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 허두창 대한민국 경기 용인시 수지구
2 김재훈 대한민국 경기 안산시 단원구
3 양기동 대한민국 경기 안양시 동안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충정 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로***,*층(역삼동,성보역삼빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전기연구원 경상남도 창원시 성산구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.11.26 수리 (Accepted) 1-1-2013-1079088-01
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.11.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.12.11 수리 (Accepted) 9-1-2014-0096637-75
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.04 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006987-25
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.02.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0091297-11
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.04.08 수리 (Accepted) 1-1-2015-0344600-74
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.05.08 수리 (Accepted) 1-1-2015-0441896-68
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.06.08 수리 (Accepted) 1-1-2015-0548169-14
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.06.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0548168-79
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.10.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0746462-23
11 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.12.28 수리 (Accepted) 1-1-2015-1277124-15
12 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2016.01.28 수리 (Accepted) 1-1-2016-0094863-56
13 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2016.02.26 수리 (Accepted) 1-1-2016-0191128-14
14 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2016.03.28 수리 (Accepted) 1-1-2016-0293353-40
15 지정기간연장 관련 안내서
Notification for Extension of Designated Period
2016.03.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2016-0047767-73
16 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.04.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0408644-96
17 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.04.28 수리 (Accepted) 1-1-2016-0408612-35
18 등록결정서
Decision to grant
2016.09.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0675970-07
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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플라즈마에서 발생하는 다양한 파장대의 X-ray 로부터 위 플라즈마의 이온 공간 분포를 측정하는 플라즈마 이온 공간 분포 측정 시스템에 있어서, 플라즈마에서 발생하는 다양한 파장대의 X-ray를 소정 파장대 별로 분리하기 위한 복수개의 필터를 포함하는 다중에너지 필터부;상기 파장대 별로 분리된 X-ray를 검출하고 이를 전기적 신호로 변환하는 복수개의 이미지 센서를 포함하는 검출부; 및상기 검출부로부터 상기 파장대 별로 분리된 X-ray의 전기적 신호를 수신하고, 상기 파장대 별로 분리된 X-ray의 전기적 신호를 영상 처리하여 이를 디스플레이에 표시하는 영상 처리부를 포함하며,상기 다중에너지 필터부는,상기 플라즈마에서 발생하는 X-ray가 통과하는 복수의 핀홀을 구비하고,상기 복수의 핀홀 각각에는 파장에 따라 서로 다른 투과도을 가지는 복수의 필터가 구비되어,상기 다중에너지 필터부를 투과한 X-ray는 서로 다른 파장을 가지는 복수의 X-ray로 분리되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 공간 분포 측정 시스템
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삭제
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제 1항에 있어서,상기 다중에너지 필터부는,상기 복수개 필터가 상기 복수개 핀홀에서 홀이 형성된 영역의 전단 또는 후단에 인접하여 구비되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 공간 분포 측정 시스템
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제 4항에 있어서,상기 복수개 필터는 투과도가 서로 다른 복수 종류의 물질 층이 적층된 형태인 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 공간 분포 측정 시스템
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제 5항에 있어서,상기 복수 종류의 물질 층은 서로 다른 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 공간 분포 측정 시스템
7 7
제 1항에 있어서,상기 다중에너지 필터부는,상기 복수개의 필터가 붕소(B), 탄소(C), 질소(N), 산소(O), 나트륨(Na), 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 실리콘(Si), 황(S) 중 적어도 어느 하나의 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 공간 분포 측정 시스템
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제 1항에 있어서,상기 다중에너지 필터부는,서로 다른 투과도를 갖는 4개의 필터를 포함하고, 상기 4개의 필터는 사각 형태로 배치된 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 공간 분포 측정 시스템
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제 1항에 있어서,상기 영상 처리부는,상기 검출부로부터 실시간으로 수신되는 상기 파장대 별로 분리된 X-ray의 전기적 신호에 기초하여 상기 디스플레이에 상기 파장대 별로 분리된 X-ray 의 실시간 변화 영상을 표시하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 공간 분포 측정 시스템
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플라즈마에서 발생하는 다양한 파장대의 X-ray 로부터 위 플라즈마의 이온 공간 분포를 측정하기 위한 플라즈마 이온 공간 분포 측정 방법에 있어서, (a) 방전, 핵융합, 레이저 여기 방법 중 어느 하나의 방법을 통해 다양한 파장대의 X-ray를 발생하는 플라즈마가 생성되는 단계;(b) 상기 플라즈마에서 발생하는 다양한 파장대의 X-ray를 소정 파장대 별로 분리하기 위한 복수개의 필터를 포함하는 다중에너지 필터부를 투과하는 단계;(c) 상기 다중에너지 필터부를 투과하여 소정 파장대 별로 분리된 X-ray 를 복수개의 이미지 센서를 이용하여 검출하는 단계;(d) 상기 파장대 별로 분리된 X-ray 를 전기적 신호로 변환하여 영상 처리부로 전송하는 단계; 및(e) 상기 영상 처리부는 수신한 파장대 별로 분리된 X-ray 의 전기적 신호를 영상 처리하여 이를 디스플레이에 표시하는 단계를 포함하며,상기 다중에너지 필터부는 상기 플라즈마에서 발생하는 X-ray가 통과하는 복수의 핀홀을 구비하고,상기 복수의 핀홀 각각에는 파장에 따라 서로 다른 투과도을 가지는 복수의 필터가 구비되어,상기 다중에너지 필터부를 투과한 X-ray는 서로 다른 파장을 가지는 복수의 X-ray로 분리되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 공간 분포 측정 방법
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국가 R&D 정보가 없습니다.