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리소그래피와 양극산화법으로 제조한 초발수용 몰드와 이 몰드로 제조한 초발수 재료

  • 기술번호 : KST2015163975
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 리소그래피와 양극산화법으로 제조한 초발수용 몰드와 이 몰드로 제조한 초발수 재료에 관한 것으로, 평판이나 원통형 금속인 모재의 표면을 리소그래피와 식각을 통하여 형성시킨 요철 마이크로구조 패턴과, 상기 모재를 양극산화와 식각을 통하여 형성시킨 기공이 구비된 나노구조 패턴을 동시에 가지도록 형성되는 리소그래피와 양극산화로 제조한 초발수용 몰드를 기술적 요지로 한다. 그리고 본 발명은 초발수용 몰드를 사용하고, 상기 초발수용 몰드를 몰드로 사용하여 고분자 수지를 상기 초발수용 몰드에 코팅하고, 이를 탈형시켜 필라구조를 가지는 필름을 형성시키는 초발수용 몰드로 제조한 초발수 재료를 기술적 요지로 한다. 또한 본 발명은 초발수용 몰드를 사용하고, 상기 초발수용 몰드를 임프린트로 사용하여 임프린팅 공정을 이용하여 고분자에 요철 마이크로구조 패턴과, 나노구조 패턴를 전사하여 초발수 표면을 형성시키는초발수용 몰드로 제조한 초발수 재료를 또한 기술적 요지로 한다. 이에 따라, 평판이나 원통형 금속의 표면을 세정하고 연마한 후, 리소그래피를 통하여 마이크로 패턴을 형성하고 이를 식각하여 요철 모양의 마이크로 패턴을 형성하고, 양극산화하고 식각한 후, 전체적으로 적정 크기와 모양으로 잘 요철-패터닝된 마이크로 구조와 그 마이크로 구조 안에 적정 크기와 모양의 나노기공이 잘 배열되어 있는 표면을 갖는 판재나 원통을 제조하고, 이를 몰드나 임프린트로 사용하여 발수성 재료를 성형함으로써 그 몰드의 표면구조가 그 발수 성형체의 표면에 음각된 초발수 표면을 갖는 재료를 대량으로 값싸게 제조하는 이점이 있다.
Int. CL C25D 11/02 (2006.01) C25D 21/12 (2006.01) C25D 11/16 (2006.01)
CPC C25D 11/02(2013.01) C25D 11/02(2013.01) C25D 11/02(2013.01)
출원번호/일자 1020130168883 (2013.12.31)
출원인 한국전기연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2015-0078976 (2015.07.08) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.12.31)
심사청구항수 17

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전기연구원 대한민국 경상남도 창원시 성산구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정대영 대한민국 경남 창원시 성산구
2 발라산카 인도 경상남도 창원시 성산구
3 이대호 대한민국 경상남도 창원시 성산구
4 강동필 대한민국 경남 창원시 진해구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인부경 대한민국 부산광역시 연제구 법원남로**번길 **, *층 (거제동, 대한타워)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.12.31 수리 (Accepted) 1-1-2013-1212357-10
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.12.30 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.01.19 수리 (Accepted) 9-1-2015-0006876-72
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.01.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0045252-44
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.04 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006987-25
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.03.20 수리 (Accepted) 1-1-2015-0275588-16
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.04.20 수리 (Accepted) 1-1-2015-0380000-23
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.05.20 수리 (Accepted) 1-1-2015-0481866-25
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.06.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0574752-88
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.06.15 수리 (Accepted) 1-1-2015-0574726-01
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2015.10.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0733452-73
12 심사관의견요청서
Request for Opinion of Examiner
2016.01.06 수리 (Accepted) 7-8-2016-0000442-15
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번호 청구항
1 1
평판이나 원통형 금속인 모재의 표면을 리소그래피와 식각을 통하여 형성시킨 요철 마이크로구조 패턴과, 상기 모재를 양극산화와 식각을 통하여 형성시킨 기공이 구비된 나노구조 패턴을 동시에 가지도록 형성됨을 특징으로 하는 리소그래피와 양극산화로 제조한 초발수용 몰드
2 2
제1항에 있어서, 상기 요철 마이크로 구조 패턴은 모재의 표면을 세정하고 연마한 후 리소그래피를 통하여 마이크로 패턴을 형성하고, 이를 식각하여 기공이 구비된 요철 모양의 마이크로구조 패턴을 형성함을 특징으로 하는 리소그래피와 양극산화로 제조한 초발수용 몰드
3 3
제2항에 있어서, 상기 모재는 밸브금속이나 밸브금속합금인 것을 특징으로 하는 리소그래피와 양극산화로 제조한 초발수용 몰드
4 4
제3항에 있어서, 상기 밸브금속은 Al, W, Ti, Ta, Hf, Nb, Zr 중 하나인 것을 특징으로 하는 리소그래피와 양극산화로 제조한 초발수용 몰드
5 5
제3항에 있어서, 상기 밸브금속합금은 Al, W, Ti, Ta, Hf, Nb, Zr의 금속 그룹에서 두 가지 이상의 금속으로 구성된 합금으로 형성됨을 특징으로 하는 리소그래피와 양극산화로 제조한 초발수용 몰드
6 6
제2항에 있어서, 상기 모재는 밸브금속에 Cu, Mn, Si, Mg, Cr, Zn, Li, V, Mo, Ga, Ge, Fe, Cr, Co, Ni, C, O 원소들 중 하나 이상의 원소를 혼합하여 형성시킴을 특징으로 하는 리소그래피와 양극산화로 제조한 초발수용 몰드
7 7
제2항에 있어서, 상기 연마는 기계적 연마, 전해연마 중 하나 이상이 사용되어 표면의 표면거칠기를 0
8 8
제2항에 있어서, 상기 리소그래피는 UV-광을 사용하는 리소그래피를 사용하여 형성됨을 특징으로 하는 리소그래피와 양극산화로 제조한 초발수용 몰드
9 9
제2항에 있어서, 상기 리소그래피 이후의 식각은 이빔(e-beam ), 플라스마, Ar+ 중 하나를 이용하는 건식 식각이나, 식각 용액을 사용하는 습식 식각 중 하나를 사용하여 형성됨을 특징으로 하는 리소그래피와 양극산화로 제조한 초발수용 몰드
10 10
제2항에 있어서, 상기 요철 모양의 마이크로 구조 패턴은 주기 0
11 11
제2항에 있어서, 상기 양극산화는 전해질로서 0
12 12
제2항에 있어서, 상기 양극산화는 기공의 균일한 분포와 정렬를 위하여 두 번 이상이 진행됨을 특징으로 하는 리소그래피와 양극산화로 제조한 초발수용 몰드
13 13
제1항 내지 제12항 중 어느 하나의 항에 있어서의 초발수용 몰드를 사용하고, 상기 초발수용 몰드를 몰드로 사용하여 고분자 수지를 상기 초발수용 몰드에 코팅하고, 이를 탈형시켜 필라구조를 가지는 필름을 형성시킴을 특징으로 하는 초발수용 몰드로 제조한 초발수 재료
14 14
제13항에 있어서, 상기 초발수용 몰드와 필름의 탈착성 향상을 위하여 상기 초발수용 몰드에 이형성 막을 코팅함을 특징으로 하는 초발수용 몰드로 제조한 초발수 재료
15 15
제13항에 있어서, 상기 양극산화는 경(hard) 양극산화의 경우는 1시간 이내로, 연(mild) 양극산화의 경우는 3시간 이내로 진행됨을 특징으로 하는 초발수용 몰드로 제조한 초발수 재료
16 16
제13항에 있어서, 상기 초발수용 몰드는 강도향상을 위하여 니켈(Ni) 또는 텅스텐(W)이 코팅됨을 특징으로 하는 초발수용 몰드로 제조한 초발수 재료
17 17
제14항에 있어서, 상기 이형성 막 재료는 알킬실리콘(alkyl silicone)임을 특징으로 하는 초발수용 몰드로 제조한 초발수 재료
18 18
제13항에 있어서, 상기 고분자 수지는 polystyrene(PS); polycarbonate(PC); polyurethane(PU); polyimide(PI); polymethylmethacrylate (PMMA)를 포함하는 폴리아크릴레이트; polybutylene terephthalate(PBT), polyethylene terephthalate (PET)을 포함하는 폴리에스트르; polyethylene(PE), polypropylene(PP)을 포함하는 폴리알킬렌; polyvinyl chloride(PVC), polyvinylidene fluoride(PVdF)을 포함하는 비닐폴리머; polydimethylsiloxane(PDMS)을 포함한 실리콘 고분자 중의 하나인 것을 특징으로 하는 초발수용 몰드로 제조한 초발수 재료
19 19
제1항 내지 제12항 중 어느 하나의 항에 있어서의 초발수용 몰드를 사용하고, 상기 초발수용 몰드를 임프린트로 사용하여 임프린팅 공정을 이용하여 고분자에 요철 마이크로구조 패턴과, 나노구조 패턴를 전사하여 초발수 표면을 형성시킴을 특징으로 하는 초발수용 몰드로 제조한 초발수 재료
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.