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양쪽면 각각에 하나씩 배치한 두 금속판을 포함하고,
상기 두 금속판 사이가 진공 상태인 공동 공진기 구조로서,
상기 두 금속판 사이에 직류 및 교류 전압에 의한 전기장이 평행하도록 상기 직류 및 교류 전압의 합성 전압을 인가하여, 상기 두 금속판 중 어느 한 면에서 전자의 생성과 소멸이 반복되도록 하여 전자증폭현상을 통한 펄스 전자빔을 발생하는 것을 특징으로 하는 전자빔 증폭기
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제1항에 있어서,
상기 두 금속판 사이가 절연되도록 진공갭으로 분리하고, 상기 두 금속판 사이에 상기 합성 전압을 인가하는 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자빔 증폭기
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3
제1항에 있어서,
절연수단을 이용하여 상기 두 금속판으로서의 두 평행 금속판 사이를 절연시키고, 상기 두 평행 금속판 사이에 상기 합성 전압을 인가하는 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자빔 증폭기
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4
제3항에 있어서, 상기 절연 수단은 소정 유전율을 가지는 절연체, 또는 주기적으로 배열된 광결정 구조의 유전체 막대를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자빔 증폭기
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5
제4항에 있어서, 상기 교류 전압으로서의 전자기파를 상기 유전체 막대를 통과하도록 인입시키는 것을 특징으로 하는 전자빔 증폭기
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6
제3항에 있어서, 상기 두 평행 금속판 중 어느 한 금속판에 개구를 형성하여 펄스 전자빔을 방출하는 것을 특징으로 하는 전자빔 증폭기
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7
제3항에 있어서, 상기 두 평행 금속판 중 어느 하나 이상에 전자빔이 방출되는 방향과 수직한 길이 방향으로 돌출된 면을 형성한 것을 특징으로 하는 전자빔 증폭기
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8
제7항에 있어서, 상기 합성 전압의 설정에 따라 상기 돌출된 면 또는 상기 돌출된 면과 평행한 해당 금속판의 다른 내면에서 전자 증폭을 일으키는 것을 특징으로 하는 전자빔 증폭기
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9
제1항에 있어서, 상기 직류 전압의 방향을 바꾸어 인가하여 전자증폭이 발생하는 면을 다른 면으로 바꾸는 것을 특징으로 하는 전자빔 증폭기
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10
제1항에 있어서, 상기 양쪽 면 중 전자증폭이 발생하는 면에 이차전자 방출 특성을 변화시키는 금속 또는 절연막을 코팅한 것을 특징으로 하는 전자빔 증폭기
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