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고주파 플라즈마 소스를 이용한 상압 플라즈마 방전 시스템

  • 기술번호 : KST2015165119
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 기존의 저온 플라즈마 방전에서 주로 플라즈마 소스로 사용해 왔던 RF 13.56MHz 및 마그네트론을 이용한 2.45GHz 보다 고대역의 플라즈마 소스를 사용함으로써 플라즈마 소스에서 플라즈마로의 에너지 전달이 최대가 되도록 하는 동시에, 플라즈마 소스의 주파수와 플라즈마 내부 입자들간의 충돌 주파수를 일치시킴으로써 효과적인 방전 특성을 확보하여 경쟁력있는 고주파 플라즈마 소스를 이용한 상압 방전 시스템을 구축함은 물론 이 상압 방전 시스템을 이용하여 각종 재료 공정, 살균, 정화 및 환경 개선 등의 분야에 응용할 수 있도록 된 것으로, K-밴드 이상의 고주파 플라즈마 소스를 발생시키는 고주파 플라즈마 소스 발생원; 상기 고주파 플라즈마 소스 발생원으로 소정의 동작 전원을 공급하는 파워 써플라이; 상압 플라즈마 방전이 진행되는 챔버; 상기 고주파 플라즈마 소스 발생원에서 발생된 고주파 플라즈마 소스를 상기 챔버로 전달하는 도파관; 소정의 대상물을 안착시키기 위한 홀더; 및 상기 홀더로 바이어스를 인가하는 홀더 바이어스를 포함하여 구성된다. 고주파 플라즈마 소스, 상압 플라즈마 방전 시스템.
Int. CL H01L 21/3065 (2006.01)
CPC H01J 37/32165(2013.01) H01J 37/32165(2013.01) H01J 37/32165(2013.01) H01J 37/32165(2013.01)
출원번호/일자 1019990058200 (1999.12.16)
출원인 고등기술연구원연구조합
등록번호/일자 10-0339813-0000 (2002.05.24)
공개번호/일자 10-2001-0056642 (2001.07.04) 문서열기
공고번호/일자 (20020607) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1999.12.16)
심사청구항수 2

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고등기술연구원연구조합 대한민국 경기도 용인시 처인구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 송호영 대한민국 경기도성남시분당구
2 이근호 대한민국 경기도성남시분당구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 윤병삼 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 *, *층(역삼동, 대아빌딩)(특허법인 신우)
2 감동훈 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길 **, 뉴서울빌딩 ***호 신우국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 사단법인 고등기술연구원 연구조합 대한민국 서울 중구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 1999.12.16 수리 (Accepted) 1-1-1999-0172608-37
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2000.05.12 수리 (Accepted) 4-1-2000-0063305-60
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2000.05.18 수리 (Accepted) 4-1-2000-0066277-94
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2001.06.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2001-0170824-65
5 복대리인선임신고서
Report on Appointment of Sub-agent		 2001.08.28 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2001-5239999-78
6 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2001.08.28 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2001-0217519-33
7 의견서
Written Opinion		 2001.08.28 수리 (Accepted) 1-1-2001-0217518-98
8 반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document		 2001.09.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2001-0046428-14
9 복대리인선임신고서
Report on Appointment of Sub-agent		 2001.09.10 수리 (Accepted) 1-1-2001-5253011-24
10 반려통지서
Notice for Return		 2001.10.26 수리 (Accepted) 1-5-2001-0057244-67
11 등록결정서
Decision to grant		 2002.02.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0056991-64
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2004.12.16 수리 (Accepted) 4-1-2004-5105415-35
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2004.12.16 수리 (Accepted) 4-1-2004-5105550-91
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2007.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2007-5123887-97
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2010.03.23 수리 (Accepted) 4-1-2010-5049999-70
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.07.03 수리 (Accepted) 4-1-2013-5092832-77
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.04.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-5041626-28
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.04.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-0054125-21
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.09.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5177074-19
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

(정 정) 플라즈마 소스를 발생시키는 플라즈마 소스 발생원, 상기 플라즈마 소스 발생원으로 소정의 동작 전원을 공급하는 파워 써플라이, 플라즈마 방전이 진행되는 챔버, 상기 플라즈마 소스 발생원에서 발생된 플라즈마 소스를 상기 챔버로 전달하는 도파관, 소정의 대상물을 안착시키는 홀더 및 상기 홀더로 바이어스를 인가하는 홀더 바이어스로 이루어진 플라즈마 방전 시스템에 있어서,

상기 챔버를 진공챔버로 설치하고, 상기 진공챔버 외부에 솔레노이드 마그네트를 더 설치하여 그 자기장 효과로 플라즈마 입자를 싸이클로트론 주파수로 회전운동시키는 한편, 상기 플라즈마 소스 발생원을 K-밴드 이상의 고주파 플라즈마 소스를 발생시켜 상기 플라즈마 소스의 주파수가 상기 솔레노이드 마그네트의 자기장 효과로 인한 플라즈마 입자의 싸이클로트론 주파수와 일치하도록 튜닝하는 것을 특징으로 하는 고주파 플라즈마 소스를 이용한 상압 플라즈마 방전 시스템

2 2

(삭 제)
3 3

(정 정) 제 1항에 있어서, 상기 플라즈마 소스 발생원은

마그네트론, 클라이스트론, 클라이스트로드 및 자이로트론 중 어느 하나로 구현되는 것을 특징으로 하는 고주파 플라즈마 소스를 이용한 상압 플라즈마 방전 시스템

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.