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열린 공진기를 이용한 마이크로웨이브 플라즈마 방전 시스템

  • 기술번호 : KST2015165162
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플라즈마 재료 공정(plasma material processing) 용도로 사용되는 마이크로웨이브 플라즈마를 방전시키는 시스템에 관한 것이다. 종래의 마이크로웨이브 플라즈마 방전 시스템은 2.45GHz 혹은 915GHz 등의 고정된 단일 주파수를 사용하여 단일 공진 모드 플라즈마를 발생시키는 것으로, 기계적 튜닝(tuning)에 의하여 정해진 공진 모드에 결합시킬 수 있다. 그러나, 단일 파동 패턴(single wave pattern)에 기인된 제한적인 스케일-업(scale-up) 문제 및 전자기장이 강한 곳과 약한 곳의 차이에 의한 플라즈마 처리물의 표면 처리 상태의 균일도(quality) 문제 등 경제적, 기술적 문제점이 있다. 본 발명에서는 마이크로웨이브 플라즈마를 방전시키기 위해 열린 공진기를 사용하기 때문에, 연속적 공정으로 피처리물을 개방된 통로로 이송시키면서 플라즈마 방전 공정을 신속하게 수행하는 것이 가능하다. 따라서, 짧은 시간에 대량의 시료에 대하여 효율적인 플라즈마 방전 공정을 수행 할 수 있는 장점이 있다.
Int. CL H05H 1/46 (2006.01)
CPC H01J 37/32247(2013.01) H01J 37/32247(2013.01) H01J 37/32247(2013.01) H01J 37/32247(2013.01) H01J 37/32247(2013.01)
출원번호/일자 1020010030104 (2001.05.30)
출원인 고등기술연구원연구조합
등록번호/일자 10-0460635-0000 (2004.11.30)
공개번호/일자 10-2002-0091431 (2002.12.06) 문서열기
공고번호/일자 (20041209) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2001.05.30)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고등기술연구원연구조합 대한민국 경기도 용인시 처인구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이근호 대한민국 경기도성남시분당구
2 최진주 대한민국 서울특별시노원구
3 김윤기 대한민국 대전광역시유성구
4 홍정미 대한민국 경기도용인시
5 송호영 대한민국 경기도성남시분당구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 장성구 대한민국 서울특별시 서초구 마방로 ** (양재동, 동원F&B빌딩)(제일특허법인(유))
2 김원준 대한민국 서울특별시 서초구 마방로 ** (양재동, 동원F&B빌딩)(제일특허법인(유))

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 고등기술연구원연구조합 대한민국 서울 중구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2001.05.30 수리 (Accepted) 1-1-2001-0128731-41
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2002.12.17 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2003.01.17 수리 (Accepted) 9-1-2003-0002336-21
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2004.01.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0037444-91
5 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2004.03.31 수리 (Accepted) 1-1-2004-0134293-44
6 의견서
Written Opinion		 2004.04.29 수리 (Accepted) 1-1-2004-0181377-72
7 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2004.04.29 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2004-0181376-26
8 등록결정서
Decision to grant		 2004.09.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0398399-45
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2004.12.16 수리 (Accepted) 4-1-2004-5105550-91
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2004.12.16 수리 (Accepted) 4-1-2004-5105415-35
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2007.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2007-5123887-97
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2010.03.23 수리 (Accepted) 4-1-2010-5049999-70
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.07.03 수리 (Accepted) 4-1-2013-5092832-77
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.04.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-5041626-28
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.04.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-0054125-21
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.09.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5177074-19
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

플라즈마 방전 시스템에 있어서,

마이크로웨이브를 발생시키는 마이크로웨이브 발생부와,

상기 마이크로웨이브를 공진시켜 얻어진 에너지를 이용하여 플라즈마 방전을 수행하고, 플라즈마 방전시 피처리물을 공진기 내외로 이송하는 개방부를 갖는 열린 공진기와,

상기 열린 공진기 주위를 둘러싸는 공축 구조의 도파관과,

상기 공축 구조의 도파관과 상기 열린 공진기 사이에 형성되어 상기 열린 공진기에 상기 에너지를 전달하는 커플링 홀을 포함하고,

상기 개방부는 상기 플라즈마가 형성되는 전자기장 집중부를 중심으로 상호 대칭을 이루도록 형성되는 것을 특징으로 한 열린 공진기를 이용한 마이크로웨이브 플라즈마 방전 시스템

2 2

제 1 항에 있어서,

상기 커플링 홀은 E-플레인 커플링 또는 H-플레인 커플링의 방식으로 상기 마이크로웨이브를 공진시킨 에너지를 전달하는 것을 특징으로 하는 열린 공진기를 이용한 마이크로웨이브 플라즈마 방전 시스템

3 3

제 1 항에 있어서,

상기 공축 구조의 도파관은 E-플레인 또는 H-플레인 결합 방식 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 열린 공진기를 이용한 마이크로웨이브 플라즈마 방전 시스템

4 4

삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.