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다중 공진 모드를 이용한 플라즈마 방전 시스템

  • 기술번호 : KST2015165163
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요약 본 발명은 단일/다중 주파수를 이용한 중첩된 공진 모드로 플라즈마 재료 공정 용도로 사용되는 마이크로웨이브 플라즈마를 발생시키는 방전 시스템에 관한 것이다. 종래의 마이크로웨이브 플라즈마 방전 시스템은 2.45GHz 혹은 915GHz 등의 고정된 단일 주파수에서 단일 공진 모드를 사용하며 공진기(25) 내에 포함된 튜너의 위치, 크기, 및 모양 등을 변화시킴으로써 기계적으로 튜닝하여 에너지 결합이 최대가 되도록 정합시킨다. 그러나 일반적으로 많이 사용하는 TM010 기본 모드는 공진기(25) 내의 시료 크기에 따라 확장시켜 주는데 제한점이 있다. 또한, 전자기장 분포가 강한 곳과 약한 곳의 차이에 의한 플라즈마 처리 상태의 균일도(uniformity)가 떨어지는 등 경제적, 기술적 문제점이 있다. 본 발명에서는 주파수 가변이 가능한 마이크로웨이브 발생원을 사용함으로써 주파수 쓸기(frequency sweep)를 통해 여러 개의 공진 모드를 여기시켜 공진기 내의 균일도를 향상시키는 등 종래의 단일 모드에서 나타난 제한점들을 극복할 수 있는 것이다. 또한, 단일 주파수를 이용한 선택적 튜닝(selective tuning) 방법에서는 파장 가변이 가능한 마이크로웨이브 발생원을 사용하지 않고도 도파관으로부터 공진기로의 에너지 전달경로를 각각 다르게 함으로 공진기 내로 들어오는 마이크로웨이브의 주파수가 하나로 고정되어 있더라도 서로 다른 두 개의 TE, TM 모드가 생성되는 원리를 사용하였다. 이와 같이 파장 가변원을 사용하거나 결합 방식을 달리함으로써 여러 개의 공진 모드를 중첩시켜 시스템 대형화에 있어 큰 제한을 받던 종래 기술과 달리 대면적의 균일한 플라즈마를 쉽게 얻을 수 있다.
Int. CL H05H 1/46 (2006.01)
CPC H01J 37/32256(2013.01) H01J 37/32256(2013.01) H01J 37/32256(2013.01) H01J 37/32256(2013.01) H01J 37/32256(2013.01)
출원번호/일자 1020010030105 (2001.05.30)
출원인 고등기술연구원연구조합
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2002-0091857 (2002.12.11) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2001.05.30)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고등기술연구원연구조합 대한민국 경기도 용인시 처인구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이근호 대한민국 경기도성남시분당구
2 최진주 대한민국 서울특별시노원구
3 김윤기 대한민국 대전광역시유성구
4 홍정미 대한민국 경기도용인시
5 송호영 대한민국 경기도성남시분당구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 장성구 대한민국 서울특별시 서초구 마방로 ** (양재동, 동원F&B빌딩)(제일특허법인(유))
2 김원준 대한민국 서울특별시 서초구 마방로 ** (양재동, 동원F&B빌딩)(제일특허법인(유))

최종권리자

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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2001.05.30 수리 (Accepted) 1-1-2001-0128732-97
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2002.12.17 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2003.01.17 수리 (Accepted) 9-1-2003-0002337-77
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2004.01.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0037445-36
5 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2004.03.31 수리 (Accepted) 1-1-2004-0134298-72
6 의견서
Written Opinion
2004.04.29 수리 (Accepted) 1-1-2004-0182215-63
7 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.
2004.04.29 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2004-0182214-17
8 의견서
Written Opinion
2004.04.29 수리 (Accepted) 1-1-2004-0182231-94
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2004.09.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0398400-15
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2004.12.16 수리 (Accepted) 4-1-2004-5105415-35
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2004.12.16 수리 (Accepted) 4-1-2004-5105550-91
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2007.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2007-5123887-97
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.03.23 수리 (Accepted) 4-1-2010-5049999-70
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.07.03 수리 (Accepted) 4-1-2013-5092832-77
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.04.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-5041626-28
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.04.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-0054125-21
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.09.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5177074-19
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

설정 범위 내에서 연속적으로 주파수 가변되는 마이크로웨이브를 발생시키는 마이크로웨이브 발생부;

상기 마이크로웨이브 발생부로부터 인가된 마이크로웨이브를 공진시키며, 상기 가변된 주파수에 의하여 각각 발생되는 공진 모드가 중첩되어 생성된 다중 모드의 마이크로웨이브로부터 얻어진 에너지를 이용하여 플라즈마 방전을 수행하는 공진부를 포함하여 구성되는 다중 공진 모드를 이용한 플라즈마 방전 시스템

2 2

제 1 항에 있어서,

상기 공진부는, 상기 마이크로웨이브 발생부에서 발생되는 마이크로웨이브를 반사 없이 통과시키는 순환부;

상기 공진부로 입사하는 출력과 상기 공진부로부터 반사하는 출력을 측정하는 방향성 결합부;

상기 순환부를 지나 반사된 마이크로웨이브를 흡수하는 모의 부하 수단을 포함하여 구성되는 다중 공진 모드를 이용한 플라즈마 방전 시스템

3 3

제 1 항에 있어서,

상기 마이크로웨이브 발생부는 결합 공진기 타입이나 나선형 타입인 것을 특징으로 하는 다중 공진 모드를 이용한 플라즈마 방전 시스템

4 4

단일 주파수의 마이크로웨이브를 발생시키는 마이크로웨이브 발생부;

상기 발생된 마이크로웨이브의 출력 파워를 분배하는 출력 분배부;

상기 출력 분배부로부터 일 출력을 제공받아 공진부로 전달하는 제 1 도파관 수단;

상기 출력 분배부로부터 다른 출력을 제공받아 공진부로 전달하는 제 2 도파관 수단;

상기 제 1, 제 2 도파관 수단에 의해 전달받은 마이크로웨이브를 각각 E-플레인 커플링 및 H-플레인 커플링에 의하여 인가 받아 공진시키며, 상기 커플링 방식에 따라 각각 발생되는 공진 모드가 중첩되어 생성된 다중 모드의 마이크로웨이브로부터 얻어진 에너지를 이용하여 플라즈마 방전을 수행하는 공진부를 포함하여 구성되는 다중 공진 모드를 이용한 플라즈마 방전 시스템

5 5

제 4 항에 있어서,

상기 도파관은 폭과 높이가 조절되어 TM 모드나 TE 모드로 변경되는 것을 특징으로 하는 다중 공진 모드를 이용한 플라즈마 방전 시스템

6 6

제 4 항에 있어서,

상기 공진부는, 상기 마이크로웨이브 발생부에서 발생되는 마이크로웨이브를 반사 없이 통과시키는 순환부;

상기 공진부로 입사하는 출력과 상기 공진부로부터 반사하는 출력을 측정하는 방향성 결합부;

상기 순환부를 지나 반사된 마이크로웨이브를 흡수하는 모의 부하 수단을 포함하여 구성되는 다중 공진 모드를 이용한 플라즈마 방전 시스템

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.