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상압 플라즈마를 이용한 분말 표면처리 장치

기술번호 : KST2015165217
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	본 발명은 분말의 기계적 이송에 의해 균일한 표면처리로 분산력 또는 관능기를 발달시켜 고기능성 소재를 제조할 수 있는 상압 플라즈마를 이용한 분말 표면처리 장치에 관한 것이다. 이러한 본 발명의 장치는 유전체관; 유전체관의 외부에 위치한 제 1 전극; 유전체관의 내부로 반응가스를 주입하기 위한 반응 가스 주입부; 표면처리할 분말을 상기 유전체관의 내부로 주입하기 위한 분말 인입부; 처리된 분말을 반응가스와 함께 배출하기 위한 배출구; 유전체관의 내부에 위치하며, 제1 전극과 사이에 전원이 인가되고 반응가스가 주입되면 유전체관과의 사이에 플라즈마를 발생시키며, 분말 인입부를 통해 인입된 분말을 소정의 이송속도로 플라즈마 영역을 거쳐 배출구로 이송시키는 제2 전극; 제1 전극과 제2 전극 사이에 교류 전원을 인가하기 위한 전원부; 및 제2 전극을 회전시키기 위한 회전수단을 구비한다. 본 발명에 따르면 기존에 사용되고 있는 처리 장치의 경우에 비하여 분진이 발생하지 않으면서 이송 속도 및 양의 제어가 가능하고, 기계적인 혼합으로 분말 표면에 플라즈마를 균일하게 접촉시켜 분말의 표면특성을 효율적으로 개선할 수 있다. 분말이송, 기계적, 나사산, 플라즈마, 표면개질, 분말, 모터
Int. CL	B01J 19/08 (2006.01)
CPC	B01J 19/088(2013.01) B01J 19/088(2013.01) B01J 19/088(2013.01)
출원번호/일자	1020030052297 (2003.07.29)
출원인	고등기술연구원연구조합
등록번호/일자	10-0536894-0000 (2005.12.08)
공개번호/일자	10-2005-0013745 (2005.02.05) 문서열기
공고번호/일자	(20051216) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태	소멸
심사진행상태	수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2003.07.29)
심사청구항수	7

출원인

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번호	이름	국적	주소
1	고등기술연구원연구조합	대한민국	경기도 용인시 처인구

발명자

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번호	이름	국적	주소
1	김정순	대한민국	경기도용인시
2	엄환섭	미국	경기도용인시
3	김형석	대한민국	경기도오산시

대리인

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번호	이름	국적	주소
1	윤병삼	대한민국	서울특별시 강남구 테헤란로*길 , *층(역삼동, 대아빌딩)(특허법인 신우)
2	감동훈	대한민국	서울특별시 강남구 테헤란로길 , 뉴서울빌딩 **호 신우국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호	이름	국적	주소
1	고등기술연구원연구조합	대한민국	서울 중구

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	특허출원서 Patent Application	2003.07.29	수리 (Accepted)	1-1-2003-0279728-80
2	전자문서첨부서류제출서 Submission of Attachment to Electronic Document	2003.07.31	수리 (Accepted)	1-1-2003-5147574-77
3	보정통지서 Request for Amendment	2003.08.14	발송처리완료 (Completion of Transmission)	1-5-2003-0052441-63
4	서지사항 보정서 Amendment to Bibliographic items	2003.08.18	수리 (Accepted)	1-1-2003-0303452-93
5	선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search	2004.12.15	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
6	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2004.12.16	수리 (Accepted)	4-1-2004-5105415-35
7	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2004.12.16	수리 (Accepted)	4-1-2004-5105550-91
8	선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search	2005.01.17	수리 (Accepted)	9-1-2005-0001160-94
9	의견제출통지서 Notification of reason for refusal	2005.05.23	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2005-0231106-15
10	의견서 Written Opinion	2005.06.29	수리 (Accepted)	1-1-2005-0348794-59
11	명세서등보정서 Amendment to Description, etc.	2005.06.29	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2005-0348803-83
12	복대리인선임신고서 Report on Appointment of Sub-agent	2005.06.29	수리 (Accepted)	1-1-2005-5081002-27
13	등록결정서 Decision to grant	2005.09.08	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2005-0445596-60
14	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2007.08.08	수리 (Accepted)	4-1-2007-5123887-97
15	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2010.03.23	수리 (Accepted)	4-1-2010-5049999-70
16	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2013.07.03	수리 (Accepted)	4-1-2013-5092832-77
17	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2014.04.03	수리 (Accepted)	4-1-2014-5041626-28
18	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2014.04.03	수리 (Accepted)	4-1-2014-0054125-21
19	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2019.09.02	수리 (Accepted)	4-1-2019-5177074-19

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 유전체관;상기 유전체관의 외부에 근접 설치한 제 1 전극;상기 유전체관의 내부로 반응가스를 주입하기 위한 반응 가스 주입부;표면처리할 분말을 상기 유전체관의 내부로 주입하기 위한 분말 인입부;처리된 분말을 반응가스와 함께 배출하기 위한 배출구;도체로 되어 있고 회전수단에 의해 회전되는 중심봉과, 상기 중심봉에 형성되어 분말을 일방향으로 이송시키기 위한 나사산으로 구성되어 상기 유전체관의 내부에 위치하며, 상기 제1 전극과 사이에 전원이 인가되고 상기 반응가스가 주입되면 상기 유전체관과의 사이에 플라즈마를 발생시키며, 상기 분말 인입부를 통해 인입된 분말을 소정의 이송속도로 상기 플라즈마 영역을 거쳐 상기 배출구로 이송시키는 제2 전극; 및상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 교류 전원을 인가하기 위한 전원부를 구비한 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마를 이용한 분말 표면처리 장치
2	2 삭제
3	3 제1항에 있어서, 상기 나사산은 도체 또는 비전도성 재료로 제작된 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마를 이용한 분말 표면처리 장치
4	4 제1항에 있어서, 상기 분말 이동속도(플라즈마의 접촉시간)는상기 나사산의 회전속도를 제어하여 결정하는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마를 이용한 분말 표면처리 장치
5	5 제1항에 있어서, 상기 제2 전극을 구성하는 중심봉의 외벽 전체가 유전체로 감싸져 있을 경우 상기 나사산 및 상기 유전체관을 전도성을 띄고 가공하기 쉬운 금속을 사용하여 제1 전극으로 사용함으로써 별도의 제1 전극이 필요없도록 된 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마를 이용한 분말 표면처리 장치
6	6 제1항에 있어서, 상기 제 1 전극이 코일, 망, 혹은 테이프의 형태로 되어 나선형 또는 플레이트 형으로 상기 유전체관에 부착된 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마를 이용한 분말 표면처리 장치
7	7 제1항에 있어서, 상기 유전체관은 그 형상이 원형 및 다각형으로 변형 가능한 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마를 이용한 분말 표면처리 장치
8	8 제1항에 있어서, 상기 인입구, 상기 가스 주입구, 및 상기 배출구에는 분말과 가스를 분리하기 위한 비드, 울, 혹은 글래스 맴브레인으로 된 분리시스템이 구비된 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마를 이용한 분말 표면처리 장치
9	8 제1항에 있어서, 상기 인입구, 상기 가스 주입구, 및 상기 배출구에는 분말과 가스를 분리하기 위한 비드, 울, 혹은 글래스 맴브레인으로 된 분리시스템이 구비된 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마를 이용한 분말 표면처리 장치

본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.

이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허 등록번호 표입니다.
특허 등록번호	10-0536894-0000

권리란

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표시번호	사항
1	출원 연월일 : 20030729 출원 번호 : 1020030052297 공고 연월일 : 20051216 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20050908 청구범위의 항수 : 7 유별 : B01J 19/08 발명의 명칭 : 상압 플라즈마를 이용한 분말 표면처리 장치 존속기간(예정)만료일 : 20081209

특허권자란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허권자란 표입니다.
순위번호	사항
1	(권리자) 고등기술연구원연구조합 서울 중구...

등록료란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 등록료란 표입니다.
제 1 - 3 년분	금 액	229,500 원	2005년 12월 09일	납입

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정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송번호의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 통합행정정보 > 등록료란 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	특허출원서	2003.07.29	수리 (Accepted)	1-1-2003-0279728-80
2	전자문서첨부서류제출서	2003.07.31	수리 (Accepted)	1-1-2003-5147574-77
3	보정통지서	2003.08.14	발송처리완료 (Completion of Transmission)	1-5-2003-0052441-63
4	서지사항 보정서	2003.08.18	수리 (Accepted)	1-1-2003-0303452-93
5	선행기술조사의뢰서	2004.12.15	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
6	출원인정보변경(경정)신고서	2004.12.16	수리 (Accepted)	4-1-2004-5105415-35
7	출원인정보변경(경정)신고서	2004.12.16	수리 (Accepted)	4-1-2004-5105550-91
8	선행기술조사보고서	2005.01.17	수리 (Accepted)	9-1-2005-0001160-94
9	의견제출통지서	2005.05.23	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2005-0231106-15
10	의견서	2005.06.29	수리 (Accepted)	1-1-2005-0348794-59
11	명세서등보정서	2005.06.29	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2005-0348803-83
12	복대리인선임신고서	2005.06.29	수리 (Accepted)	1-1-2005-5081002-27
13	등록결정서	2005.09.08	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2005-0445596-60
14	출원인정보변경(경정)신고서	2007.08.08	수리 (Accepted)	4-1-2007-5123887-97
15	출원인정보변경(경정)신고서	2010.03.23	수리 (Accepted)	4-1-2010-5049999-70
16	출원인정보변경(경정)신고서	2013.07.03	수리 (Accepted)	4-1-2013-5092832-77
17	출원인정보변경(경정)신고서	2014.04.03	수리 (Accepted)	4-1-2014-5041626-28
18	출원인정보변경(경정)신고서	2014.04.03	수리 (Accepted)	4-1-2014-0054125-21
19	출원인정보변경(경정)신고서	2019.09.02	수리 (Accepted)	4-1-2019-5177074-19

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