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가스화기에서 발생되며 복수의 오염물질을 포함한 합성가스의 정제시스템에 있어서,상기 오염물질 중 적어도 일부를 제거하는 제1 제거용액이 분사되어 상기 합성가스에 포함된 오염물질 중 적어도 하나가 제거되는 제1 정제부; 및상기 오염물질 중 적어도 일부를 제거하는 제2 제거용액이 분사되어 상기 제1 정제부를 거친 상기 합성가스에 포함된 오염물질 중 적어도 하나가 제거되는 제2 정제부를 포함하여, 상기 합성가스는 상기 제1 및 제2 정제부를 거쳐 연속으로 정제되며, 상기 합성가스에 분사된 상기 제1 및 제2 제거용액은 제1 및 제2 정제부의 하부에서 각각 회수된 후 오염물질을 분리하고 재분사되며,상기 제1 정제부와 상기 제2 정제부는 상기 합성가스가 흐르는 연결배관으로 연결되며, 상기 연결배관에는 상기 제1 및 제2 제거용액 중 적어도 하나에서 발생하는 미스트를 제거하는 배플(baffle) 및 데미스터(demister) 중 적어도 하나가 마련되며, 상기 제1 정제부 및 제2 정제부는 각각 U자형의 곡관을 포함하며 상기 연결배관으로 연결되어 상기 오염물질을 제거하는 W자 형의 단일 반응기 형태를 이루는 것을 특징으로 하는 합성가스의 연속정제 시스템
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제 1항에 있어서, 상기 제1 정제부는상기 합성가스가 흐르며 상기 제1 제거용액과 반응하는 제1 곡관; 상기 제1 곡관에 상기 제1 제거용액을 분사하는 적어도 하나의 제1 분사부;상기 제1 곡관의 하부에 마련되며 분사된 상기 제1 제거용액이 회수되는 제1 회수조; 상기 제1 회수조에 회수된 상기 제1 제거용액에 포함된 상기 오염물질을 분리하는 제1 필터부; 및상기 제1 필터부를 거친 상기 제1 제거용액을 펌핑하여 제1 분사부로 공급하는 제1 펌프를 포함하는 합성가스의 연속정제 시스템
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제 4항에 있어서, 상기 제2 정제부는상기 제1 정제부를 거친 상기 합성가스가 흐르며 상기 제2 제거용액과 반응하는 제2 곡관; 상기 제2 곡관에 상기 제2 제거용액을 분사하는 적어도 하나의 제2 분사부;상기 제2 곡관의 하부에 마련되며 분사된 상기 제2 제거용액이 회수되는 제2 회수조; 상기 제2 회수조에 회수된 상기 제2 제거용액에 포함된 상기 오염물질을 분리하는 제2 필터부; 및상기 제2 필터부를 거친 상기 제2 제거용액을 펌핑하여 제2 분사부로 공급하는 제2 펌프를 포함하는 합성가스의 연속정제 시스템
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제 1항에 있어서, 상기 제2 정제부를 거친 상기 합성가스의 오염물질을 추가로 제거하는 적어도 하나의 추가 정제부를 더 포함하되, 상기 적어도 하나의 추가 정제부에는 각각의 제거용액이 분사되어 상기 합성가스 중 오염물질이 제거되며, 상기 제1 정제부, 제2 정제부 및 추가 정제부의 반응조는 병렬로 인접하여, 상기 합성가스는 직전 정제부의 반응조에서 각각의 연결배관을 통해 다음 정제부의 반응조로 공급되는 것을 특징으로 하는 합성가스의 연속정제 시스템
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제 6항에 있어서, 상기 제1 정제부, 제2 정제부 및 추가 정제부 각각은, 상기 합성가스가 공급되며 제거용액과 반응하는 반응조; 상기 반응조로 상기 제거용액을 분사하는 분사부; 상기 반응조 하부로 회수된 제거용액 중 오염물질을 분리하는 필터부; 상기 필터부를 거친 제거용액을 상기 분사부로 공급하는 펌프를 포함하며, 상기 반응조 하부는 깔때기 형태로 모아져 상기 제거용액이 회수되어 상기 필터부로 도입되는 것을 특징으로 하는 합성가스의 연속정제 시스템
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