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원편광 공진 모드를 이용한 플라즈마 방전 시스템

  • 기술번호 : KST2015165730
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요약 본 발명은 균일한 대면적 마이크로웨이브 플라즈마(uniform large area microwave plasma)를 발생시키는 원편광 공진 모드(circularly polarized cavity mode)를 이용한 플라즈마 방전 시스템에 관한 것이다. 종래에는 단일 주파수, 단일 모드(대부분 저차수(low order mode)의 기본모드), 및 선형 편광 상태의 파동(linearly polarized wave)을 이용한 공진 구조이기 때문에, 전자기장(field)이 강한 부분에서만 플라즈마가 집중적으로 발생하여 특정 지점의 온도가 크게 상승하는 등 플라즈마가 불 균일해지는 문제가 있다. 본 발명에서는 고차수의 모드 및 다중 모드 전자기장의 편광 상태를 회전시킴으로써 기존에 주로 사용해왔던 저차수의 기본 모드 및 선형 편광 상태의 파동이 갖는 단점을 극복하여 플라즈마 재료 공정 등 여러 응용 분야에 기술적 및 경제적 이점을 제공한다. 원편광 모드를 사용할 경우에는 저차의 기본 모드를 단일 모드로 사용하더라도 전자기장의 편광이 공진기 내를 진행하면서 회전하기 때문에 특정한 모드에 의해 고정되는 전자기장의 공간에 따른 변화가 상대적으로 완만해져 균일도에 있어 획기적인 향상을 기대할 수 있다.
Int. CL H05H 1/46 (2006.01)
CPC H01J 37/32293(2013.01) H01J 37/32293(2013.01) H01J 37/32293(2013.01) H01J 37/32293(2013.01) H01J 37/32293(2013.01)
출원번호/일자 1020010030103 (2001.05.30)
출원인 고등기술연구원연구조합
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2002-0091430 (2002.12.06) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2001.05.30)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고등기술연구원연구조합 대한민국 경기도 용인시 처인구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이근호 대한민국 경기도성남시분당구
2 최진주 대한민국 서울특별시노원구
3 김윤기 대한민국 대전광역시유성구
4 홍정미 대한민국 경기도용인시
5 송호영 대한민국 경기도성남시분당구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 장성구 대한민국 서울특별시 서초구 마방로 ** (양재동, 동원F&B빌딩)(제일특허법인(유))
2 김원준 대한민국 서울특별시 서초구 마방로 ** (양재동, 동원F&B빌딩)(제일특허법인(유))

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2001.05.30 수리 (Accepted) 1-1-2001-0128730-06
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2002.12.17 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2003.01.17 수리 (Accepted) 9-1-2003-0002335-86
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2003.12.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2003-0498050-16
5 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2004.03.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0126218-44
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2004.12.16 수리 (Accepted) 4-1-2004-5105550-91
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2004.12.16 수리 (Accepted) 4-1-2004-5105415-35
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2007.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2007-5123887-97
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.03.23 수리 (Accepted) 4-1-2010-5049999-70
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.07.03 수리 (Accepted) 4-1-2013-5092832-77
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.04.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-0054125-21
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.04.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-5041626-28
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.09.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5177074-19
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번호 청구항
1 1

마이크로웨이브 발생부;

상기 마이크로웨이브의 출력을 분배시키는 출력 분배부;

상기 출력 분배부에 의하여 분배된 마이크로웨이브간 90°의 위상차가 형성되도록 각각의 마이크로웨이브를 위상 천이시키는 위상 변환부;

상기 위상차를 갖는 각각의 마이크로웨이브를 인가 받고, 상기 마이크로웨이브가 합성됨에 따라 형성되는 원편광 형태의 마이크로웨이브로부터 얻어진 에너지를 이용하여 플라즈마 방전을 수행하는 공진부를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 원편광 공진 모드를 이용한 플라즈마 방전 시스템

2 2

제 1 항에 있어서,

상기 위상 변환부는 상기 두 개의 웨이브에 90° 위상차를 주어 상기 원편광 파동 모드를 형성시키는 것을 특징으로 하는 원편광 공진 모드를 이용한 플라즈마 방전 시스템

3 3

제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

상기 공진부는 원통 형태인 것을 특징으로 하는 원편광 공진 모드를 이용한 플라즈마 방전 시스템

4 4

제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

상기 공진부는 구 형태인 것을 특징으로 하는 원편광 공진 모드를 이용한 플라즈마 방전 시스템

5 5

제 1 항에 있어서,

상기 위상 변환부로부터 제공되는 상기 위상차를 갖는 두 개의 웨이브를 가변 감쇄하여 상기 공진부에 인가하는 가변 감쇄부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 원편광 공진 모드를 이용한 플라즈마 방전 시스템

6 6

제 1 항에 있어서,

상기 공진부 주위에 설치되어 상기 공진부 내에서 형성되는 플라즈마를 상기 공진부의 중앙 부분에 가두는 다수의 자석을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 원편광 공진 모드를 이용한 플라즈마 방전 시스템

7 7

제 1 항에 있어서,

상기 출력 분배부에서 출력을 1:1 외의 비율로 나누어 상기 공진부에 입사할 때 타원편광 상태로 입사되는 것을 특징으로 하는 타원편광 공진 모드를 이용한 플라즈마 방전 시스템

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.