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(a) 기판에 액상 PDMS를 도포하여 액상 PDMS 기질을 형성하는 단계;(b) 상기 액상 PDMS 기질의 표면을 고체 산화박막으로 전이시키는 단계; 및(c) 상기 고체 산화박막을 상기 액상 PDMS 기질과 분리하는 단계를 포함하며,상기 (c) 단계는 용매를 이용하여 상기 고체 산화박막과 접하는 상기 액상 PDMS 기질을 용해시켜 제거하는 것을 특징으로 하는 고분자 박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 (b) 단계는 산소플라즈마 처리 또는 UV/O3 처리에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 고분자 박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 액상 PDMS는 탄성중합체(elastomer), 또는 탄성중합체와 가교제(cross-linker)의 혼합물인 것을 특징으로 하는 고분자 박막의 제조방법
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제 3 항에 있어서,상기 액상 PDMS는 첨가제를 함유하는 것을 특징으로 하는 고분자 박막의 제조방법
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제 4 항에 있어서,상기 첨가제는 점도조절제, 계면활성제, 마이크로 입자, 나노 입자, 자성 입자 중에서 선택된 하나 이상이 사용되는 것을 특징으로 하는 고분자 박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 용매는 톨루엔(toluene), 아세톤(acetone), 헥산(hexane), 클로로포름(chloroform), 에탄올(ethanol), 메탄올(methanol), 3차-부틸 알코올(tert-butyl alcohol), 물(water) 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 고분자 박막의 제조방법
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(a) 기판에 액상 PDMS를 도포하여 액상 PDMS 기질을 형성하는 단계;(b) 상기 액상 PDMS 기질의 표면을 고체 산화박막으로 전이시키는 단계; 및(c) 상기 고체 산화박막을 상기 액상 PDMS 기질과 분리하는 단계를 포함하며,상기 (c) 단계는 상기 고체 산화박막을 다른 기판으로 전사한 후 상기 액상 PDMS 기질을 제거하는 것을 특징으로 하는 고분자 박막의 제조방법
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(a) 기판에 액상 PDMS를 도포하여 액상 PDMS 기질을 형성하는 단계;(b) 상기 액상 PDMS 기질의 표면을 고체 산화박막으로 전이시키는 단계; 및(c) 상기 고체 산화박막을 상기 액상 PDMS 기질과 분리하는 단계를 포함하며,상기 (c) 단계는,상기 고체 산화박막에 스크래치를 형성하는 단계,상기 고체 산화박막이 형성된 기판을 전사 용액 속에 넣었다가 상기 전사 용액의 수면으로부터 기울인 상태로 상기 전사 용액으로부터 꺼내어 상기 고체 산화박막을 상기 전사 용액과 공기의 계면으로 전사시키는 단계, 및상기 전사 용액과 공기의 계면으로 전사된 상기 고체 산화박막을 다른 기판으로 떠내는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 박막의 제조방법
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제1항, 제9항, 제10항 중 어느 한 항에 있어서,상기 기판은 PDMS, 유리(glass), 파이렉스(pyrex), 실리콘(silicon), 테플론(teflon), 폴리스티렌(polystyrene), 폴리에틸렌(polyethyene), 락테이트(lactate), 스티렌(styrene), 아크릴 레이트(acylate), 실리콘 중합체, 실리콘 공중합체, 에폭시 중합체, 에폭시 공중합체, 아크릴 중합체, 아크릴 공중합체 중에서 선택되는 하나 이상의 소재로 이루어지는 것을 특징으로 하는 고분자 박막의 제조방법
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제1항, 제9항, 제10항 중 어느 한 항에 있어서,상기 (a) 단계에서 상기 액상 PDMS의 도포는 스핀코팅(spin coating), 딥코팅(dip coating), 낙하(dropping), 페인팅(painting), 분사(spray), 프린팅(printing), 스포팅(spotting) 중에서 선택된 방법에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 고분자 박막의 제조방법
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