맞춤기술찾기

이전대상기술

스퍼터링 장치

  • 기술번호 : KST2015166900
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 기판에 박막을 형성하기 위해 사용되는 스퍼터링 장치에 관한 것이다. 스퍼터링 장치는 진공 챔버와, 상기 진공 챔버 내에 배치되어 기판을 지지하는 기판 홀더와, 상기 진공 챔버 내에서 상기 기판 홀더와 마주하게 배치된 마그네트론 건과, 상기 기판과 마주하게 상기 마그네트론 건에 장착된 타겟 및 상기 타켓의 주위에 설치되어 상기 타겟에서 방사된 스퍼터 입자들을 상기 기판으로 유도하는 자기장 인가부를 포함한다.
Int. CL C23C 14/35 (2006.01)
CPC C23C 14/35(2013.01) C23C 14/35(2013.01) C23C 14/35(2013.01) C23C 14/35(2013.01)
출원번호/일자 1020120142931 (2012.12.10)
출원인 경희대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2014-0074687 (2014.06.18) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.12.10)
심사청구항수 2

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 경희대학교 산학협력단 대한민국 경기도 용인시 기흥구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 손필국 대한민국 경기 수원시 영통구
2 김성수 대한민국 서울 송파구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인 신지 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길 **, *층 ***호실(역삼동, 청원빌딩)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.12.10 수리 (Accepted) 1-1-2012-1024872-78
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.08.23 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.10.10 수리 (Accepted) 9-1-2013-0085000-10
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.02.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0083443-14
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.04.04 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0327540-44
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.04.04 수리 (Accepted) 1-1-2014-0327539-08
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2014.08.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0564144-61
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.09 수리 (Accepted) 4-1-2015-5029677-09
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164254-26
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
진공 챔버;상기 진공 챔버 내에 배치되어 기판을 지지하는 기판 홀더;상기 진공 챔버 내에서 상기 기판 홀더와 마주하게 배치된 마그네트론 건;상기 기판과 마주하게 상기 마그네트론 건에 장착된 타겟; 및상기 타켓의 주위에 설치되어 상기 타겟에서 방사된 스퍼터 입자들을 상기 기판으로 유도하는 자기장 인가부;를 포함하는 스퍼터링 장치
2 2
제2항에 있어서, 상기 자기장 인가부는,중공을 갖고 양쪽 부위가 개구되어 개구된 한쪽 부위를 통해 상기 타겟을 수용하는 지지체와,상기 지지체 내에 장착된 솔레노이드를 포함하는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치
3 3
제1항에 있어서, 상기 타겟은 메탈과 유전체 중 적어도 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치
4 4
제3항에 있어서, 상기 메탈은 Cu, Al, Mo, Ni, Fe, Ag, W 중 선택된 어느 하나로 이루어지며,상기 유전체는 SiO2, Al2O3, Fe2O3, WO3, ZrO2, TiO2 중 선택된 어느 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.