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(a) 일정한 주기로 배치되는 다수의 미세 패턴 돌기로 이루어지는 미세 격자패턴 구조물이 표면에 마련된 마스터 몰드를 형성하는 단계;(b) 상기 마스터 몰드의 표면에 액상의 투명 폴리머를 코팅하여 투명 폴리머층을 형성하는 단계;(c) 상기 액상의 투명 폴리머층을 경화시키는 단계; 및(d) 상기 투명 폴리머층이 경화된 것으로, 그 일면에 상기 다수의 미세 패턴 돌기에 대응하는 다수의 미세 패턴 홈으로 이루어진 무반사 미세 격자패턴 구조물이 형성된 반사 방지막을 상기 마스터 몰드로부터 분리하는 단계;를 포함하고,상기 (b) 단계는 상기 마스터 몰드의 표면에 액상의 하드 PDMS를 코팅하여 하드 PDMS층을 형성하는 단계와,상기 하드 PDMS층 위에 액상의 소프트 PDMS를 코팅하여 소프트 PDMS층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반사 방지막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 (b) 단계에서 상기 투명 폴리머는 PDMS인 것을 특징으로 하는 반사 방지막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 (a) 단계에서 레이저 간섭 리소그래피, 홀로그램 리소그래피, 전자빔 리소그래피, 자가 마스크(self-masked) 패턴 형성 중에서 선택된 패턴 형성 방법과 건식 식각 방법으로 상기 마스터 몰드의 표면에 상기 미세 격자패턴 구조물을 형성하는 것을 특징으로 하는 반사 방지막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 (c) 단계에서 상기 액상의 투명 폴리머층을 열처리하여 경화시키는 것을 특징으로 하는 반사 방지막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 마스터 몰드는 실리콘으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 반사 방지막의 제조방법
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(a) 일정한 주기로 배치되는 다수의 미세 패턴 돌기로 이루어지는 미세 격자패턴 구조물이 표면에 마련된 마스터 몰드를 형성하는 단계;(b) 상기 마스터 몰드의 표면에 액상의 투명 폴리머를 코팅하여 투명 폴리머층을 형성하는 단계;(c) 상기 액상의 투명 폴리머층을 경화시키는 단계; 및(d) 상기 투명 폴리머층이 경화된 것으로, 그 일면에 상기 다수의 미세 패턴 돌기에 대응하는 다수의 미세 패턴 홈으로 이루어진 무반사 미세 격자패턴 구조물이 형성된 반사 방지막을 상기 마스터 몰드로부터 분리하는 단계; 및(e) 상기 반사 방지막을 투명 기판에 부착하는 단계;를 포함하고,상기 (b) 단계는 상기 마스터 몰드의 표면에 액상의 하드 PDMS를 코팅하여 하드 PDMS층을 형성하는 단계와,상기 하드 PDMS층 위에 액상의 소프트 PDMS를 코팅하여 소프트 PDMS층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광소자의 제조방법
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제 7 항에 있어서,상기 (b) 단계에서 상기 투명 폴리머는 PDMS인 것을 특징으로 하는 광소자의 제조방법
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제 7 항에 있어서,상기 (a) 단계에서 레이저 간섭 리소그래피, 홀로그램 리소그래피, 전자빔 리소그래피, 자가 마스크(self-masked) 패턴 형성 중에서 선택된 패턴 형성 방법과 건식 식각 방법으로 상기 마스터 몰드의 표면에 상기 미세 격자패턴 구조물을 형성하는 것을 특징으로 하는 광소자의 제조방법
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제 7 항에 있어서,상기 (c) 단계에서 상기 액상의 투명 폴리머층을 열처리하여 경화시키는 것을 특징으로 하는 광소자의 제조방법
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제 7 항에 있어서,상기 (e) 단계에서 상기 투명 기판은 유리, 사파이어, 투명 플라스틱 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 광소자의 제조방법
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