기술이전플랫폼 Tech-Bridge-이전대상기술

맞춤기술찾기

홈으로 가기

맞춤기술찾기

이전대상기술

프린트하기

이전대상기술

촉매 화학 증착법을 이용한 초소수성 물질의 박막 제조 방법 및 장치

기술번호 : KST2015167284
담당센터 : 서울동부기술혁신센터
전화번호 : 02-2155-3662

상담신청 PDF 받기

상세정보
공개전문
공고전문
등록사항
통합행정정보
기술정보
과제정보
관련기술
심판사항

서지정보
인명정보
행정처리
청구항
지정국
패밀리정보
국가R&D 연구정보

이전 슬라이드 보기 다음 슬라이드 보기

요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	촉매 화학 증착법을 이용한 초소수성 물질의 박막 제조 방법 및 장치가 제공된다. 전술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른, 촉매 화학 증착법을 이용한 초소수성 물질의 박막 제조 방법은, 챔버 내부에 기판을 부착시키고, 상기 챔버 내부를 진공 상태로 만드는 단계; 상기 기판과 일정 거리 이격되어 구비된 촉매체에 전류를 흘려 상기 촉매체를 제2 온도로 상승시키고, 상기 기판을 제1 온도로 냉각시키는 단계; 상기 챔버 내부로 피드 가스를 주입하는 단계; 상기 주입된 피드 가스의 분압, 상기 기판의 온도 및 상기 촉매체의 온도를 조절하여 상기 기판에 초소수성 물질의 박막을 증착시키는 단계를 포함한다. Cat-CVD 방법을 이용하여 자가세정(Self-Cleaning)의 효과가 탁월한 초소수성 표면을 가지는 PTFE 박막을 저온의 환경에서 대면적으로 증착이 가능한 장점이 있다.
Int. CL	H01L 21/205 (2006.01) C23C 16/452 (2006.01) C23C 16/44 (2006.01)
CPC	C23C 16/452(2013.01) C23C 16/452(2013.01) C23C 16/452(2013.01) C23C 16/452(2013.01)
출원번호/일자	1020100035437 (2010.04.16)
출원인	경희대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자	10-2011-0115869 (2011.10.24) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태	거절
심사진행상태	수리
심판사항
구분	신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2010.04.16)
심사청구항수	20

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호	이름	국적	주소
1	경희대학교 산학협력단	대한민국	경기도 용인시 기흥구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호	이름	국적	주소
1	안정선	대한민국	서울특별시 서초구
2	여승준	대한민국	서울특별시 서초구
3	차정옥	대한민국	서울특별시 양천구
4	박소라	대한민국	서울특별시 동대문구
5	조정연	대한민국	경기 남양주시
6	조대희	대한민국	서울특별시 강남구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호	이름	국적	주소
1	오세중	대한민국	서울시 강남구 테헤란로 *, ** (역삼동. 성지하이츠 Ⅱ)(해오름국제특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호	이름	국적	주소
최종권리자 정보가 없습니다

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application	2010.04.16	수리 (Accepted)	1-1-2010-0244744-33
2	[출원서등 보정]보정서 [Amendment to Patent Application, etc.] Amendment	2010.04.22	수리 (Accepted)	1-1-2010-0257052-51
3	선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search	2011.03.10	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
4	선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search	2011.04.11	수리 (Accepted)	9-1-2011-0029831-63
5	의견제출통지서 Notification of reason for refusal	2012.03.21	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2012-0165454-37
6	거절결정서 Decision to Refuse a Patent	2012.10.18	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2012-0621303-26
7	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2015.03.09	수리 (Accepted)	4-1-2015-5029677-09
8	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2019.08.19	수리 (Accepted)	4-1-2019-5164254-26

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 챔버 내부에 기판을 부착시키고, 상기 챔버 내부를 진공 상태로 만드는 단계; 상기 기판과 일정 거리 이격되어 구비된 촉매체에 전류를 흘려 상기 촉매체를 제2 온도로 상승시키고, 상기 기판을 제1 온도로 냉각시키는 단계; 상기 챔버 내부로 피드 가스를 주입하는 단계; 상기 주입된 피드 가스의 분압, 상기 기판의 온도 및 상기 촉매체의 온도를 조절하여 상기 기판에 초소수성 물질의 박막을 증착시키는 단계를 포함하는, 촉매 화학 증착법을 이용한 초소수성 물질의 박막 제조 방법
2	2 제 1 항에 있어서, 상기 초소수성 물질은 PTFE(PolyTetraFluoroEthylene)를 포함하는, 촉매 화학 증착법을 이용한 초소수성 물질의 박막 제조 방법
3	3 제 1 항에 있어서, 상기 피드 가스는, HFPO(HexaFluoroPropylene-Oxide) 가스를 포함하는, 촉매 화학 증착법을 이용한 초소수성 물질의 박막 제조 방법
4	4 제 1 항에 있어서, 상기 챔버 내부를 진공 상태로 만드는 단계는, 진공 펌프를 이용하여 10-6 Torr 이하의 압력 상태로 만드는 단계를 포함하는, 촉매 화학 증착법을 이용한 초소수성 물질의 박막 제조 방법
5	5 제 1 항에 있어서, 상기 기판은 칠러(Chiller)를 이용하여 상기 제1 온도로 냉각되는, 촉매 화학 증착법을 이용한 초소수성 물질의 박막 제조 방법
6	6 제 1 항에 있어서, 상기 제1 온도는 10℃ 내지 50℃의 범위이고, 상기 제2 온도는 500℃ 내지 1200℃의 범위인, 촉매 화학 증착법을 이용한 초소수성 물질의 박막 제조 방법
7	7 제 1 항에 있어서, 상기 촉매체는, W, NiCr, Inconel 600, Fe, SUS304, Mo, Ni, Ti, Ta, 및 Pt 중 적어도 하나를 포함하는, 촉매 화학 증착법을 이용한 초소수성 물질의 박막 제조 방법
8	8 제 3 항에 있어서, 상기 HFPO 가스는, 400mTorr 내지 800mTorr의 분압 및 4sccm 내지 20sccm의 유량을 가지는, 촉매 화학 증착법을 이용한 초소수성 물질의 박막 제조 방법
9	9 제 1 항에 있어서, 상기 증착시키는 단계는, 5분 내지 3시간 동안 증착시키는 단계를 포함하는, 촉매 화학 증착법을 이용한 초소수성 물질의 박막 제조 방법
10	10 진공 상태의 챔버; 상기 챔버의 상부에서 기판 홀더에 의해 부착되며, 제1 온도로 냉각되는 기판; 상기 기판을 향하여 일정 거리 이격되어 구비되며, 전류의 인가에 의해 제2 온도로 상승되는 촉매체; 상기 챔버 내부로 피드 가스를 주입시키는 가스 주입관을 포함하며, 상기 주입된 피드 가스의 분압, 상기 기판의 온도 및 상기 촉매체의 온도를 조절하여 상기 기판에 초소수성 물질의 박막이 증착되는, 촉매 화학 증착법을 이용한 초소수성 물질의 박막 제조 장치
11	11 제 10 항에 있어서, 상기 기판과 상기 촉매체의 사이에 설치되며, 상기 촉매체에 의해 발생되는 불순물과 복사열을 차단하여 상기 기판을 보호하는 셔터를 더 포함하는, 촉매 화학 증착법을 이용한 초소수성 물질의 박막 제조 장치
12	12 제 10 항에 있어서, 상기 초소수성 물질은 PTFE(PolyTetraFluoroEthylene)를 포함하는, 촉매 화학 증착법을 이용한 초소수성 물질의 박막 제조 장치
13	13 제 10 항에 있어서, 상기 피드 가스는, HFPO(HexaFluoroPropylene-Oxide) 가스를 포함하는, 촉매 화학 증착법을 이용한 초소수성 물질의 박막 제조 장치
14	14 제 10 항에 있어서, 상기 진공 상태는, 진공 펌프를 이용하여 10-6 Torr 이하의 압력으로 유지되는 상태인, 촉매 화학 증착법을 이용한 초소수성 물질의 박막 제조 장치
15	15 제 10 항에 있어서, 상기 기판은 칠러(Chiller)를 이용하여 상기 제1 온도로 냉각되는, 촉매 화학 증착법을 이용한 초소수성 물질의 박막 제조 장치
16	16 제 10 항에 있어서, 상기 제1 온도는 10℃ 내지 50℃의 범위이고, 상기 제2 온도는 500℃ 내지 1200℃의 범위인, 촉매 화학 증착법을 이용한 초소수성 물질의 박막 제조 장치
17	17 제 10 항에 있어서, 상기 촉매체는, W, NiCr, Inconel 600, Fe, SUS304, Mo, Ni, Ti, Ta, 및 Pt 중 적어도 하나를 포함하는, 촉매 화학 증착법을 이용한 초소수성 물질의 박막 제조 장치
18	18 제 13 항에 있어서, 상기 HFPO 가스는, 400mTorr 내지 800mTorr의 분압 및 4sccm 내지 20sccm의 유량을 가지는, 촉매 화학 증착법을 이용한 초소수성 물질의 박막 제조 장치
19	19 제 10 항에 있어서, 상기 초소수성 물질의 박막은, 5분 내지 3시간 동안 증착되는, 촉매 화학 증착법을 이용한 초소수성 물질의 박막 제조 장치
20	20 제 10 항에 있어서, 상기 기판은, 실리콘 기판, 유리 기판, PET 기판, PEN 기판 및 PES 기판을 포함하는, 촉매 화학 증착법을 이용한 초소수성 물질의 박막 제조 장치

순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번	연구부처	주관기관	연구사업	연구과제
1	서울 특별시	경희대학교 산학협력단	서울시 산학연 협력사업	나노공정 기술 및 장비 개발 산학연 혁신 클러스터

본 '원본보기 서비스'는 참고용이므로, 일부 오류 및 누락이 발생할 수 있습니다.
정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송번호의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 통합행정정보 > 등록료란 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서	2010.04.16	수리 (Accepted)	1-1-2010-0244744-33
2	[출원서등 보정]보정서	2010.04.22	수리 (Accepted)	1-1-2010-0257052-51
3	선행기술조사의뢰서	2011.03.10	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
4	선행기술조사보고서	2011.04.11	수리 (Accepted)	9-1-2011-0029831-63
5	의견제출통지서	2012.03.21	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2012-0165454-37
6	거절결정서	2012.10.18	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2012-0621303-26
7	출원인정보변경(경정)신고서	2015.03.09	수리 (Accepted)	4-1-2015-5029677-09
8	출원인정보변경(경정)신고서	2019.08.19	수리 (Accepted)	4-1-2019-5164254-26


과제고유번호	1345136102
세부과제번호	핵06A2803
연구과제명	나노구조광물성연구
성과구분	출원
부처명	교육과학기술부
연구관리전문기관명	한국연구재단
연구주관기관명	경희대학교
성과제출연도	2010
연구기간	200603~201302
기여율	1
연구개발단계명	기초연구
6T분류명	NT(나노기술)

특허성과

[1020100035437]	촉매 화학 증착법을 이용한 초소수성 물질의 박막 제조 방법 및 장치	새창보기

중요키워드

이전대상기술 뷰 페이지 관련기술 표
[KST2014035362][경희대학교 국제캠퍼스]	무촉매 그래핀 성장 방법	새창보기
[KST2017016584][경희대학교 국제캠퍼스]	전이금속 디칼코게나이드 박막 및 그 제조방법(A TRANSITION METAL DICHALCOGENIDE THIN FILM AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME)	새창보기
[KST2015167204][경희대학교 국제캠퍼스]	에이치브이피이법을 이용하여 제조된 피-형 반도체 및 그제조방법	새창보기
[KST2015167006][경희대학교 국제캠퍼스]	일함수 조절막을 구비한 전극 소자	새창보기
[KST2015230844][경희대학교 국제캠퍼스]	그래핀/다공성 실리콘 융복합 나노 구조체를 이용한 포토 다이오드 및 그 제조방법(PHOTO DIODE USING HYBRID STRUCTURE OF GRAPHENE/POROUS SILICON AND METHOD OF MACUFACTURING THE SAME)	새창보기
[KST2017012325][경희대학교 국제캠퍼스]	초박막 배리어 및 그 제조방법(AN ULTRA THIN BARRIER FILM AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME)	새창보기
[KST2017010555][경희대학교 국제캠퍼스]	전이금속 칼코겐 화합물 및 그 제조방법(TRANSITION METAL DICHALCOGENIDES AND METHOD FOR MANUFACTURING OF THE SAME)	새창보기
[KST2014059353][경희대학교 국제캠퍼스]	저주파 ＰＥＡＬＤ 장비를 이용한 플라스틱 기판용 배리어 필름 제조방법	새창보기

의뢰할 수요기술을 선택합니다

담당자명, 주소, 이메일, 연락처, 내용, 파일선택의 정보를 제공하는 도입희망기술 뷰 페이지 의뢰하기 입력표입니다.
담당자명		활동구분※필수입력항목
이메일		연락처	- -
내용
파일선택	파일선택

기술이전 상담신청 드립니다.
기업명
신청자 성명		직책
연락처	- -
이메일	@
상담희망전담센터	※ 사업장(본점) 소재지가 속한 지역의 기술혁신센터를 지정해주세요.