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유리 나노 가공 방법

  • 기술번호 : KST2015168918
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 유리 나노 가공 방법에 관한 것으로, 유리 기판 위에 분자 치환층을 형성하는 분자 치환층 형성 단계와, 유리 기판 위에 가공하고자 하는 형상과 대칭되게 분자 치환층을 패터닝(patterning) 하는 패터닝 단계와, 유리 기판의 결정 원자와 분자 치환층을 이루는 원자를 서로 치환시키는 분자 치환 단계와, 유리 기판으로부터 패터닝된 분자 치환층을 제거하는 분자 치환층 제거 단계, 및 유리 기판에서 분자 치환된 부분의 깊이 조절을 통하여 식각 가공하는 가공 단계를 포함한다. 유리, 나노 가공, 금속막, 분자 치환
Int. CL C03C 17/09 (2006.01.01) C03C 23/00 (2006.01.01) B82Y 40/00 (2017.01.01)
CPC C03C 17/09(2013.01) C03C 17/09(2013.01) C03C 17/09(2013.01) C03C 17/09(2013.01) C03C 17/09(2013.01)
출원번호/일자 1020050064234 (2005.07.15)
출원인 학교법인 포항공과대학교, 포항공과대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0666502-0000 (2007.01.03)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20070109) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.07.15)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 학교법인 포항공과대학교 대한민국 경상북도 포항시 남구
2 포항공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 포항시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김판겸 대한민국 경북 포항시 남구
2 임근배 대한민국 경북 포항시 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 유미특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 서림빌딩 **층 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 학교법인 포항공과대학교 대한민국 경북 포항시 남구
2 포항공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 포항시 남구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2005.07.15 수리 (Accepted) 1-1-2005-0384069-10
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2006.06.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2006.07.11 수리 (Accepted) 9-1-2006-0042617-97
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2006.08.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0482681-90
5 의견서
Written Opinion		 2006.10.23 수리 (Accepted) 1-1-2006-0763736-24
6 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2006.10.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0763737-70
7 등록결정서
Decision to grant		 2006.12.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0753386-15
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2007.12.28 수리 (Accepted) 4-1-2007-5195152-79
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.06.13 수리 (Accepted) 4-1-2013-0025573-58
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5024386-11
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.07.25 수리 (Accepted) 4-1-2019-5149263-30
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.11.20 수리 (Accepted) 4-1-2019-5243581-27
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.11.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5245997-53
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2019-5247115-68
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번호 청구항
1 1
유리 기판 위에 유리 결정 원자보다 결정 원자의 사이즈가 크고, 전하차가 하나 이하인 분자 치환층을 형성하는 분자 치환층 형성 단계, 상기 유리 기판 위에 가공하고자 하는 형상과 대칭되게 상기 분자 치환층을 패터닝(patterning) 하는 패터닝 단계, 상기 유리 기판의 상기 유리 결정 원자와 상기 분자 치환층을 이루는 결정 원자를 서로 치환시키는 분자 치환 단계, 상기 유리 기판으로부터 패터닝된 상기 분자 치환층을 제거하는 분자 치환층 제거 단계, 및상기 유리 기판에서 분자 치환되어 유리 결정 구조가 약화된 부분을 식각하여 가공하는 가공 단계 를 포함하는 유리 나노 가공 방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 분자 치환층 형성 단계에서,상기 분자 치환층은 상기 유리 기판의 결정 원자와 분자 치환이 가능한 금속막으로 이루어지는 유리 나노 가공 방법
3 3
제2항에 있어서, 상기 금속막은, 스퍼터링(sputtering)에 의해 형성되는 유리 나노 가공 방법
4 4
제2항에 있어서, 상기 금속막은, 필라멘트 증착, 전자빔 증착, RF 전력 증착 및 플래쉬 증착 중 어느 하나의 열 증착법에 의해 형성되는 유리 나노 가공 방법
5 5
제4항에 있어서, 상기 유리 기판은 붕규산 유리 기판을 포함하는 유리 나노 가공 방법
6 6
제5항에 있어서, 상기 금속막은 알루미늄인 것을 포함하는 유리 나노 가공 방법
7 7
제1항에 있어서, 상기 분자 치환층 형성 단계에서,상기 분자 치환층은 상기 유리 기판의 결정 원자와 분자 치환이 가능한 비금속막으로 이루어지는 유리 나노 가공 방법
8 8
제7항에 있어서, 상기 비금속막은, 화학 기상 증착법(chemical vapor deposition)에 의해 형성되는 유리 나노 가공 방법
9 9
제1항에 있어서, 상기 패터닝 단계에서, 상기 분자 치환층은 노광, 현상 및 식각 공정에 의해 패터닝되는 유리 나노 가공 방법
10 10
제9항에 있어서, 상기 분자 치환층의 패턴닝 두께와 상기 유리 기판의 가공 깊이가 비례하는 유리 나노 가공 방법
11 11
제 1항에 있어서, 상기 분자 치환 단계는, 상기 유리 기판과 상기 금속막에 열과 전기장을 가하여 분자 치환시키는 유리 나노 가공 방법
12 12
제11항에 있어서, 상기 전기장을 형성하는 전압의 세기와 상기 유리 기판의 가공 깊이가 서로 비례하는 유리 나노 가공 방법
13 13
제11항에 있어서, 상기 열처리 온도와 상기 유리 기판의 가공 깊이가 서로 비례하는 유리 나노 가공 방법
14 14
제11항에 있어서,상기 열처리 온도 및 상기 전기장을 형성하는 전압의 세기의 조합에 의해 상기 유리 기판의 가공 깊이를 조절하는 유리 나노 가공 방법
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