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촉매를 사용하지 않고 전자기파 방사를 통해 기판 위의 박막 증착된 물질로부터 직접 나노와이어를 합성하는 것을 특징으로 하는 나노와이어의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, (a) 박막 증착된 물질을 포함하는 기판을 전자기파 반응기에 인입하는 단계; (b) 상기 반응기 내에 불활성 가스를 주입하여 반응기 내의 잔존 공기를 제거하는 단계; 및 (c) 전자기파를 상기 기판에 박막 증착된 물질에 방사하여 나노와이어를 합성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노와이어의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 박막 증착된 물질이 금속, 금속 산화물, 금속 질화물 또는 금속 황화물인 것을 특징으로 하는 나노와이어의 제조 방법
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제 3 항에 있어서,상기 금속이 금, 티타늄, 니오븀, 알루미늄, 인듐 또는 철을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노와이어의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 박막 증착된 물질이 비금속, 비금속 산화물, 비금속 질화물 또는 비금속 황화물인 것을 특징으로 하는 나노와이어의 제조 방법
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제 5 항에 있어서,상기 비금속이 실리콘 또는 게르마늄을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노와이어의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 불활성 가스가 아르곤, 헬륨 및 네온으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 나노와이어의 제조 방법
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8
제 1 항에 있어서,상기 불활성 가스가 산소, 질소 또는 황화수소와 혼합 사용되는 것을 특징으로 하는 나노와이어의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 기판이 실리콘 기판, SiO2 기판, Al2O3 기판 또는 플라스틱 기판인 것을 특징으로 하는 나노와이어의 제조 방법
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제 9 항에 있어서, 상기 플라스틱 기판이 폴리스티렌 기판, 폴리에틸렌 기판 또는 폴리테트라플루오로에틸렌 기판인 것을 특징으로 하는 나노와이어의 제조 방법
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제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조된 나노와이어
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제 11 항에 있어서,상기 나노와이어가 금속 나노와이어, 금속 산화물 나노와이어, 금속 질화물 나노와이어 또는 금속 황화물 나노와이어인 것을 특징으로 하는 나노와이어
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제 12 항에 있어서,상기 금속이 크롬, 티타늄, 금, 니오븀, 알루미늄, 인듐 또는 철인 것을 특징으로 하는 나노와이어
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제 11 항에 있어서,상기 나노와이어가 비금속 나노와이어, 비금속 산화물 나노와이어, 비금속 질화물 나노와이어 또는 비금속 황화물 나노와이어인 것을 특징으로 하는 나노와이어
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제 14 항에 있어서,상기 비금속이 실리콘 또는 게르마늄인 것을 특징으로 하는 나노와이어
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