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a) 반응용매에 이산화티탄의 전구체가 첨가된 반응용액을 졸-겔 반응온도로 승온하는 단계, b) 상기 반응용매를 제거하면서, 상기 반응용액에 산 촉매를 첨가하여 졸-겔 반응을 수행하여 이산화티탄 졸을 제조하는 단계, 및 c) 상기 이산화티탄 졸을 건조한 후 분산용매에 재 분산하는 단계를 포함하는 이산화티탄 졸의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 b)의 졸-겔 반응 및 반응용매의 제거는 70 내지 95 ℃에서 수행하는 것인 이산화티탄 졸의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 c)의 건조는 95 ℃ 이하에서 수행하는 것인 이산화티탄 졸의 제조방법
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제 3항에 있어서, 상기 c)의 건조는 동결건조, 상압 건조, 또는 진공건조 방법으로 진행되는 것인 이산화티탄 졸의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 반응용매의 제거는 반응기 외부로 기화된 반응용매를 제거하도록 수행하는 것인 이산화티탄 졸의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 반응용매의 제거는 감압 하에서 수행하는 것인 이산화티탄 졸의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 반응용매 및 분산용매는 서로 같거나 다른 것으로, 물; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로필알콜, 부틸알콜, 이소부틸알콜의 C1 내지 C5의 저급 알코올; 폴리비닐 알코올의 고급 알코올; 헥실렌글리콜; 및 아세틸아세톤으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 이산화티탄 졸의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 이산화티탄 전구체는 테트라 에톡시티탄(Tetraethoxy titanium, TEOT), 테트라 이소프로폭시티탄(Tetraisopropoxy titanium, TIPT), 테트라 부톡시티탄(Tetrabutoxy titanium, TBOT)을 포함하는 티타늄 알콕사이드, 사염화티탄(Titanyl chloride, TiCl4), 황산티탄(Titanyl sulfate, Ti(SO4)2), 및 옥시황산티탄(Titanyl oxysulfate, TiO(SO4))으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것인 이산화티탄 졸의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 산 촉매는 질산, 황산, 염산 및 초산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 것인 이산화티탄 졸의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 산 촉매는 이산화티탄 100 중량부에 대하여 11 내지 30 중량부로 첨가되는 것인 이산화티탄 졸의 제조방법
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제 1항에 있어서, 단계 a)에서 추가로 NaCl, KCl, NaBr 및 KBr로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 무기염; 또는 소디엄 도데실 설패이트(Sodiumdodecylsulphate, SDS), 세틸 트리메틸 암모늄 브로마이드(cetyltrimethylammonium bromide, CTAB), 및 세틸 트리메틸 암모늄 클로라이드(cetyltrimethyl ammonium chloride, CTAC)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 계면활성제를 첨가하는 것인 이산화티탄 졸의 제조방법
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제 11항에 있어서, 상기 무기염 또는 계면활성제는 이산화티탄 100 중량부에 대해 1 내지 10 중량부로 사용하는 것인 이산화티탄 졸의 제조방법
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제 1항의 제조방법에 의해 제조되며, 평균입경 200 nm 이하의 이산화티탄 2차 입자를 포함하는 이산화티탄 졸
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제13항에 있어서, 상기 이산화티탄 2차 입자는 평균입경 1 내지 20 nm인 이산화티탄 1차 입자를 둘 이상 포함하는 것인 이산화티탄 졸
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제14항에 있어서,상기 이산화티탄 1차 입자는 아나타제 또는 루타일의 결정성인 것인 이산화티탄 졸
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제13항에 있어서,상기 이산화티탄 졸은 고형분의 함량이 8 내지 50 중량%인 이산화티탄 졸
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제13항에 있어서,상기 이산화티탄 2차 입자의 입경의 분산성은 표준편차 0
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제12항의 이산화티탄 졸을 10 내지 70 중량%로 포함하는 중굴절 및 고굴절 코팅막용 피복 조성물
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제18항에 있어서,상기 중굴절 및 고굴절 코팅막은 안경, 산업 안전경, 레져용 고글에 적용되는 것인 피복 조성물
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