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마스크 검사 장치 및 방법

  • 기술번호 : KST2015169032
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 마스크 검사 장치 및 방법에 관한 것으로, 마스크의 투과광 이미지와 반사광 이미지에 신호처리 기법을 적용해 이진 형태의 결점 이미지를 얻어서 결점의 존재 여부를 판정함으로써 결함 판정의 높은 신뢰성을 제공하며, 마스크의 결점에 대응하여 적절한 조치를 취할 수 있도록 하는 선행 절차인 결점 분류까지 자동화를 구현하여 결점 분류의 편리성과 신뢰성을 제공하고, 결점의 존재 여부, 결점을 구성하는 물질의 종류, 결점에 의해 마스크 패턴이 변형된 정도, 결점의 크기, 마스크 패턴에서 부분적인 평행 이동의 여부 등과 같이 다양한 결점 분류 기준을 통해 마스크의 결점을 다양하게 분류함으로써 결점을 발생시키는 원인을 밝히는데 유리한 환경을 제공하여 보다 쉽게 적절한 조치를 취할 수 있도록 하는 이점이 있다.마스크 패턴, 결점 검사, 결점 분류
Int. CL H01L 21/027 (2006.01) H01L 21/66 (2006.01)
CPC H01L 22/30(2013.01) H01L 22/30(2013.01) H01L 22/30(2013.01) H01L 22/30(2013.01) H01L 22/30(2013.01)
출원번호/일자 1020070063044 (2007.06.26)
출원인 포항공과대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0883505-0000 (2009.02.05)
공개번호/일자 10-2008-0113963 (2008.12.31) 문서열기
공고번호/일자 (20090216) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.06.26)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 포항공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 포항시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정홍 대한민국 경상북도 포항시 남구
2 하영민 대한민국 경북 포항시 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 장성구 대한민국 서울특별시 서초구 마방로 ** (양재동, 동원F&B빌딩)(제일특허법인(유))
2 김원준 대한민국 서울특별시 서초구 마방로 ** (양재동, 동원F&B빌딩)(제일특허법인(유))

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 포항공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 포항시 남구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2007.06.26 수리 (Accepted) 1-1-2007-0464426-30
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2007.12.28 수리 (Accepted) 4-1-2007-5195152-79
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2008.06.19 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2008.07.10 수리 (Accepted) 9-1-2008-0041244-61
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2008.09.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0500749-98
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2008.12.01 수리 (Accepted) 1-1-2008-0827128-33
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2008.12.01 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0827127-98
8 등록결정서
Decision to grant		 2009.01.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0039979-24
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.06.13 수리 (Accepted) 4-1-2013-0025573-58
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5024386-11
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.11.20 수리 (Accepted) 4-1-2019-5243581-27
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.11.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5245997-53
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2019-5247115-68
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번호 청구항
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참조 투과광 이미지와 테스트 투과광 이미지의 픽셀 차에 대해 절댓값을 취한 후에 문턱 값을 적용해 문턱 값보다 크거나 같은 픽셀을 1로 만들고 문턱 값보다 작은 픽셀을 0으로 만든 결점 투과광 이미지를 제공하는 제 1 결점 추출부와,참조 반사광 이미지와 테스트 반사광 이미지의 픽셀 차에 대해 절댓값을 취한 후에 문턱 값을 적용해 문턱 값보다 크거나 같은 픽셀을 1로 만들고 문턱 값보다 작은 픽셀을 0으로 만든 결점 반사광 이미지를 제공하는 제 2 결점 추출부와,상기 결점 투과광 이미지 또는 상기 결점 반사광 이미지에서 픽셀 값 1이 존재하는지의 여부에 따라 결점의 존재 여부를 판단하는 결점 판단부와,상기 결점 판단부에 의해 상기 결점이 존재하는 것으로 판단되면 상기 결점 투과광 이미지 또는 상기 결점 반사광 이미지를 사용하여 상기 결점을 구성하는 물질의 종류, 상기 결점에 의해 마스크 패턴이 변형된 정도, 상기 결점의 크기, 상기 마스크 패턴에서 부분적인 평행이동의 여부 중에서 적어도 어느 하나의 기준에 따라 상기 결점을 분류하는 결점 분류부를 포함하며,상기 결점 분류부는, 상기 결점이 점의 형태인 경우, 상기 결점이 확장된 경우, 상기 마스크 패턴이 결점에 의해 서로 붙은 경우를 포함하는 복수 종류로 분류하는 패턴 변형도 분류기를 포함하는 마스크 검사 장치
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제 5 항에 있어서,상기 결점 분류부는, 상기 결점을 구성하는 물질의 종류를 파악하여 상기 결점을 구성하는 물질을 금속, 비금속, 이물을 포함하는 복수 종류로 분류하는 물질 종류 분류기를 더 포함하며,상기 패턴 변형도 분류기는, 상기 물질 종류 분류기에 의해 상기 결점을 구성하는 물질을 상기 금속 또는 상기 비금속으로 분류한 경우에 상기 결점을 분류하는마스크 검사 장치
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참조 투과광 이미지와 테스트 투과광 이미지의 픽셀 차에 대해 절댓값을 취한 후에 문턱 값을 적용해 문턱 값보다 크거나 같은 픽셀을 1로 만들고 문턱 값보다 작은 픽셀을 0으로 만든 결점 투과광 이미지를 제공하는 제 1 결점 추출부와,참조 반사광 이미지와 테스트 반사광 이미지의 픽셀 차에 대해 절댓값을 취한 후에 문턱 값을 적용해 문턱 값보다 크거나 같은 픽셀을 1로 만들고 문턱 값보다 작은 픽셀을 0으로 만든 결점 반사광 이미지를 제공하는 제 2 결점 추출부와,상기 결점 투과광 이미지 또는 상기 결점 반사광 이미지에서 픽셀 값 1이 존재하는지의 여부에 따라 결점의 존재 여부를 판단하는 결점 판단부와,상기 결점 판단부에 의해 상기 결점이 존재하는 것으로 판단되면 상기 결점 투과광 이미지 또는 상기 결점 반사광 이미지를 사용하여 상기 결점을 구성하는 물질의 종류, 상기 결점에 의해 마스크 패턴이 변형된 정도, 상기 결점의 크기, 상기 마스크 패턴에서 부분적인 평행이동의 여부 중에서 적어도 어느 하나의 기준에 따라 상기 결점을 분류하는 결점 분류부를 포함하며,상기 결점 분류부는, 상기 결점을 크기에 따라 분류하는 결점 크기 분류기를 포함하는 마스크 검사 장치
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참조 투과광 이미지와 테스트 투과광 이미지의 픽셀 차에 대해 절댓값을 취한 후에 문턱 값을 적용해 문턱 값보다 크거나 같은 픽셀을 1로 만들고 문턱 값보다 작은 픽셀을 0으로 만든 결점 투과광 이미지를 제공하는 제 1 결점 추출부와,참조 반사광 이미지와 테스트 반사광 이미지의 픽셀 차에 대해 절댓값을 취한 후에 문턱 값을 적용해 문턱 값보다 크거나 같은 픽셀을 1로 만들고 문턱 값보다 작은 픽셀을 0으로 만든 결점 반사광 이미지를 제공하는 제 2 결점 추출부와,상기 결점 투과광 이미지 또는 상기 결점 반사광 이미지에서 픽셀 값 1이 존재하는지의 여부에 따라 결점의 존재 여부를 판단하는 결점 판단부와,상기 결점 판단부에 의해 상기 결점이 존재하는 것으로 판단되면 상기 결점 투과광 이미지 또는 상기 결점 반사광 이미지를 사용하여 상기 결점을 구성하는 물질의 종류, 상기 결점에 의해 마스크 패턴이 변형된 정도, 상기 결점의 크기, 상기 마스크 패턴에서 부분적인 평행이동의 여부 중에서 적어도 어느 하나의 기준에 따라 상기 결점을 분류하는 결점 분류부를 포함하며,상기 결점 분류부는, 상기 마스크 패턴의 부분적인 평행이동 여부를 판단하여 상기 결점을 분류하는 평행이동 분류기를 포함하는 마스크 검사 장치
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참조 투과광 이미지와 테스트 투과광 이미지의 픽셀 차에 대해 절댓값을 취한 후에 문턱 값을 적용해 문턱 값보다 크거나 같은 픽셀을 1로 만들고 문턱 값보다 작은 픽셀을 0으로 만든 결점 투과광 이미지를 제공하는 제 1 결점 추출부와,참조 반사광 이미지와 테스트 반사광 이미지의 픽셀 차에 대해 절댓값을 취한 후에 문턱 값을 적용해 문턱 값보다 크거나 같은 픽셀을 1로 만들고 문턱 값보다 작은 픽셀을 0으로 만든 결점 반사광 이미지를 제공하는 제 2 결점 추출부와,상기 결점 투과광 이미지 또는 상기 결점 반사광 이미지에서 픽셀 값 1이 존재하는지의 여부에 따라 결점의 존재 여부를 판단하는 결점 판단부와,상기 결점 판단부에 의해 상기 결점이 존재하는 것으로 판단되면 상기 결점 투과광 이미지 또는 상기 결점 반사광 이미지를 사용하여 상기 결점을 구성하는 물질의 종류, 상기 결점에 의해 마스크 패턴이 변형된 정도, 상기 결점의 크기, 상기 마스크 패턴에서 부분적인 평행이동의 여부 중에서 적어도 어느 하나의 기준에 따라 상기 결점을 분류하는 결점 분류부와,상기 결점 분류부의 분류 결과들에 각각 대응하여 정의된 분류코드들을 가지는 분류코드 테이블이 저장된 분류코드 저장부와,상기 결점 분류부에 의한 분류 결과에 대응하는 분류코드를 상기 분류코드 저장부로부터 추출하여 해당 분류 결과에 부여하는 분류코드 부여부를 포함하는 마스크 검사 장치
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(a) 참조 투과광 이미지와 테스트 투과광 이미지의 픽셀 차에 대해 절댓값을 취한 후에 문턱 값을 적용해 문턱 값보다 크거나 같은 픽셀을 1로 만들고 문턱 값보다 작은 픽셀을 0으로 만든 결점 투과광 이미지를 획득하는 단계와,(b) 참조 반사광 이미지와 테스트 반사광 이미지의 픽셀 차에 대해 절댓값을 취한 후에 문턱 값을 적용해 문턱 값보다 크거나 같은 픽셀을 1로 만들고 문턱 값보다 작은 픽셀을 0으로 만든 결점 반사광 이미지를 획득하는 단계와,(c) 상기 결점 투과광 이미지 또는 상기 결점 반사광 이미지에서 픽셀 값 1이 존재하는지의 여부에 따라 결점의 존재 여부를 판단하는 단계와,(d) 상기 (c) 단계에 의해 상기 결점이 존재하는 것으로 판단되면 상기 결점 투과광 이미지 또는 상기 결점 반사광 이미지를 사용하여 상기 결점을 구성하는 물질의 종류, 상기 결점에 의해 마스크 패턴이 변형된 정도, 상기 결점의 크기, 상기 마스크 패턴에서 부분적인 평행이동의 여부 중에서 적어도 어느 하나의 기준에 따라 상기 결점을 분류하는 단계를 포함하며,상기 (d) 단계는, (d21) 상기 결점 이미지에 팽창 연산을 한 후 상기 결점 이미지를 빼서 결점 둘레 이미지를 획득하는 단계와,(d22) 상기 참조 투과광 이미지 또는 상기 참조 반사광 이미지에 세그먼테이션을 적용해 이진 참조 이미지를 획득하는 단계와,(d23) 상기 결점 둘레 이미지에서 픽셀 값이 1인 픽셀을 상기 이진 참조 이미지의 값으로 대체한 이미지를 획득한 후에 이 획득한 대체 이미지에서 금속을 나타내는 픽셀과 비금속을 나타내는 픽셀이 만나는 점의 수를 계수하는 단계와,(d24) 상기 (d23) 단계에서 계수한 점의 수에 근거하여 상기 마스크 패턴의 변형된 정도를 분류하는 단계를 포함하는 마스크 검사 방법
15 15
제 14 항에 있어서,상기 (d24) 단계는, 상기 계수한 점의 수가 0이나 1이면 상기 결점은 점의 형태이고, 상기 계수한 점의 수가 2나 3이면 상기 결점은 확장된 경우이며, 상기 계수한 점의 수가 4이상이면 상기 마스크 패턴이 상기 결점에 의해 서로 붙은 경우로 분류하는마스크 검사 방법
16 16
제 14 항에 있어서,상기 (d22) 단계는, 상기 참조 투과광 이미지와 상기 참조 반사광 이미지 중에서 상기 (d) 단계의 상기 결점 이미지로 사용한 이미지에 대응하는 이미지를 사용하는마스크 검사 방법
17 17
(a) 참조 투과광 이미지와 테스트 투과광 이미지의 픽셀 차에 대해 절댓값을 취한 후에 문턱 값을 적용해 문턱 값보다 크거나 같은 픽셀을 1로 만들고 문턱 값보다 작은 픽셀을 0으로 만든 결점 투과광 이미지를 획득하는 단계와,(b) 참조 반사광 이미지와 테스트 반사광 이미지의 픽셀 차에 대해 절댓값을 취한 후에 문턱 값을 적용해 문턱 값보다 크거나 같은 픽셀을 1로 만들고 문턱 값보다 작은 픽셀을 0으로 만든 결점 반사광 이미지를 획득하는 단계와,(c) 상기 결점 투과광 이미지 또는 상기 결점 반사광 이미지에서 픽셀 값 1이 존재하는지의 여부에 따라 결점의 존재 여부를 판단하는 단계와,(d) 상기 (c) 단계에 의해 상기 결점이 존재하는 것으로 판단되면 상기 결점 투과광 이미지 또는 상기 결점 반사광 이미지를 사용하여 상기 결점을 구성하는 물질의 종류, 상기 결점에 의해 마스크 패턴이 변형된 정도, 상기 결점의 크기, 상기 마스크 패턴에서 부분적인 평행이동의 여부 중에서 적어도 어느 하나의 기준에 따라 상기 결점을 분류하는 단계를 포함하며,상기 (d) 단계는, 상기 결점 이미지에서 픽셀 값이 1인 픽셀이 차지하는 영역의 크기에 문턱 값을 적용하여 결점의 크기가 큰 이미지와 결점의 크기가 작은 이미지로 분류하는마스크 검사 방법
18 18
(a) 참조 투과광 이미지와 테스트 투과광 이미지의 픽셀 차에 대해 절댓값을 취한 후에 문턱 값을 적용해 문턱 값보다 크거나 같은 픽셀을 1로 만들고 문턱 값보다 작은 픽셀을 0으로 만든 결점 투과광 이미지를 획득하는 단계와,(b) 참조 반사광 이미지와 테스트 반사광 이미지의 픽셀 차에 대해 절댓값을 취한 후에 문턱 값을 적용해 문턱 값보다 크거나 같은 픽셀을 1로 만들고 문턱 값보다 작은 픽셀을 0으로 만든 결점 반사광 이미지를 획득하는 단계와,(c) 상기 결점 투과광 이미지 또는 상기 결점 반사광 이미지에서 픽셀 값 1이 존재하는지의 여부에 따라 결점의 존재 여부를 판단하는 단계와,(d) 상기 (c) 단계에 의해 상기 결점이 존재하는 것으로 판단되면 상기 결점 투과광 이미지 또는 상기 결점 반사광 이미지를 사용하여 상기 결점을 구성하는 물질의 종류, 상기 결점에 의해 마스크 패턴이 변형된 정도, 상기 결점의 크기, 상기 마스크 패턴에서 부분적인 평행이동의 여부 중에서 적어도 어느 하나의 기준에 따라 상기 결점을 분류하는 단계를 포함하며,상기 (d) 단계는, (d31) 상기 참조 투과광 이미지 또는 상기 참조 반사광 이미지에 세그먼테이션을 적용해 이진 참조 이미지를 획득하는 단계와,(d32) 상기 테스트 투과광 이미지 또는 상기 테스트 반사광 이미지에 세그먼테이션을 적용해 이진 테스트 이미지를 획득하는 단계와,(d33) 상기 이진 참조 이미지와 상기 이진 테스트 이미지의 각 라인별로 평행이동 여부를 검사하여 이미지 전체에 부분적인 평행이동이 있는지를 판별하는 단계를 포함하는 마스크 검사 방법
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제 18 항에 있어서,상기 (d33) 단계는, 상기 각 라인별로 평행이동을 시켰을 때와 안 시켰을 때의 해밍 거리를 비교해 해당 라인에 평행이동이 있는지를 판별하는마스크 검사 방법
20 20
제 19 항에 있어서,상기 (d33) 단계는, 상기 결점 이미지에서 결점이 있는 부분의 수직 라인과 수평 라인에 적용한 후 이 결과를 바탕으로 상기 이미지 전체에 부분적인 평행이동이 있는지를 판별하는마스크 검사 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.